JPH04181255A - 画像形成方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は印刷版等の製造に供される画像形成方法に関μ
詳しくは光重合性組成物をパターン状に重合させて未
重合部または重合部を剥離除去することにより画像を形
成する剥離現像方式の画像形成方法に関する。
詳しくは光重合性組成物をパターン状に重合させて未
重合部または重合部を剥離除去することにより画像を形
成する剥離現像方式の画像形成方法に関する。
剥離現像方式の画像形成方法に用いられる画像形成体と
して、例えば特開昭55−50246号公報に開示され
るようく 銀塩等を含む熱現像製感光性組成物層、剥離
現像を光重合性組成物層、剥離フィルム、支持体等から
なるものが知られている。熱現像量感光性組成物は露光
及び加熱により像形成できるものである。
して、例えば特開昭55−50246号公報に開示され
るようく 銀塩等を含む熱現像製感光性組成物層、剥離
現像を光重合性組成物層、剥離フィルム、支持体等から
なるものが知られている。熱現像量感光性組成物は露光
及び加熱により像形成できるものである。
このような画像形成体を用いた画像形成方法で鷹 画像
形成体を製版カメラに取り付け、原稿、レンズおよび画
像形成体のそれぞれの距離を設定味 画像露光を行い、
画像形成体を加熱して銀画像を形成し この銀画像をマ
スクとして画像形成体を全面露光したのち、剥離現像を
行う。このようにして支持体上に原稿画像に対応して露
光8tLS重合硬化した光重合性組成物層からなる画像
が形成される。
形成体を製版カメラに取り付け、原稿、レンズおよび画
像形成体のそれぞれの距離を設定味 画像露光を行い、
画像形成体を加熱して銀画像を形成し この銀画像をマ
スクとして画像形成体を全面露光したのち、剥離現像を
行う。このようにして支持体上に原稿画像に対応して露
光8tLS重合硬化した光重合性組成物層からなる画像
が形成される。
上記方法において1戴 剥離フィルムを剥離するときに
、光重合性組成物層の画像部(画像として支持体上に残
るべき部分)が剥離されたり、非画像部(剥幕 除去さ
れるべき部分)が支持体上に残ってしまったり慝 良好
な画像をけいせいできないことがありへ 剥離フィルムの剥離をスムーズに行うため&ミ特開明5
8−53882号公報に檄 剥離境界線を連続したI[
線状パターンの方向に対して斜めに交差させる技術が示
されている。ここで剥離境界線は互いに接着した2枚の
シート状物を剥離する際の、剥離した部分と未剥離の部
分との境界線のことである。
、光重合性組成物層の画像部(画像として支持体上に残
るべき部分)が剥離されたり、非画像部(剥幕 除去さ
れるべき部分)が支持体上に残ってしまったり慝 良好
な画像をけいせいできないことがありへ 剥離フィルムの剥離をスムーズに行うため&ミ特開明5
8−53882号公報に檄 剥離境界線を連続したI[
線状パターンの方向に対して斜めに交差させる技術が示
されている。ここで剥離境界線は互いに接着した2枚の
シート状物を剥離する際の、剥離した部分と未剥離の部
分との境界線のことである。
しかしながら、上記従来技術で1戯 画像が連続した直
線で、かつ一定方向に平行な線状のパターンで構成され
ている場合には有効だが、パターンに曲線や互いに交差
する直線が混在する場合には剥離がスムーズに行えず、
良好な画像は得られな〔課題を解決するための手段〕 本発明IL 支持体上に光重合性組成物を含有する光
重合層と剥離フィルムとをこの順に有する画像形成体へ
光重合性組成物に感光性を有する活性光線をパターン
状に照射することにより光重合層をパターン状に重合さ
せる工橡 および剥離フィルムを支持体から剥離するこ
とにより、支持体上に光重合層の重合部または未重合部
からなる画像を得る工程を有する画像形成方法において
、前記パターンを複数のドツトの集合体で構成し 各ド
ツトを一方向に長くこの方向と直行する方向に短い形状
とし 各ドツトを平行に配列獣 かつ剥離フィルムを剥
離する際に前記一方向に沿って剥離することを特徴とす
る画像形成方法である。
線で、かつ一定方向に平行な線状のパターンで構成され
ている場合には有効だが、パターンに曲線や互いに交差
する直線が混在する場合には剥離がスムーズに行えず、
良好な画像は得られな〔課題を解決するための手段〕 本発明IL 支持体上に光重合性組成物を含有する光
重合層と剥離フィルムとをこの順に有する画像形成体へ
光重合性組成物に感光性を有する活性光線をパターン
状に照射することにより光重合層をパターン状に重合さ
せる工橡 および剥離フィルムを支持体から剥離するこ
とにより、支持体上に光重合層の重合部または未重合部
からなる画像を得る工程を有する画像形成方法において
、前記パターンを複数のドツトの集合体で構成し 各ド
ツトを一方向に長くこの方向と直行する方向に短い形状
とし 各ドツトを平行に配列獣 かつ剥離フィルムを剥
離する際に前記一方向に沿って剥離することを特徴とす
る画像形成方法である。
本発明では光学的手段により光重合体層に複数のドツト
(光重合層の重合部分あるいは未重合部分であって支持
体上に残るべき部分からなる)の集合体からなるパター
ンを形成するが、このドツトを長方形や楕円形のように
一方向に長い、方向性を有するものと獣 かつその方向
を揃え、さらに剥離フィルムを剥離する方向を画素の長
手方向とする。剥離フィルムを剥す際には支持体上に残
るべき部分にも、それを剥すような力が加わるが、上記
のようにすることにより、この力の影響を軽減すること
ができ、したがってドツトが崩れず、パターンが壊れに
くくなり、高品位な画像を形成することができる。第1
図には画像を形成するために画像形成体に露光したドツ
ト20を長方形とした場合の剥離フィルムの剥離方向を
示す。剥離境界線13はドツトの長手方向とは直行する
ことになる。
(光重合層の重合部分あるいは未重合部分であって支持
体上に残るべき部分からなる)の集合体からなるパター
ンを形成するが、このドツトを長方形や楕円形のように
一方向に長い、方向性を有するものと獣 かつその方向
を揃え、さらに剥離フィルムを剥離する方向を画素の長
手方向とする。剥離フィルムを剥す際には支持体上に残
るべき部分にも、それを剥すような力が加わるが、上記
のようにすることにより、この力の影響を軽減すること
ができ、したがってドツトが崩れず、パターンが壊れに
くくなり、高品位な画像を形成することができる。第1
図には画像を形成するために画像形成体に露光したドツ
ト20を長方形とした場合の剥離フィルムの剥離方向を
示す。剥離境界線13はドツトの長手方向とは直行する
ことになる。
まず初めに本発明で用いることのできる画像形成体につ
いて説明する。
いて説明する。
本発明で使用できるil像形成体憾 第10図に示すよ
うく 熱現像型感光性組成物を含む感光層2と剥離現像
型光重合性組成物を含む光重合層4とを別々に有する多
層構成でも良いし 第11図に示すようく 熱現像製感
光性組成物と光重合性組成物とを間方含む複合層4゛
を有する単層構成でもよい。
うく 熱現像型感光性組成物を含む感光層2と剥離現像
型光重合性組成物を含む光重合層4とを別々に有する多
層構成でも良いし 第11図に示すようく 熱現像製感
光性組成物と光重合性組成物とを間方含む複合層4゛
を有する単層構成でもよい。
第10図において、保護フィルムlは感光層2を保護す
るためのフィルムであり、剥離フィルム3は光重合層の
非画像部をこれと共に除去するためのものである。第1
1図のような単層構成の場合には剥離フィルムで保護フ
ィルムをかねることができる。支持体5は全体を支持す
るためのものである。
るためのフィルムであり、剥離フィルム3は光重合層の
非画像部をこれと共に除去するためのものである。第1
1図のような単層構成の場合には剥離フィルムで保護フ
ィルムをかねることができる。支持体5は全体を支持す
るためのものである。
またハレーション防止や接着性の改善のため番ミハレー
ション防止用染料やポリマーバインダ等を含有する下引
き層を設けてもよい。
ション防止用染料やポリマーバインダ等を含有する下引
き層を設けてもよい。
保護フィルムおよび剥離フィルムに(戴 ポリエチレン
テレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、セロ
ファン、ポリイミド、6.6−ナイロン、ポリスチレン
等の各種プラスチックフィルムや、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール等の樹脂類が使用でき、さら
にこれらの2種以上からなる複合材料も使用できる。
テレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、セロ
ファン、ポリイミド、6.6−ナイロン、ポリスチレン
等の各種プラスチックフィルムや、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール等の樹脂類が使用でき、さら
にこれらの2種以上からなる複合材料も使用できる。
熱現像型感光性組成物は少なくとも感光性ハロゲン化銀
、有機銀塩および特定の還元剤を含有し光重合層は少な
くとも重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含む
。
、有機銀塩および特定の還元剤を含有し光重合層は少な
くとも重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含む
。
熱現像型感光性組成物に含有されるハロゲン化銀として
頃 写真技術等において公知のハロゲン化銀を用いるこ
とができ、例えば塩化銀、臭化銀、沃化銀、塩臭化銀、
塩沃化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀のいずれも用いること
ができる。
頃 写真技術等において公知のハロゲン化銀を用いるこ
とができ、例えば塩化銀、臭化銀、沃化銀、塩臭化銀、
塩沃化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀のいずれも用いること
ができる。
ハロゲン化銀粒子のハロゲン組成憾 表面と内部が均一
であっても不均一であってもよい。ハロゲン化銀の粒子
サイズは平均粒径が0001μmから10μmが好まし
く、0001μmから5μmが更に好ましい。
であっても不均一であってもよい。ハロゲン化銀の粒子
サイズは平均粒径が0001μmから10μmが好まし
く、0001μmから5μmが更に好ましい。
これらは通常の写真乳剤に対して行われるような化学増
感 光学増感が施されていてもよい。つまり、化学増感
として鷹 硫黄増水 貴金属増感還元増感などを用いる
ことができ、光学増感として鷹 シアニン色黒 メロシ
アニン色素等の光学増感色素を用いた方法などを適用で
きる。
感 光学増感が施されていてもよい。つまり、化学増感
として鷹 硫黄増水 貴金属増感還元増感などを用いる
ことができ、光学増感として鷹 シアニン色黒 メロシ
アニン色素等の光学増感色素を用いた方法などを適用で
きる。
有機銀塩として+L 脂肪族カルボン酸、芳香族カル
ボン酸、メルカプト基またはα−水素を有するチオカル
ボニル基化合執 もしくはイミノ基含有化合物などの銀
塩が使用できる。
ボン酸、メルカプト基またはα−水素を有するチオカル
ボニル基化合執 もしくはイミノ基含有化合物などの銀
塩が使用できる。
脂肪族カルボン酸として代 酢酸、酪酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノール酸、リル
ン酸、酒石酸、パルミチン隈ステアリン酸、ベヘン酸、
樟脳酸などがあるが、−船釣に炭素数が少ない樵 銀塩
としては不安定であるため、適度な炭素数を有するもの
がよい。
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノール酸、リル
ン酸、酒石酸、パルミチン隈ステアリン酸、ベヘン酸、
樟脳酸などがあるが、−船釣に炭素数が少ない樵 銀塩
としては不安定であるため、適度な炭素数を有するもの
がよい。
芳香族カルボン酸としてff、 安息香酸誘導倣キノ
リン酸誘導倣 ナフタレンカルボン酸誘導倣すリチル酸
誘導木 没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢
酸誘導法 ピロメリット酸などがある。
リン酸誘導倣 ナフタレンカルボン酸誘導倣すリチル酸
誘導木 没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢
酸誘導法 ピロメリット酸などがある。
メルカプト又はα−水素を有するチオカルボニル基を有
する化合物として(戴 3−メチルカプト−4−フェニ
ル−1,2,4−1−リアゾール、2−メルカプトベン
ゾイミダゾール、2−メルカプト−5−アミノチアジア
ゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキ
ルチオグリコール酸(アルキル基炭素数12〜22)、
ジチオ酢酸などジチオカルボン酸乳 チオステアロアミ
ドなどチオアミド瓜5− カルボキシ−1−メチル−
2−フェニル−4−チオピリジン、メルカプトトリアジ
ン、2−メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトオ
キサジアゾール又は3−アミノ−5−ベンジルチオ−1
,2,4−)リアゾールなど米国特許第4.123.2
74号記載のメルカプト化合物などが挙げられる。
する化合物として(戴 3−メチルカプト−4−フェニ
ル−1,2,4−1−リアゾール、2−メルカプトベン
ゾイミダゾール、2−メルカプト−5−アミノチアジア
ゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキ
ルチオグリコール酸(アルキル基炭素数12〜22)、
ジチオ酢酸などジチオカルボン酸乳 チオステアロアミ
ドなどチオアミド瓜5− カルボキシ−1−メチル−
2−フェニル−4−チオピリジン、メルカプトトリアジ
ン、2−メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトオ
キサジアゾール又は3−アミノ−5−ベンジルチオ−1
,2,4−)リアゾールなど米国特許第4.123.2
74号記載のメルカプト化合物などが挙げられる。
イミノ基を有する化合物として哄 特公昭44−302
70号又は同45−18416号記載のベンゾトリアゾ
ールもしくはその誘導法 例えばベンゾトリアゾール、
メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾイミ
ダゾール凱 5−クロロベンゾトリアゾールなどのハロ
ゲン置換ベンゾイミダゾール気 ブチルカルボイミドベ
ンゾトリアゾールなどのカルボイミドベンゾトリアゾー
ル漿 特開昭58−118639号記載のニトロベンゾ
トリアゾール漿特開昭58−115638号記載のスル
ホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール
もしくはその塩、又はヒドロキシベンゾトリアゾールな
ど、米国特許4.220.709号記載の1.2.4−
トリアゾールやIH−テトラゾール、カルバゾール、サ
ッカリン、イミダゾールおよびその誘導体などが代表例
として挙げられる。
70号又は同45−18416号記載のベンゾトリアゾ
ールもしくはその誘導法 例えばベンゾトリアゾール、
メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾイミ
ダゾール凱 5−クロロベンゾトリアゾールなどのハロ
ゲン置換ベンゾイミダゾール気 ブチルカルボイミドベ
ンゾトリアゾールなどのカルボイミドベンゾトリアゾー
ル漿 特開昭58−118639号記載のニトロベンゾ
トリアゾール漿特開昭58−115638号記載のスル
ホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール
もしくはその塩、又はヒドロキシベンゾトリアゾールな
ど、米国特許4.220.709号記載の1.2.4−
トリアゾールやIH−テトラゾール、カルバゾール、サ
ッカリン、イミダゾールおよびその誘導体などが代表例
として挙げられる。
還元剤として告 感光性ハロゲン化銀上の銀潜像を触媒
として有機銀塩等との加熱下での酸化還元反応で銀を生
成し 生成した銀像により光重合層中の光重合開始剤の
吸収波長域の光を吸収し透過光量を減少させる働きを持
つものや、同じように酸化還元反応で生成した酸化体が
光重合開始剤の吸収波長域の光を吸収する働きを持つも
のがよい。
として有機銀塩等との加熱下での酸化還元反応で銀を生
成し 生成した銀像により光重合層中の光重合開始剤の
吸収波長域の光を吸収し透過光量を減少させる働きを持
つものや、同じように酸化還元反応で生成した酸化体が
光重合開始剤の吸収波長域の光を吸収する働きを持つも
のがよい。
本発明に使用可能な還元剤として6戴[写真光学の基弘
非銀塩ILp250Jに記載された還元剤や、−次発
色現像生麩 二次発色現像主薬などが使用できる。これ
らは例え6戴 フェノール漿 ハイドロキノン瓜 カ
テコール瓜p−アミノフェノール、p−置換アミノフェ
ノールfLp−フェニレンジアミン類、3−ピラゾリド
ン類などの他く レゾルシン類、ピロガロール類、0−
アミノフェノール類、m−アミノフェノール類、m−フ
ェニレンジアミン類、5−ピラゾロン瓜 アルキルフェ
ノール翫アルコキシフェノール瓜 ナフトール瓜 アミ
ノナフトール瓜 ナフタレンジオール漿 アルコキシナ
フトール気 ヒドラジン漿 ヒドラゾン区ヒドロキシク
ロマン・ヒドロキシクラマン漿スルホナミドフェノール
漿 アミノナフトール漿アスコルビン酸乳 ヒドロキシ
インダン漿 ビスフェノール類、オルソビスフェノール
類などが使用できる。
非銀塩ILp250Jに記載された還元剤や、−次発
色現像生麩 二次発色現像主薬などが使用できる。これ
らは例え6戴 フェノール漿 ハイドロキノン瓜 カ
テコール瓜p−アミノフェノール、p−置換アミノフェ
ノールfLp−フェニレンジアミン類、3−ピラゾリド
ン類などの他く レゾルシン類、ピロガロール類、0−
アミノフェノール類、m−アミノフェノール類、m−フ
ェニレンジアミン類、5−ピラゾロン瓜 アルキルフェ
ノール翫アルコキシフェノール瓜 ナフトール瓜 アミ
ノナフトール瓜 ナフタレンジオール漿 アルコキシナ
フトール気 ヒドラジン漿 ヒドラゾン区ヒドロキシク
ロマン・ヒドロキシクラマン漿スルホナミドフェノール
漿 アミノナフトール漿アスコルビン酸乳 ヒドロキシ
インダン漿 ビスフェノール類、オルソビスフェノール
類などが使用できる。
また、色素を還元したロイコベースを還元剤として使用
することもできる。さらに以上に述べた還元剤などを二
種以上組合わせて用いることも可能である。二次発色現
像主薬を使用する場合服これらの酸化生成物と反応して
、光吸収性化合物を生成するカプラーを併用することが
望ましい。
することもできる。さらに以上に述べた還元剤などを二
種以上組合わせて用いることも可能である。二次発色現
像主薬を使用する場合服これらの酸化生成物と反応して
、光吸収性化合物を生成するカプラーを併用することが
望ましい。
還元剤の具体例を挙げると、例え眠 ヒドロキノン、ヒ
ドロキノンモノメチルエーテル、2,4−ジメチル−6
−t−ブチルフェノール、カテコール、ジクロロカテコ
ール、2−メチルカテコール、没食子酸メチル、没食子
酸エチル、没食子酸プロピル、0−アミンフェノール、
3,5−ジメチル−2−アミノフェノール、p−アミン
フェノール、p−アミノ−0−メチルフェノール、m−
ジメチルアミノフェノール、m−ジエチルアミノフェノ
ール、2.6−ジシクロへキシル−4−メチルフェノー
ル、1−ナフトール、2−メチル−1−ナフトール、2
.4−ジクロロ−1−ナフトール、1.1−ジー2−ナ
フトール、2,2°−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4
−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−ブ
チリデンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール
)、4,4゛−ブチリデンビス(3−メチル−6−七−
ブチルフェノール)、4,4゛−メチレンビス(2,6
−ジーt−ブチルフェノール)、1.1.3− )リス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェノ
ール)ブタン、4.4′−チオビス(3−メチル−6−
七−ブチルフェノール(エチルチオ) −6− (4−
ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1.
3.5〜トリアジン、2.4−ビス(オクチルチオ)−
6− (4−ヒドロキシ−3.5−ジ−t−ブチルアニ
リノ)−1.3.5−トリアジン、2.6−ジクロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−クロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2.6−ジプ
ロモー4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、チオイ
ンドキシル、インドキシル、1.3−ジメチルピロガロ
ール、4−メトキシナフトール、4−エトキシナフトー
ル、2−シアノアセチルクマロン、N,N−ジメチルフ
ェニレンジアミン、N,N−ジエチルフェニレンジアミ
ン、N’,N’−ジエチル−3−メチルフェニレンジア
ミンなどが挙げられる。
ドロキノンモノメチルエーテル、2,4−ジメチル−6
−t−ブチルフェノール、カテコール、ジクロロカテコ
ール、2−メチルカテコール、没食子酸メチル、没食子
酸エチル、没食子酸プロピル、0−アミンフェノール、
3,5−ジメチル−2−アミノフェノール、p−アミン
フェノール、p−アミノ−0−メチルフェノール、m−
ジメチルアミノフェノール、m−ジエチルアミノフェノ
ール、2.6−ジシクロへキシル−4−メチルフェノー
ル、1−ナフトール、2−メチル−1−ナフトール、2
.4−ジクロロ−1−ナフトール、1.1−ジー2−ナ
フトール、2,2°−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4
−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−ブ
チリデンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール
)、4,4゛−ブチリデンビス(3−メチル−6−七−
ブチルフェノール)、4,4゛−メチレンビス(2,6
−ジーt−ブチルフェノール)、1.1.3− )リス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェノ
ール)ブタン、4.4′−チオビス(3−メチル−6−
七−ブチルフェノール(エチルチオ) −6− (4−
ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1.
3.5〜トリアジン、2.4−ビス(オクチルチオ)−
6− (4−ヒドロキシ−3.5−ジ−t−ブチルアニ
リノ)−1.3.5−トリアジン、2.6−ジクロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−クロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2.6−ジプ
ロモー4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、チオイ
ンドキシル、インドキシル、1.3−ジメチルピロガロ
ール、4−メトキシナフトール、4−エトキシナフトー
ル、2−シアノアセチルクマロン、N,N−ジメチルフ
ェニレンジアミン、N,N−ジエチルフェニレンジアミ
ン、N’,N’−ジエチル−3−メチルフェニレンジア
ミンなどが挙げられる。
また、二次発色現像主薬(例え6戴 フェニレンジア
ミン&pーアミノフェノール系)を使用した場合のカプ
ラーとして檄 例えE 1−ヒドロキシ−N−ブチル
−2−ナツタミド、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルア
セトアニリド、0−メトキシベンゾイルアセト−〇ーメ
トキシアニリド、ジベンゾイルメタン、2−クロロ−1
−ナフトール、2.6−ジプロモー1.5−ナフタレン
ジオール、3−メチル−1−7エニルビラゾロンなどが
挙げられる。
ミン&pーアミノフェノール系)を使用した場合のカプ
ラーとして檄 例えE 1−ヒドロキシ−N−ブチル
−2−ナツタミド、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルア
セトアニリド、0−メトキシベンゾイルアセト−〇ーメ
トキシアニリド、ジベンゾイルメタン、2−クロロ−1
−ナフトール、2.6−ジプロモー1.5−ナフタレン
ジオール、3−メチル−1−7エニルビラゾロンなどが
挙げられる。
光吸収性化合物として頃 色素としての範嗜に入るもの
であっても、そうでなくても良く、実質的に光重合開始
剤の感度を減感することができれば良い。例え(戴 紫
外部の吸収を利用する場合let。
であっても、そうでなくても良く、実質的に光重合開始
剤の感度を減感することができれば良い。例え(戴 紫
外部の吸収を利用する場合let。
可視部の吸収は問題とならない。
光吸収化合物と光重合開始剤の組合せの具体例として版
例えば還元剤として、4.4′メチレンビス(2−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、4,4°メチレン
ビス(2.6−ジーt−ブチルフェノール)などを使用
した場合、380〜390nmに感度を有する光重合開
始剤L 例え(!、2−クロロチオキサントン、2−メ
チルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン
、2,4.6−)リンチルベンゾイルジフェニルホスフ
ィンオキサイド、ベンジルなどが使用できる。
例えば還元剤として、4.4′メチレンビス(2−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、4,4°メチレン
ビス(2.6−ジーt−ブチルフェノール)などを使用
した場合、380〜390nmに感度を有する光重合開
始剤L 例え(!、2−クロロチオキサントン、2−メ
チルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン
、2,4.6−)リンチルベンゾイルジフェニルホスフ
ィンオキサイド、ベンジルなどが使用できる。
また2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジルフェノール
、1− (3.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−フェニルエタンなどや二次発色現像主薬
によりシアン色素を形成するものIL 可視部以外に
300〜370nmに感度を有する光重合開始剤L 例
えば1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパ
ン−1−オン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニル
ケトン、ベンゾインジメチルエーテル、ベンゾフェノン
、4−べアゾイル−4′−メチルジフエニルサルフアイ
ドなどが使用できる。
、1− (3.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−フェニルエタンなどや二次発色現像主薬
によりシアン色素を形成するものIL 可視部以外に
300〜370nmに感度を有する光重合開始剤L 例
えば1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパ
ン−1−オン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニル
ケトン、ベンゾインジメチルエーテル、ベンゾフェノン
、4−べアゾイル−4′−メチルジフエニルサルフアイ
ドなどが使用できる。
剥離現像型光重合組成物の成分として使用される重合性
ポリマー前駆体として6戴 1分子中に反応性ビニル基
を少なくとも1偏持つ化合物が使用できる。このような
化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビニル基
アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸系ビニル五 ア
リル系ビニル五ビニルエーテルなどの他に酢酸ビニルな
どのエステル系ビニル基など重合反応性を有する置換も
しくは非置換のビニル基が挙げられる。
ポリマー前駆体として6戴 1分子中に反応性ビニル基
を少なくとも1偏持つ化合物が使用できる。このような
化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビニル基
アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸系ビニル五 ア
リル系ビニル五ビニルエーテルなどの他に酢酸ビニルな
どのエステル系ビニル基など重合反応性を有する置換も
しくは非置換のビニル基が挙げられる。
かかる条件を満たす重合性ポリマー前駆体の具体例は次
の通りである。
の通りである。
例え(戯 スチレン、メチルスチレン、クロルスチレン
、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノ
スチレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキ
シスチレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、ア
クリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル酸
、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリ
ル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェ
ニル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルピリジン、
N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、2−
ビニルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミダゾ
ール、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル
、インブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニ
ルビニルエーテル、p−クロロフェニルビニルエーテル
などの一価の単量体:例えばジビニルベンゼン、シュウ
酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリ
ル、グルタル酸ジスチリル、アジピン酸ジスチリル、マ
レイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β。
、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノ
スチレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキ
シスチレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、ア
クリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル酸
、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリ
ル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェ
ニル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルピリジン、
N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、2−
ビニルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミダゾ
ール、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル
、インブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニ
ルビニルエーテル、p−クロロフェニルビニルエーテル
などの一価の単量体:例えばジビニルベンゼン、シュウ
酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリ
ル、グルタル酸ジスチリル、アジピン酸ジスチリル、マ
レイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β。
β−ジメチルグルタル酸ジスチリル、2−ブロモグルタ
ル酸ジスチリル、α 、l−ジクロログルタル酸ジスチ
リル、テレフタル酸ジスチリル、シュウ酸ジ(エチルア
クリレート)、シュウ酸ジ(メチルエチルアクリレート
)、マロン酸ジ(エチルアクリレート)、マロン酸ジ(
メチルエチルアクリレート)、コハク酸ジ(エチルアク
リレート)、グルタル酸ジ(エチルアクリレート)、
アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マレイン酸ジ(
ジエチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチルアクリレ
ート)、β、β−ジメチルグルタル酸ジ(エチルアクリ
レート)、エチレンジアクリルアミド、プロピレンジア
クリルアミド、1.4−フェニレンジアクリルアミド、
1,4−フェニレンビス(オキシエチルアクリレート)
、1.4−フェニレンビス(オキシメチルエチルアクリ
レート)、1.4−ビス(アクリロイルオキシエトキシ
)シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリロイルオキシ
メチルエトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(アク
リロイルオキシエトキシカルバモイル)ベンゼン、1.
4−ビス(アクリロイルオキシメチルエトキシカルバモ
イル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシエ
トキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキシル)メタ
ン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)、シュウ酸ジ
(メチルエチルメタクリレート)、マロン酸ジ(エチル
メタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエチルメタクリ
レート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレート)、コハ
ク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、グルタル酸ジ
(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタクリレート)
、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、フマル酸ジ(
メチルエチルメタクリレート)、β、β′−ジメチルグ
ルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1.4−フェニ
レンビス(オキシエチルメタクリレ−1−)、1.4−
ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキサン
アクリロイルオキシエトキシエチルビニルエーテルなど
の2価の単量体:例えばペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリ(ヒドロキシスチレン)、シ
アヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレ
ート、1,1.1−トリメチロールプロパントリアクリ
レート、1.1.1− )リンチロールブロバントリメ
タクリレート、シアヌル酸トリ(エチルアクリレート)
、1.1.1− トリメチロールプロパントリ (エ
チルアクリレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエ
ーテル)、1,1.1−)リンチロールプロパントリ(
トルエンジイソシアネート)とヒドロキシエチルアクリ
レートとの縮合物、1,1.1−トリメチロールプロパ
ントリ (ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロキ
シスチレンとの縮合物などの3価の単量体1例えばエチ
レンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアクリル
アミドなどの4価の単量体などを挙げることができる。
ル酸ジスチリル、α 、l−ジクロログルタル酸ジスチ
リル、テレフタル酸ジスチリル、シュウ酸ジ(エチルア
クリレート)、シュウ酸ジ(メチルエチルアクリレート
)、マロン酸ジ(エチルアクリレート)、マロン酸ジ(
メチルエチルアクリレート)、コハク酸ジ(エチルアク
リレート)、グルタル酸ジ(エチルアクリレート)、
アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マレイン酸ジ(
ジエチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチルアクリレ
ート)、β、β−ジメチルグルタル酸ジ(エチルアクリ
レート)、エチレンジアクリルアミド、プロピレンジア
クリルアミド、1.4−フェニレンジアクリルアミド、
1,4−フェニレンビス(オキシエチルアクリレート)
、1.4−フェニレンビス(オキシメチルエチルアクリ
レート)、1.4−ビス(アクリロイルオキシエトキシ
)シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリロイルオキシ
メチルエトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(アク
リロイルオキシエトキシカルバモイル)ベンゼン、1.
4−ビス(アクリロイルオキシメチルエトキシカルバモ
イル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシエ
トキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキシル)メタ
ン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)、シュウ酸ジ
(メチルエチルメタクリレート)、マロン酸ジ(エチル
メタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエチルメタクリ
レート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレート)、コハ
ク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、グルタル酸ジ
(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタクリレート)
、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、フマル酸ジ(
メチルエチルメタクリレート)、β、β′−ジメチルグ
ルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1.4−フェニ
レンビス(オキシエチルメタクリレ−1−)、1.4−
ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキサン
アクリロイルオキシエトキシエチルビニルエーテルなど
の2価の単量体:例えばペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリ(ヒドロキシスチレン)、シ
アヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレ
ート、1,1.1−トリメチロールプロパントリアクリ
レート、1.1.1− )リンチロールブロバントリメ
タクリレート、シアヌル酸トリ(エチルアクリレート)
、1.1.1− トリメチロールプロパントリ (エ
チルアクリレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエ
ーテル)、1,1.1−)リンチロールプロパントリ(
トルエンジイソシアネート)とヒドロキシエチルアクリ
レートとの縮合物、1,1.1−トリメチロールプロパ
ントリ (ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロキ
シスチレンとの縮合物などの3価の単量体1例えばエチ
レンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアクリル
アミドなどの4価の単量体などを挙げることができる。
尚、前述のようにこれらの重合性ポリマー前駆体を2種
以上用いてもよい。
以上用いてもよい。
光重合開始剤として告 カルボニル化合轍 イオウ化合
歓 ハロゲン化合歇 レドックス系光重合開始剤等を挙
げることができる。
歓 ハロゲン化合歇 レドックス系光重合開始剤等を挙
げることができる。
具体的にミ カルボニル化合物として;戴 例えばベン
ジル、4,4゛−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類:例えば4,4°−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4′−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、例えば
アセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどのア
セトフェノン類、ベンゾインアルキルエーテル類0例え
ば2−シクロロチオキサントン、2.4−ジエチルチオ
キサントン、チオキサントン−3−カルボン酸−β−メ
トキシエチルエステルなどのチオキサントン類、ジアル
キルアミノ基を有するカルコン類およびスチリルケトン
類;3,3’−カルボニルビス(7−メドキシクマリン
)、3.3°−カルボニルビス(7−ジニチルアミノク
マリン)などのクマリン類等が挙げられる。
ジル、4,4゛−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類:例えば4,4°−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4′−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、例えば
アセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどのア
セトフェノン類、ベンゾインアルキルエーテル類0例え
ば2−シクロロチオキサントン、2.4−ジエチルチオ
キサントン、チオキサントン−3−カルボン酸−β−メ
トキシエチルエステルなどのチオキサントン類、ジアル
キルアミノ基を有するカルコン類およびスチリルケトン
類;3,3’−カルボニルビス(7−メドキシクマリン
)、3.3°−カルボニルビス(7−ジニチルアミノク
マリン)などのクマリン類等が挙げられる。
イオウ化合物として(戴 例えばジベンゾチアゾリルス
ルフィド、デシルフェニルスルフィド、ジスルフィド類
などが挙げられる。
ルフィド、デシルフェニルスルフィド、ジスルフィド類
などが挙げられる。
ハロゲン化合物として(戴 例えば四臭化炭乳キノリン
スルホニルクロライド、 トリハロメチル基を有するS
−)リアジン類などが挙げられる。
スルホニルクロライド、 トリハロメチル基を有するS
−)リアジン類などが挙げられる。
レドックス系の光重合開始剤として鷹 3価の鉄イオン
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。
また以上に述べた光重合開始剤において、2種以上を組
み合せてより効率の良い光重合を行なうこともできる。
み合せてより効率の良い光重合を行なうこともできる。
この様な光重合開始剤の組み合せとして1戴 ジアルキ
ルアミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類や
クマリン類と、 トリハロメチル基を有するS−トリア
ジン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられ
る。
ルアミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類や
クマリン類と、 トリハロメチル基を有するS−トリア
ジン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられ
る。
また、これらの感光性銀塩や還元剤の他に必要に応じて
バインダーや色調剋 皮膜形成*IK かぶり防止寿
L 光変色防止舷 固体潜弧 界面活性舷帯電防止剤な
どを加えることができる。
バインダーや色調剋 皮膜形成*IK かぶり防止寿
L 光変色防止舷 固体潜弧 界面活性舷帯電防止剤な
どを加えることができる。
本発明で使用可能なバインダー、皮膜形成剤として屯
広範な樹脂から選択することが出来るが、具体的に檄
例えばニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セル
ロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、ミリスチン酸セルロース、バルミチン酸
セルロース、酢酸・プロピオン酸セルロー人 酢酸・酪
酸セルロースなどのセルロースエステル類1例えばメチ
ルセルロー人 エチルセルロース、プロピルセルロース
、ブチルセルロースなどのセルロースエーテル類:例え
ばポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラード、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂
類1例えばスチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン
−アクリロニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン
−アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニ
ルコポリマーなどの共重合樹脂類;例えばポリメチルメ
タクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルア
クリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル
樹脂類1例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリ
エステル類;例えは ポリ(4,4’−イソプロピリデ
ン、ジフエニレンーコ−1,4−シクロヘキシレンジメ
チレンカーポネート)、ポリ(エチレンジオキシ−3,
3゛−フェニレンチオカーボネート)、ポリ(4,4−
イソプロピリデンジフェニレンカーボネートーニーテレ
フタレート)、ポリ(4,4°−イソプロピリデンジフ
ェニレンカーボネート)、ポリ(4,4°−5ec−ブ
チリデンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4,4’
−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブロッ
クオキシエチレン)などのポリアクリレート樹脂類、ポ
リアミド類、ポリイミド類、エポキシ樹脂類; フェノ
ール樹脂類1例えばポリエチレン、ポリプロピレス 塩
素化ポリエチレンなどのポリオレフィン類:およびゼラ
チンなどの天然高分子などが挙げられる。
広範な樹脂から選択することが出来るが、具体的に檄
例えばニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セル
ロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、ミリスチン酸セルロース、バルミチン酸
セルロース、酢酸・プロピオン酸セルロー人 酢酸・酪
酸セルロースなどのセルロースエステル類1例えばメチ
ルセルロー人 エチルセルロース、プロピルセルロース
、ブチルセルロースなどのセルロースエーテル類:例え
ばポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラード、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂
類1例えばスチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン
−アクリロニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン
−アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニ
ルコポリマーなどの共重合樹脂類;例えばポリメチルメ
タクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルア
クリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル
樹脂類1例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリ
エステル類;例えは ポリ(4,4’−イソプロピリデ
ン、ジフエニレンーコ−1,4−シクロヘキシレンジメ
チレンカーポネート)、ポリ(エチレンジオキシ−3,
3゛−フェニレンチオカーボネート)、ポリ(4,4−
イソプロピリデンジフェニレンカーボネートーニーテレ
フタレート)、ポリ(4,4°−イソプロピリデンジフ
ェニレンカーボネート)、ポリ(4,4°−5ec−ブ
チリデンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4,4’
−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブロッ
クオキシエチレン)などのポリアクリレート樹脂類、ポ
リアミド類、ポリイミド類、エポキシ樹脂類; フェノ
ール樹脂類1例えばポリエチレン、ポリプロピレス 塩
素化ポリエチレンなどのポリオレフィン類:およびゼラ
チンなどの天然高分子などが挙げられる。
前記光重合層1戴 また市販品として入手することも可
能である。市販品として告 日東電工(株)製の商品名
「ネオドロック」等がある。
能である。市販品として告 日東電工(株)製の商品名
「ネオドロック」等がある。
画像形成体の形状は特に限定されず、平板 円筒状 ロ
ール状などとすることができる。
ール状などとすることができる。
感光層は好ましくは0. 1μm〜2mB さらに好
ましくは1μm〜01mm程度の厚さに成膜して使用す
ることが好ましい。
ましくは1μm〜01mm程度の厚さに成膜して使用す
ることが好ましい。
光重合層は02〜100μへ 特には05〜50μmが
好ましい。
好ましい。
剥離フィルムは05〜150μハ特には1〜50μmが
好ましい。
好ましい。
感光層と光重合層をかねる複合層(第1n、4’)は0
. 1μm 〜2mrrLS 特には1μm−0,1
mmが好ましい。
. 1μm 〜2mrrLS 特には1μm−0,1
mmが好ましい。
保護フィルムあるいは支持体は1μm以ム 適当な厚さ
のフィルムまたは板とするのが好ましい。
のフィルムまたは板とするのが好ましい。
また画像形成体く 特開昭59−181341号、同6
〇−69650号、同60−225151号等の公報に
記載のような剥離開始を容易にするための剥離端部を設
けても構わない。
〇−69650号、同60−225151号等の公報に
記載のような剥離開始を容易にするための剥離端部を設
けても構わない。
このようにして形成した画像形成体は印刷版としても広
く用いることが可能である。
く用いることが可能である。
第10図に示す多層構成の画像形成体と第8図及び第9
図に示すような装置を用いた場合を例にとり本発明の画
像形成方法の一憇様についで説明する。第8図に示すよ
うに光源6からの光はポリゴン8によってドラム11の
軸方向に走査される。この方向を主走査方向とする。画
像形成体はドラムに沿ってドラムの周方向に送られる。
図に示すような装置を用いた場合を例にとり本発明の画
像形成方法の一憇様についで説明する。第8図に示すよ
うに光源6からの光はポリゴン8によってドラム11の
軸方向に走査される。この方向を主走査方向とする。画
像形成体はドラムに沿ってドラムの周方向に送られる。
この方向を副走査方向とする。剥離フィルム3を支持体
5から剥離するための分離爪12はドラムに平行に設け
ら汰 光重合が終わった画像形成体が送られてくるにつ
れて剥離を行うようになっているので剥離方向は副走査
方向に一致する。従ってこの場合、画像を構成するドツ
トは副走査方向に長い形状にしなければならない。この
ような構成にすれば分離爪を設けるだけで画像形成体の
送りと共に自動的に剥離工程を行うことができるので好
ましい。
5から剥離するための分離爪12はドラムに平行に設け
ら汰 光重合が終わった画像形成体が送られてくるにつ
れて剥離を行うようになっているので剥離方向は副走査
方向に一致する。従ってこの場合、画像を構成するドツ
トは副走査方向に長い形状にしなければならない。この
ような構成にすれば分離爪を設けるだけで画像形成体の
送りと共に自動的に剥離工程を行うことができるので好
ましい。
剥離を手作業で行う場合など、上記走査方向と剥離方向
とが関係しない場合もあるのはもちろんである。
とが関係しない場合もあるのはもちろんである。
まず、熱現像型感光性組成物が感光性を有する光(波長
的800nmより短波長の可視兜 紫外緻XIL 7
級 電子線)を走査光学系を通過させて感光層4に画像
露光する。
的800nmより短波長の可視兜 紫外緻XIL 7
級 電子線)を走査光学系を通過させて感光層4に画像
露光する。
画像形成体にスポット状に光をあて、そのスポットを走
査して画像露光するが、このスポットはパターンを構成
するドツトに対応するので、スポット形状は主走査方向
が副走査方向よりも短いようにする。好ましいスポット
径の大きさ服 主走査方向が2〜150μ亀 特に好ま
しくは5〜100μmであり、副走査方向が5〜200
μ亀 特に好ましくは10〜150μmである。この範
囲よりスポット径が大きいと画像の解像度が落ち、高品
位な画像を得るのが困難になり、また小さいと剥離現像
が難しくなるので好ましくない。
査して画像露光するが、このスポットはパターンを構成
するドツトに対応するので、スポット形状は主走査方向
が副走査方向よりも短いようにする。好ましいスポット
径の大きさ服 主走査方向が2〜150μ亀 特に好ま
しくは5〜100μmであり、副走査方向が5〜200
μ亀 特に好ましくは10〜150μmである。この範
囲よりスポット径が大きいと画像の解像度が落ち、高品
位な画像を得るのが困難になり、また小さいと剥離現像
が難しくなるので好ましくない。
上記スポット径の大きさ、形状は走査光学系を種々設定
して決めても良いし また光源をパルス幅変調すること
により設定してもよい。光源をパルス幅変調すれば面積
階調を表現することが可能となる。
して決めても良いし また光源をパルス幅変調すること
により設定してもよい。光源をパルス幅変調すれば面積
階調を表現することが可能となる。
熱現像型感光性組成物が感光性を有する光源6の具体例
としてはタングステン、水銀灯、ハロゲンランプ、レー
ザー光源 CRTl アーク放電灯、蛍光灯、X線など
を挙げることができる。
としてはタングステン、水銀灯、ハロゲンランプ、レー
ザー光源 CRTl アーク放電灯、蛍光灯、X線など
を挙げることができる。
次に像露光した画像形成体を加熱しく好ましくは80〜
200℃、さらに好ましくは100〜150℃)、感光
層4の露光部分に銀画像を形成する。さらに光重合層Z
&ミ 感光層の非銀画像部分に対応する画像を露光する
。この除用いる光(戯 光重合層が感光性を有する九
具体的には波長的550nmより短い範囲の可視九 紫
外a Xa 電子線等が有効である。
200℃、さらに好ましくは100〜150℃)、感光
層4の露光部分に銀画像を形成する。さらに光重合層Z
&ミ 感光層の非銀画像部分に対応する画像を露光する
。この除用いる光(戯 光重合層が感光性を有する九
具体的には波長的550nmより短い範囲の可視九 紫
外a Xa 電子線等が有効である。
次に剥離フィルム3を剥離するが、このとき重合してい
るか未重合かにより光重合層の剥離フィルムへの接着力
に差が生じており、その接着力が大きい部分が剥離フィ
ルムと共に剥される。これによって光重合層の上記接着
力が弱い部分が支持体上に残留し 画像14が形成され
る。
るか未重合かにより光重合層の剥離フィルムへの接着力
に差が生じており、その接着力が大きい部分が剥離フィ
ルムと共に剥される。これによって光重合層の上記接着
力が弱い部分が支持体上に残留し 画像14が形成され
る。
剥離時には剥離フィルムの剥離境界線13は副走査方向
に対して垂直にする。主走査方向に垂直にすると、走査
光学系によって形成されたスポット形状の長手方向に対
して剥離境界線が平行となり、引き剥し時に大きな力が
必要となり、剥離をスムーズに行うことができず、剥離
速度も不均一になり、支持体上に残留すべき画像部分が
剥離フィルムに持ち去られたり、剥離フィルムに持ち去
られるべき部分が支持体上に残留したりする。
に対して垂直にする。主走査方向に垂直にすると、走査
光学系によって形成されたスポット形状の長手方向に対
して剥離境界線が平行となり、引き剥し時に大きな力が
必要となり、剥離をスムーズに行うことができず、剥離
速度も不均一になり、支持体上に残留すべき画像部分が
剥離フィルムに持ち去られたり、剥離フィルムに持ち去
られるべき部分が支持体上に残留したりする。
剥離境界線を副走査方向に垂直にして剥離する場合、ス
ポット形状の長手方向に対して剥離境界線が垂直となる
ため、小さな力で一定した速度でスムーズに剥離現像で
きるため、画像の欠けが少なくなる。
ポット形状の長手方向に対して剥離境界線が垂直となる
ため、小さな力で一定した速度でスムーズに剥離現像で
きるため、画像の欠けが少なくなる。
第9図においてはレーザーでスポット状に露光された部
分が光重合層4の未重合部4−bとなり、支持体上5に
は重合部4−aが残るため、レーザーのスポットと画像
とは反転したパターンになる。
分が光重合層4の未重合部4−bとなり、支持体上5に
は重合部4−aが残るため、レーザーのスポットと画像
とは反転したパターンになる。
本発明によれば最終的な画像がレーザー照射部分と反転
しようがしまいが、とにかく支持体上に残るべき部分は
残り、剥離除去されるべき部分はきれいに剥離されるよ
うになるので、いずれにしても高品位な画像を得ること
ができる。
しようがしまいが、とにかく支持体上に残るべき部分は
残り、剥離除去されるべき部分はきれいに剥離されるよ
うになるので、いずれにしても高品位な画像を得ること
ができる。
本発明における剥離現像は手作業によっても良いし 機
械的に連続工程として行うこともできる。
械的に連続工程として行うこともできる。
機械的に行う場合には例えば剥離ローラーを使用したり
、また剥離フィルムの剥離角度、剥離速度を任意の値に
設定して構わない。
、また剥離フィルムの剥離角度、剥離速度を任意の値に
設定して構わない。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1
まず第10図に示す多層構成の画像形成体を作成した
日東電工製ネオドロックEを用意した これは光重合層
がベースフィルムとカバーフィルムとの間に挾まれた構
成となっている。
がベースフィルムとカバーフィルムとの間に挾まれた構
成となっている。
表面の錆や汚れを落し 清浄にし かつ砂目立て荒しを
行ったアルミ板(厚さ100μm)を支持体とし これ
にカバーフィルムを剥しながら日東電工製ネオドロック
Eをラミネーターによりラミネートした この時点で支
持体5上に光重合層(ネオドロックE)4および剥離フ
ィルム(ネオドロックEのベースフィルム)3が形成さ
れたことになる。
行ったアルミ板(厚さ100μm)を支持体とし これ
にカバーフィルムを剥しながら日東電工製ネオドロック
Eをラミネーターによりラミネートした この時点で支
持体5上に光重合層(ネオドロックE)4および剥離フ
ィルム(ネオドロックEのベースフィルム)3が形成さ
れたことになる。
次に以下の処方による乳剤を調整した
・ベヘン酸銀 5.0部・ベヘ
ン酸 2.0部・臭化銀
0.6部・ポリビニルブチラ
ール 5.0部・4.4゛−メチレンビス (2,6−ジーt−ブチルフェノール)3.0部・フタ
ラジノン 0.8部・1−カルボ
キシメチル−5−[(3−エチルナフト[1,2−d]
オキサゾリン−2−インデン)−ジエチリデン]−3−
エチルチオヒダントイン 0.001部・
キシレン/n−ブタノール(1:1容量)60部この乳
剤を、剥離フィルム3上に乾燥膜厚が8μmとなるよう
に塗工し、乾燥させて、感光層2を形成し八 さらにその上に保護フィルムlとして15μmのポリエ
ステルフィルムを60℃でラミネート獣 画像形成体を
得へ このように作成した画像形成体を第8図および第9図に
示す画像形成装置に装着して画像形成を行なっtも ここで第8図は用いた装置の模式的斜視艮 第9図は同
装置の模式的断面図である。
ン酸 2.0部・臭化銀
0.6部・ポリビニルブチラ
ール 5.0部・4.4゛−メチレンビス (2,6−ジーt−ブチルフェノール)3.0部・フタ
ラジノン 0.8部・1−カルボ
キシメチル−5−[(3−エチルナフト[1,2−d]
オキサゾリン−2−インデン)−ジエチリデン]−3−
エチルチオヒダントイン 0.001部・
キシレン/n−ブタノール(1:1容量)60部この乳
剤を、剥離フィルム3上に乾燥膜厚が8μmとなるよう
に塗工し、乾燥させて、感光層2を形成し八 さらにその上に保護フィルムlとして15μmのポリエ
ステルフィルムを60℃でラミネート獣 画像形成体を
得へ このように作成した画像形成体を第8図および第9図に
示す画像形成装置に装着して画像形成を行なっtも ここで第8図は用いた装置の模式的斜視艮 第9図は同
装置の模式的断面図である。
前記画像形成体をドラム11に巻き付は固定しHe−N
eレーザー6から照射されたレーザー光をレンズ7、ポ
リゴン8等からなる走査光学系を介し画像形成体面上で
ビーム径が主走査方向に50μ亀副走査方向に100μ
mとなるスポット形状として、パターンの露光書き込み
を行なり九 次に125℃に設定した発熱体9上で画像
形成体を加熱獣 感光層2の露光部に銀像2−aを形成
し九ここでパターンは第2図に示すように主走査方向
副走査方向とも隣合う銀像ドツトが互いに接触しないよ
うにした この銀像の形成された感光層をマスクとして380℃m
にケイ光ピークを有する高圧水銀灯10により画像形成
体に対して全面露光し 支持体5上に光重合層4の光重
合部4−aを形成し九 二の光重合部が画像となる。
eレーザー6から照射されたレーザー光をレンズ7、ポ
リゴン8等からなる走査光学系を介し画像形成体面上で
ビーム径が主走査方向に50μ亀副走査方向に100μ
mとなるスポット形状として、パターンの露光書き込み
を行なり九 次に125℃に設定した発熱体9上で画像
形成体を加熱獣 感光層2の露光部に銀像2−aを形成
し九ここでパターンは第2図に示すように主走査方向
副走査方向とも隣合う銀像ドツトが互いに接触しないよ
うにした この銀像の形成された感光層をマスクとして380℃m
にケイ光ピークを有する高圧水銀灯10により画像形成
体に対して全面露光し 支持体5上に光重合層4の光重
合部4−aを形成し九 二の光重合部が画像となる。
さら&二 剥離爪12により剥離フィルム3を支持体5
から剥離することにより支持体上に露光部分の欠けや残
留物のない良好な画像パターンを形成することができへ
このとき剥離する方向は副走査方向 すなわちパター
ンを構成するドツトの長手方向とした ドツトの長軸方向と短軸方向の長さの比は120〜40
0: 100程度が好ましい。
から剥離することにより支持体上に露光部分の欠けや残
留物のない良好な画像パターンを形成することができへ
このとき剥離する方向は副走査方向 すなわちパター
ンを構成するドツトの長手方向とした ドツトの長軸方向と短軸方向の長さの比は120〜40
0: 100程度が好ましい。
実施例2
レーザーによるパターンの露光書き込みを次のようにし
た以外は実施例1と同様な試験を行つ九第3図に示すよ
う&へ 出力画像の記録ドツトを主走査方向40μへ
副走査方向100μmとして、主走査方向より副走査方
向の記録ドツトを長く獣主走査方向の隣接するドツト間
にドツト幅に対して1〜20%の非画像部を設け、副走
査方向にはドツトが接するようにした(この様子を第3
図に示す。 )。
た以外は実施例1と同様な試験を行つ九第3図に示すよ
う&へ 出力画像の記録ドツトを主走査方向40μへ
副走査方向100μmとして、主走査方向より副走査方
向の記録ドツトを長く獣主走査方向の隣接するドツト間
にドツト幅に対して1〜20%の非画像部を設け、副走
査方向にはドツトが接するようにした(この様子を第3
図に示す。 )。
実施例1同様高品位な画像が得られ九
比較例1
剥離時に剥離方向を主走査方向とした以外は実施例1と
同様の試験を行ったところ、得られた画像には欠けがあ
った 実施例3 レーザーによる画像の書き込みを次のように行った以外
は実施例1と同様の試験を行っ九He−Neレーザーに
おいてA10変調により、強度変調を行い、以下のよう
にレーザーを走査させるように設定した 第4図aに示
すよう番ミ レーザー光を1ドツトに対して100%強
度で発光させるときにできる記録ドツトが主走査方向よ
り副走査方向のほうに長くなるように光学入 主走査記
録密度、副走査間隔を設定した レーザー光を連続発光
させる場合には記録ドツトが主走査、副走査方向共に連
続になるようにしt4 強度変調をかけて記録ドツト
を小さくする場合屯 同図b(強度70%)に示すよう
に副走査方向よりも先に主走査方向において記録ドツト
間に隙間ができるようにした。
同様の試験を行ったところ、得られた画像には欠けがあ
った 実施例3 レーザーによる画像の書き込みを次のように行った以外
は実施例1と同様の試験を行っ九He−Neレーザーに
おいてA10変調により、強度変調を行い、以下のよう
にレーザーを走査させるように設定した 第4図aに示
すよう番ミ レーザー光を1ドツトに対して100%強
度で発光させるときにできる記録ドツトが主走査方向よ
り副走査方向のほうに長くなるように光学入 主走査記
録密度、副走査間隔を設定した レーザー光を連続発光
させる場合には記録ドツトが主走査、副走査方向共に連
続になるようにしt4 強度変調をかけて記録ドツト
を小さくする場合屯 同図b(強度70%)に示すよう
に副走査方向よりも先に主走査方向において記録ドツト
間に隙間ができるようにした。
実施例1同様高品位な画像が得られへ
実施例4
レーザーによる画像の書き込みを次のように行った以外
は実施例1と同様の試験を行っ九本例で哄 画像露光書
き込み時にPWM(パルス幅変調)を行うことにより、
一画素(ドツト)の面積を主走査方向において変え、副
走査方向には略連なったパターンで画像を形成した パ
ルス幅の変調は一画素の初めの位置で揃えて変化させ九
すなわち、一画素の露光開始位置は各画素とも揃えて
おき、画素の面積を弯えるときは露光開始位置からの発
光時間を変化させて行った 第5図に本例におけるパタ
ーンの例を示すカー これは一画素のパルス幅を0%、
25%、50%、75%、100%の5段階に変えて形
成したものである。同図のように隣合う画素は副走査方
向に連続させ九本例においても実施例1同様良好な画像
が得られた 実施例5 パルス幅の変調を一画素の中央で揃えて変化させて出力
獣 副走査方向に画素幅の中央で略連なったパターンで
画素を形成するようにした以外は実施例3と同様にして
画像を形成した すなわち本例では画素の中央を中心に
して、露光幅が左右対称に振り分けらへ その幅の変化
により、一画素の面積が変わる。第6図に本例における
パターンの例を示すが、これは一画素のパルス幅を0%
、20%、40%、60%、80%、100%の6段階
に変えて形成したものである。同図のように隣合う画素
は副走査方向に連続させた 本例においても実施例1同様良好な画像が得られた 実施例6 レーザーによる画像の書き込みを次のように行った以外
は実施例1と同様の試験を行った本例においては4×4
の16階調デイザマトリックスパターンによる面積階調
方式を採用し 黒化面積率が増大するにつれてパターン
の配列順序が副走査方向に縦長になるようにした 第7
図には階調数0段階から12段階までのパターンを順番
に示した 第7図のようへ 副走査方向に長いマトリッ
クスパターンとすることにより、実施例同様良好な画像
が得られた 第7図には一つのドツトが正方形のマトリ
ックスパターンを示した力(、各ドツト自体が副走査方
向に長I/)とさらに好適である。
は実施例1と同様の試験を行っ九本例で哄 画像露光書
き込み時にPWM(パルス幅変調)を行うことにより、
一画素(ドツト)の面積を主走査方向において変え、副
走査方向には略連なったパターンで画像を形成した パ
ルス幅の変調は一画素の初めの位置で揃えて変化させ九
すなわち、一画素の露光開始位置は各画素とも揃えて
おき、画素の面積を弯えるときは露光開始位置からの発
光時間を変化させて行った 第5図に本例におけるパタ
ーンの例を示すカー これは一画素のパルス幅を0%、
25%、50%、75%、100%の5段階に変えて形
成したものである。同図のように隣合う画素は副走査方
向に連続させ九本例においても実施例1同様良好な画像
が得られた 実施例5 パルス幅の変調を一画素の中央で揃えて変化させて出力
獣 副走査方向に画素幅の中央で略連なったパターンで
画素を形成するようにした以外は実施例3と同様にして
画像を形成した すなわち本例では画素の中央を中心に
して、露光幅が左右対称に振り分けらへ その幅の変化
により、一画素の面積が変わる。第6図に本例における
パターンの例を示すが、これは一画素のパルス幅を0%
、20%、40%、60%、80%、100%の6段階
に変えて形成したものである。同図のように隣合う画素
は副走査方向に連続させた 本例においても実施例1同様良好な画像が得られた 実施例6 レーザーによる画像の書き込みを次のように行った以外
は実施例1と同様の試験を行った本例においては4×4
の16階調デイザマトリックスパターンによる面積階調
方式を採用し 黒化面積率が増大するにつれてパターン
の配列順序が副走査方向に縦長になるようにした 第7
図には階調数0段階から12段階までのパターンを順番
に示した 第7図のようへ 副走査方向に長いマトリッ
クスパターンとすることにより、実施例同様良好な画像
が得られた 第7図には一つのドツトが正方形のマトリ
ックスパターンを示した力(、各ドツト自体が副走査方
向に長I/)とさらに好適である。
以上説明したよう&二 本発明によれ(戴 剥離現像型
の画像形成体を剥離現像する際に剥離すべき部分を剥離
させ、残留すべき部分を確実に残留させることができる
ので、欠けなどのなり)高品位な画像を形成することが
できる。
の画像形成体を剥離現像する際に剥離すべき部分を剥離
させ、残留すべき部分を確実に残留させることができる
ので、欠けなどのなり)高品位な画像を形成することが
できる。
第1図は本発明における剥離フィルムの剥離方向を示す
模式図である。第2図から第7図はそれぞれ実施例にお
けるパターンの露光書き込み状況を示す模式図である。 第8図及び第9図は実施例で用いた画像形成装置の模式
図である。第10図及び第11図はそれぞれ本発明で使
用することのできる画像形成体の模式的断面図である。 1゛保護フイルム 2 感光層 2−a、銀像 3、剥離フィルム 4 光重合層 4−a 光重合部 4゛:複合層5:支持体
6: レーザー7: レンズ 8:
ポリゴン9:発熱体 10.水銀灯 11: ドラム 12:剥離爪13:剥離
境界線 14:画像
模式図である。第2図から第7図はそれぞれ実施例にお
けるパターンの露光書き込み状況を示す模式図である。 第8図及び第9図は実施例で用いた画像形成装置の模式
図である。第10図及び第11図はそれぞれ本発明で使
用することのできる画像形成体の模式的断面図である。 1゛保護フイルム 2 感光層 2−a、銀像 3、剥離フィルム 4 光重合層 4−a 光重合部 4゛:複合層5:支持体
6: レーザー7: レンズ 8:
ポリゴン9:発熱体 10.水銀灯 11: ドラム 12:剥離爪13:剥離
境界線 14:画像
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、支持体上に光重合性組成物を含有する光重合層と剥
離フィルムとをこの順に有する画像形成体に光重合性組
成物に感光性を有する活性光線をパターン状に照射する
ことにより光重合層をパターン状に重合させる工程、お
よび剥離フィルムを支持体から剥離することにより、支
持体上に光重合層の重合部または未重合部からなる画像
を得る工程を有する画像形成方法において、 前記パターンを複数のドットの集合体で構成し、各ドッ
トを一方向に長くこの方向と直行する方向に短い形状と
し、各ドットを平行に配列し、かつ剥離フィルムを剥離
する際に前記一方向に沿って剥離することを特徴とする
画像形成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30855290A JPH04181255A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 画像形成方法 |
EP91307256A EP0491457A1 (en) | 1990-11-16 | 1991-08-07 | Image forming method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30855290A JPH04181255A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04181255A true JPH04181255A (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=17982409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30855290A Pending JPH04181255A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 画像形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0491457A1 (ja) |
JP (1) | JPH04181255A (ja) |
Families Citing this family (4)
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EP0698822B1 (en) | 1994-08-22 | 1999-03-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographic printing plate precursor with a flexible support and method for making a lithographic printing plate therewith |
EP0751430A1 (en) | 1995-06-29 | 1997-01-02 | Agfa-Gevaert N.V. | Apparatus and method for making a lithographic printing plate by silver salt diffusion transfer processing |
US5776655A (en) * | 1996-03-11 | 1998-07-07 | Eastman Kodak Company | Peel-developable lithographic printing plate |
Citations (1)
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Family Cites Families (4)
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GB2113606A (en) * | 1981-10-09 | 1983-08-10 | Agfa Gevaert | Process for the production of a laminar article and such article containing information in a hydrophilic colloid stratum |
JPS59181342A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-15 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 剥離現像方法 |
JP2654693B2 (ja) * | 1988-09-05 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法 |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP30855290A patent/JPH04181255A/ja active Pending
-
1991
- 1991-08-07 EP EP91307256A patent/EP0491457A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6244745A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-26 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 剥離現像装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0491457A1 (en) | 1992-06-24 |
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