JPH04180065A - 表面保護材および表面保護層の形成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は表面保護材および表面保護層の形成法に関する
。さらに詳しくはカラーフィルターなどの表面保護材お
よびカラーフィルターの表面保護層の形成法に関する。

［従来の技術］ 液晶表示素子などのカラーフィルターは、通常、染色法
、染料分散法、顔料分散法、印刷法および電着法などの
方法により製造されるが、一般には表面保護の目的およ
び／または染色法で製造される場合の防染の目的で、赤
、緑、青といった着色層上に、保護層を形成している。

従来、この表面保護材としてはアクリル系のエポキシ樹
脂が知られていた（例えば、特開昭ｆｉｌ−２９２１３
０４号公報）。

［発明が解決しようとする課題］ 上記液晶表示素子などのカラーフィルターの製造におい
ては、シール部分の密着性、および実装端子部分におけ
る透明導電材料と回路基板部分の接続の信頼性向上のた
めカラーフィルタ一部分以外の保護膜を除去し、ガラス
表面上に保護膜を介さずに直接、該透明導電材料を形成
することが求められている。上記の保護材では、保護膜
の不要部分の除去にはドライエツチングが必要であるが
装置の大型化、生産性の低下などプロセス適応上問題が
あった。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、上記問題を解決するため鋭意検討した結
果、塗布後の活性エネルギー線照射および現像により不
要部分の除去が可能で、かつ、耐熱性、耐薬品性、透明
性など本用途に必要とされる各種特性にも優れた表面保
護材並びにカラーフィルターの表面保護層の形成法を見
いだし、本発明に到達した。すなわち本発明は、下記表
面保護材（Ｉ）〜（Ｖ）および表面保護層の形成法（Ｚ
−１）、　（Ｚ−２）により構成される。

表面保護材（Ｉ）ニゲリシジル（メタ）アクリレートを
構成単位として含有する重合体（イ）と不飽和カルボン
酸（ロ）との反応物（Ａ　−１）　、光重合性単量体（
Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を組み合わせてなること
を特徴とする表面保護材。

表面保護材（■）ニゲリシジル（メタ）アクリレートを
構成単位として含有する重合体と不飽和カルボン酸との
反応物（Ａ−１）、光重合性単量体（Ｂ）、光重合開始
剤（Ｃ）およびエポキシ硬化剤（Ｄ）を組み合わせてな
ることを特徴とする表面保護材。

表面保護材（■）ニゲリシジル（メタ）アクリレートを
構成単位として含有する重合体と不飽和カルボン酸との
反応物（Ａ−１）、光重合性単量体（Ｂ）、光重合開始
剤（Ｃ）、エポキシ硬化剤（Ｄ）および分子中にエポキ
シ基を少な（とも２個有するエポキシ化合物（Ｅ）を組
み合わせてなることを特徴とする表面保護材。

表面保護材（■）ニゲリシジル（メタ）アクリレートを
構成単位として含有する重合体と不飽和カルボン酸との
反応物（Ａ−１）と飽和または不飽和の多塩基酸無水物
（ハ）との反応物（Ａ−２）、光重合性単量体（Ｂ）お
よび光重合開始剤（Ｃ）−を組み合わせてなることを特
徴とする表面保護材。

表面保護材（■）：　グリシジル（メタ）アクリレート
を構成単位として含有する重合体と不飽和カルボン酸と
の反応物と飽和または不飽和の多塩基酸無水物との反応
物（Ａ−２）、光重合性単量体（Ｂ）、光重合開始剤（
Ｃ）、エポキシ硬化剤（Ｄ）および分子中にエポキシ基
を少なくとも２個有するエポキシ化合物（Ｅ）を組み合
わせてなることを特徴とする表面保護材。

表面保護層の形成法（Ｚ−１）：表面保護材（Ｉ）また
は（ＩＶ）を基数上に塗布後、所定部位のみに活性エネ
ルギー線を照射したものを、溶剤による現像処理により
未硬化部分を除去し、必要により活性エネルギー線の照
射および／または加熱処理することを特徴とする表面保
護層の形成法。

表面保護層の形成法（Ｚ−２）：表面保護材（ＩＩ）、
（■）または（Ｖ）を基板上に塗布後、所定部位のみに
活性エネルギー線を照射したものを、溶剤による現像処
理により未硬化部分を除去した後、加熱処理することを
特徴とする表面保護層の形成法。

本発明に用いられる該グリシジル（メタ）アクリレート
を構成単位として含有する重合体（イ）としては、グリ
シジルメタクリレートおよび／またはグリシジルアクリ
レートの重合体、グリシジルメタクリレートおよび／ま
たはグリシジルアクリレートと１種または２種以上の他
のビニル単量体との共重合体などが挙げられる。この他
のビニル単量体の具体例としては、アクリル酸またはメ
タクリル酸のエステル（アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸−ｎ−ブチル、メタクリル
酸−ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸−ｔ−ブチル、ベンジルアクリレート、ベンジルメタ
クリレート、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリ
ル酸フェニル、テトラフルオロプロピルアクリレートな
ど）；ビニル基含有芳香族化合物（スチレン、ｐ−ヒド
ロキシスチレン、ｐ−アセトキシスチレン、α−メチル
スチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレンなど
）ニアミド化合物（Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ
−メチロールメタクリルアミド、アクリルアミド、メタ
クリルアミドなど）；並びに、アクリロニトリルが挙げ
られる。これらのうち現像性の制御の点から、アクリル
酸またはメタクリル酸のエステル、ビニル基含有芳香族
化合物が好ましい。

該重合体（イ）の重量平均分子量はポリスチレン換算で
１，０００〜５００，０００が好ましく、より好ましく
は２，０００−１００，０００である。

本発明に用いられる該不飽和カルボン酸（ロ）としては
、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸など
が挙げられる。これらのうち、アクリル酸またはメタク
リル酸が好ましい。

該反応物（Ａ−１）として好ましいものの具体例として
は、ポリグリシジルメタクリレート／アクリル酸（酸当
量／エポキシ当量比＝０．３〜１．０５）、ポリグリシ
ジルメタクリレート／メタクリル酸（酸当量／エポキシ
当量比＝０．３〜１．０５Ｌ　　グリシジルメタクリレ
ート−ベンジルアクリレート共重合体／アクリル酸（酸
当量／エポキシ当量比＝０．３〜１．０５）　、グリシ
ジルメタクリレート−（アクリル酸−ｎ−ブチル）共重
合体／アクリル酸（酸当量／エポキシ当量比＝０．３〜
１．０５）　、ポリグリシジルメタクリレート／アクリ
ル酸（酸当量／エポキシ当量比＝０．３〜１．０５Ｌ　
　グリシジルメタクリレート−メタクリル酸メチル−ベ
ンジルアクリレート共重合体／アクリル酸（酸当量／エ
ポキシ当量比＝０．３〜１．０５）　、グリシジルメタ
クリレート−メタクリル酸メチル−（アクリル酸−ｎ−
ブチル）共重合体／アクリル酸（酸当量／エポキシ当量
比＝０．３〜１．０５Ｌ　　グリシジルメタクリレート
−メタクリル酸メチル−（α−メチルスチレン）共重合
体／アクリル酸（酸当量／エポキシ当量比＝０．３〜１
．０５）が挙げられる。

該反応物（Ａ−１）の製法を例示すると、　（イ）と（
ロ）とを有機溶剤中で、触媒存在下、酸当量／エポキシ
当量比０．３〜１．０５、好ましくは０．５〜１．０５
の範囲で反応させることにより（Ａ−１）を得ることが
できる。上記有機溶剤としては、例えばエステル化合物
（エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセ
テート、トリエチレングリコールジアクリレート、ノナ
エチレングリコールジアクリレートなど）、ケトン化合
物（シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなど）
、芳香族化合物（トルエン、キシレンなど）、などを用
いることができる。また上記触媒としては、ホスフィン
化合物［トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシル
ホスフィン、　トリーｎ−へキシルホスフィン、トリス
（４−メチルフェニル）ホスフィンなど１７４級アンモ
ニウム塩化合物（塩化ベンジルトリメチルアンモニウム
、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化テトラ−
ｎ−プチルアンモニウムなど）；３級アミン化合物（ト
リエチルアミン、　　Ｎ、　　Ｎ−ジメチルベンジルア
ミン、Ｎ、　　Ｎ−ジメチルアニリン、ジアザビシクロ
オクタンなど）；イミダゾール化合物（２−メチルイミ
ダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−
フェニルイミダゾールなど）などを用いることができる
。

この反応は通常、重合禁止剤（ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテルなど）の共存下で行われる
。また、反応条件としては、通常ＢＯ〜１３０℃、好ま
しくは７０−１２０℃の反応温度において、通常０．５
〜３０時間反応させる。

本発明に用いられる飽和または不飽和の多塩基酸無水物
（ハ）としては脂環族多塩基酸無水物（テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラ
ヒドロ無水フタル酸、メチルへキサヒドロ無水フタル酸
など）、芳香族多塩基酸無水物（無水フタル酸、無水ト
リメリド酸など）、脂肪族多塩基酸無水物（無水マレイ
ン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸など）などが挙げ
られる。これらのうち脂環族多塩基酸無水物、無水フタ
ル酸および無水マレイン酸が好ましい。

該反応物（Ａ−２）として好ましいものの具体例として
は、ポリグリシジルメタクリレート／アクリル酸／テト
ラヒドロ無水フタル酸（酸当量／エポキシ当量比＝０．
３〜１．０５、酸当量／水酸基当量比＝０．２〜２．０
）　、ポリグリシジルメタクリレート／メタクリル酸／
テトラヒドロ無水フタル酸（酸当量／エポキシ当量比＝
０．３〜１．０５、酸当量／水酸基当量比＝０．２〜２
．ＯＬ　　ポリゾリンジルメタクリレート／アクリル酸
／メチルへキサヒドロ無水フタル酸（酸当量／エポキシ
当量比＝０．３〜１０５、酸当量／水酸基当量比＝０．
２〜２．０）　、ポリグリシジルアクリレート／アクリ
ル酸／ヘキサヒドロ無水フタル酸（酸当量／エポキシ当
量比＝０．３〜１．０５、酸当量／水酸基当量比＝０．
２〜２．０）　、グリシジルメタクリレート−ベンジル
アクリレート共重合体／アクリル酸／ヘキサヒドロ無水
フタル酸（酸当量／エポキシ当量比＝０．３〜１．０５
．　　酸当量／水酸基当量比＝０．２〜２．０）、グリ
シジルメタクリレート−（メタクリル酸−ｎ−ブチル）
共重合体／アクリル酸／テトラヒドロ無水フタル酸（酸
当量／エポキシ当量比＝０．３〜１．０５、酸当量／水
酸基当量比＝０．２〜２．０）が挙げられる。

該反応物（Ａ−２）の製法を例示すると（Ａ　−１）と
（ハ）を有機溶剤中で、触媒存在下、酸当量／水酸基当
量比０．２〜２．０、好ましくは０．５〜２．０の範囲
で反応させることにより（Ａ　−２）を得ることができ
る。上記冑機溶剤としてはエステル化合物（エチルセロ
ソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ノナエチレングリ
コールジアクリレートなど）、ケトン化合物（シクロヘ
キサノン、メチルイソブチルケトンなど）、芳香族化合
物（トルエン、キシレンなど）、などを用いることがで
きる。また、上記触媒としては、前記の（Ａ−１）合成
における触媒であるホスフィン化合物、４級アンモニウ
ム塩化合物、３級アミン化合物、イミダゾール化合物な
どを用いることができる。

この反応は通常、重合禁止剤（）１イドロキノン、ハイ
ドロキノンモノメチルエーテルなど）の共存下で行われ
る。また、反応条件としては、通常６０〜１３０℃、好
ましくは７０〜１２０℃の反応温度において、通常０．
５〜３０時間反応させる。

該反応物（Ａ−２）は、該反応物（Ａ−１）中の２級水
酸基が、さらに該酸無水物（ハ）と反応したものであり
、不飽和基とカルボキシル基を共に有する。

本発明において、該光重合性単量体（Ｂ）としては、例
えば、多価アルコール（トリエチレングリコール、テト
ラエチレングリコール、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、　トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ネオペンチルグリコール、ジペンタエリス
リトール、　トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌル酸なト）と（メタ）アクリル酸とのエステル；単官
能性単量体［単官能（メタ）アクリル酸エステル（２−
ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
メタクリレート、メトキシテトラエチレングリコールア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアク
リレート、フェノキシエチルアクリレートなど）、単官
能アミド化合物（Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−
メチロールメタクリルアミド、アクリルアミド、メタク
リルアミドなど）などコ；　トリグリシジルイソシアヌ
レートと（メタ）アクリレートとのエステル化反応生成
物［トリグリシジルイソシアヌレート／アクリル酸（ｌ
／２のモル比）反応物、トリグリシジルイソシアヌレー
ト／アクリル酸（１／３のモル比）反応物などコが挙げ
られる。これらの単量体（Ｂ）は単独でも２種以上の組
合せでも用いることができる。

本発明において、該光重合開始剤（Ｃ）としては紫外線
、遠紫外線、電子線、可視光などの活性エネルギー線に
より不飽和化合物の重合を開始するいかなる開始剤も使
用できる。　（Ｃ）の具体例としては、ベンゾインまた
はそのアルキルエーテル類（ベンゾインイソブチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルなど）；アセト
フェノン類［２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２−ジェトキシアセトフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン、α−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニルプロパノン、ｌ−ヒドロキシ−
１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケト
ン、ｌ−ヒドロキシ−！−メチルエチルー（ｐ−ドデシ
ルフェニル）ケトン、１，１．１−　）リクロロメチル
−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、２−メチル−（４’
　−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−
プロパノンなどコツチオキサントン類［チオキサントン
、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチ
ルチオキサントン、２．４−ジエチルチオキサントン、
２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどコニベンゾ
フェノン類ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ジ（ｐ−
ジエチルアミノフェニル）ケトンなどコ；　アントラキ
ノン類（２−メチルアントラキノン、２−エチルアント
ラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロ
アントラキノンなど）；　ジアルキルアミノ安息香酸エ
ステル類（ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジ
エチルアミノ安息香酸エチルなど）；トリハロメチル−
６−トリアジン類［２−（４−メトキシフェニル）　−
４，８−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−）リアジン、
２−（４−メトキシナフチル）−４，８−ビス（トリク
ロロメチル）−６−トリアジン、２−（４−エトキシナ
フチル）−４゜６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−）
リアジン、２−エトキシカルボニル−４−（４−エトキ
シナフチル）−８−）リクロロメチル−Ｓ−）リアジン
など］；アクリジン類［９−７エニルアクリジン、９−
（ｐ−メトキシフェニル）アクリジンなど］；　フェナ
ジン類（９，１０−ジメチルベンズフェナジンなど）な
どが挙げられる。これらの光重合開始剤（Ｃ）は単独で
も２種以上の組合せでも用いることができる。また、　
（Ｃ）と増感剤を併用してもよい。この増感剤としてト
リエタノールアミン、メチルジェタノールアミン、エチ
ルジェタノールアミン、２−（ジメチルアミノ）エチル
メタクリレート、２−（ジエチルアミノ）エチルメタク
リレート、２−（ジメチルアミノ）エチルアクリレート
、２−（ジエチルアミノ）エチルアクリレートなどが挙
げられる。

本発明において、該エポキシ硬化剤（Ｄ）としては、酸
無水物、ポリアミン、ポリフェノール、イミダゾール化
合物、３級アミン化合物、ジシアンジアミド、三フフ化
ホウ素−アミン錯体、ビグアニド化合物、有機酸ヒドラ
ジドなどが挙げられる。

酸無水物の具体例としては、芳香族酸無水物［無水フタ
ル酸、無水トリメリド酸、無水ピロメリト酸、ペンツフ
ェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス（ア
ンヒドロトリメリテート）、グリセロールトリス（アン
ヒドロトリメリテート）などコニ脂環族酸無水物（無水
メチルナジック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸
、メチルへキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンディ
ック酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）
−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボ
ン酸無水物など）；脂肪族酸無水物（ドデシル無水コハ
ク酸など）などが挙げられる。ポリアミンの具体例とし
ては、例えば、芳香族ポリアミン（メタキシレンジアミ
ン、ジアミノジフユニルメタン、ジアミノジフェニルス
ルホン、ｍ−フェニレンジアミンなど）；脂環族ポリア
ミン［ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス
（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン、３
，９−ビス（３−アミノプロピル）　−２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンアダクト
、Ｎ−アミノエチルピペラジン、インホロンジアミン、
メンセンジアミンなどコ；脂肪族ポリアミン（ジエチル
アミノプロピルアミン、　トリエチレンテトラミン、ジ
エチレントリアミンなど）：　ポリアミドポリアミン；
並びに、これらのポリアミンの変性化合物（エポキシ化
合物付加ポリアミン、マイケル付加ポリアミン、マンニ
ッヒ付加ポリアミン、チオ尿素付加ポリアミン、ケトン
封鎖ポリアミン、エチレンオキサイド付加ポリアミン、
プロピレンオキサイド付加ポリアミンなど）が挙げられ
る。

ポリフェノールの具体例としては、フェノールノボラッ
ク、タレゾールノボラック、ポリビニルフェノールなど
が挙げられる。イミダゾール化合物の具体例としては、
イミダゾール化合物［２−メチルイミダソール、２−エ
チル−４−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダ
ゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル
イミダゾール、ｌ−ベンジル−２−メチルイミダゾール
、ｌ−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、ｌ−シ
アノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、ｌ
−シアンエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２，４
−ジアミノ−６−（２−メチルイミダゾリル−（１））
−エチル−８−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−（
２−エチル−４−メチルイミダゾリル−（１））−エチ
ル−８−）リアジン、２，４−ジアミノ−６−（２−ウ
ンデシルイミダゾリル−（１））−エチル−８−トリア
ジン、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチ
ルイミダゾール、２−フェニル−４−ベンジル−５−ヒ
ドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−
ジヒドロキシメチルイミダソール、ｌ−シアンエチル−
２−フェニル−４，５−ジ（シアノエトキシメチル）イ
ミダゾール、ｌ−ドデシル−２−メチル−３−ベンジル
イミダゾリウムクロリド、１，３−ジベンジル−２−メ
チルイミダゾリウムクロリドなど］；イミダゾール化合
物のカルボン酸塩（ｌ−シアノエチル−２−ウンデシル
イミダゾリウム−トリメリテート、ｌ−シアノエチル−
２−フェニルイミダゾリウム−トリメリテートなど）；
イミダゾール化合物のイソシアヌル酸塩（２−メチルイ
ミダゾリウム−イソシアヌレート、２−フェニルイミダ
ゾリウム−イソシアヌレートなど）；イミダゾール化合
物とモノあるいは多価フェノールとの塩（２−メチルイ
ミダゾールとアルキルフェノールとの塩、２−エチル−
４−メチルイミダゾールとアルキルフェノールとの塩な
ど）；　イミダゾール化合物とモノエポキシ化合物ある
いはエポキシ樹脂との付加物（２−メチルイミダゾール
とビスフェノールＡジグリシジルエーテルとの付加物、
２−メチルイミダゾールとアルキルカルボン酸グリシジ
ルエーテルとの付加物など）などが挙げられる。３級ア
ミン化合物の具体例としては、ベンジルジメチルアミン
、２−（ジメチルアミノメチル）フェノール、２．４．
Ｂ−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノールなどが
挙げられる。三フッ化ホウ素−アミン錯体の具体例とし
ては、三フッ化ホウ素−モノエチルアミン錯体、三フッ
化ホウ素−ベンジルアミン錯体などが挙げられる。ビグ
アニド化合物の具体例としてはＯ−）リルビグアニド、
フェニルビグアニドなどが挙げられる。有機酸ヒドラジ
ド化合物の具体例としてはコハク酸ヒドラジド、アジピ
ン酸ヒドラジド、イソフタル酸ヒドラジドなどが挙げら
れる。これらのエポキシ硬化剤（Ｅ）のうち好ましいも
のは芳香族酸無水物、脂環族酸無水物、イミダゾール化
合物および芳香族ポリアミンである。これらのエポキシ
硬化剤は単独でも２種以上の組合せでも用いることがで
き、例えば、共融混合物としての利用も有用である。

本発明において該エポキシ化合物（Ｅ）としてはグリシ
ジルエステルエポキン化合物、グリシジルエーテルエポ
キシ化合物、脂環族エポキシ化合物、フッ化エポキシ化
合物、グリシジルアミンエポキシ化合物、ヒダントイン
エポキシ化合物、トリグリシジルイソシアヌレートなど
が挙げられる。

グリシジルエステルエポキシ化合物の具体例としては、
ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒ
ドロフタル酸ジグリシジルエステル、４−メチルテトラ
ヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリ
シジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル、ジグ
リシジル−ｐ−安息香酸などが挙げられる。グリシジル
エーテルエポキシ化合物の具体例としては、２，２−ビ
ス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルＡアルキレンオキシド付加物ジグリシジルエーテル、
ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ポリヒドロキ
シアルカンのグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジ
グリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジル
エーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル、シクロヘ
キサンジメタツールジグリシジルエーテルなどが挙げら
れる。脂環族エポキシ化合物の具体例としては、例えば
、２−（３，４−エポキシ）シクロヘキシル−５，１−
スピロ（３，４−エポキシ）シクロヘキシル−ｍ−ジオ
キサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘ
キシル）アジペート、３，４−エポキシシクロヘキシル
メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ
ート チルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート、４−ビニルシクロヘキセンジ
オキシド、１−（１’−メチル−１，２−エポキシエチ
ル）　−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサン
などのシクロヘキセンオキサイド基を育する脂環族エポ
キシ化合物；ジ（７，８−エポキシトリチレングリコー
ルジ（７，８−エポキシトリシクロエボ午シトリシクロ
Ｌ４．３．１　　．０コデカ−３−イル）−２’　、３
’−エポキシプロビルエーテルなどのトリシクロデセン
オキサイド基を有する脂環族エポキシ化合物などが挙げ
られる。フッ化エポキシ化合物の具体例としては、ビス
フェノールへキサフルオロアセトンジグリシジルエーテ
ル、ｌ、３−ビス（１−（２，３−エポキシプロパン）
−１−）リフルオロメチル−２，２，２−）リフルオロ
エチル１、４−ビス（１−　（２．３−エポキシプロパ
ン）−１−トリフルオロメチル−２．２．２−　）リフ
ルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２．３−エポ
キシプロポキシ）オクタフルオロビニニルなどが挙げら
れる。グリシジルアミンエポキシ化合物の具体例として
は、ｍ−Ｎｐ　　Ｎ−ジグリシジルアミノフェニルグリ
シジルエーテル、Ｎ，　　Ｎ−ジグリシジルアニリン、
Ｎ．　　Ｎ−ジグリシジル−〇ートルイジン、Ｎ，　　
Ｎ。

Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４′　−ジアミノ
ジフェニルメタン、ジグリシジルトリブロモアニリンな
どが挙げられる。ヒダントインエポキシ化合物の具体例
としては、Ｎ．Ｎ’　−ジグリシジル−５，５−ジメチ
ルヒダントイン、ｌ−（２．３−二ポキシプロピル）　
−３−　（２−　（２．３−エポキシプロピルオキシ）
プロピル）−５．５−ジメチルヒダントイン、Ｎ，Ｎ’
　−ジグリシジル−５−アミル−５−メチルヒダントイ
ン、Ｎ，Ｎ’　−ジグリシジル−５。

５−ペンタメチレンヒダントインなどが挙げられる。

これらのエポキシ化合物（Ｅ）のうち好ましいものはグ
リシジルエステルエポキシ化合物、グリシジルエーテル
エポキシ化合物、脂環族エポキシ化合物、トリグリシジ
ルイソシアヌレートである。

これらのエポキシ化合物（Ｅ）は単独でも２種以上の組
合せでも用いることができる。

本発明の表面保護材（Ｉ）は、該反応物（Ａ−１）　１
００重量部に対し、該光重合性単量体（Ｂ）を通常２０
〜４００重量部、好ましくは３０〜２５０重量部、該光
重合開始剤（Ｃ）を通常０．１〜３０重量部、好ましく
は０．５〜２０重量部の範囲で用いることが、耐熱性、
解像度などに優れた表面保護層を形成するうえで好まし
い。

本発明の表面保護材（ＩＩ）は、該反応物（Ａ−１）　
１００重量部に対し、該光重合性単量体（Ｂ）を通常２
０〜４００重量部、好ましくは３０〜２５０重量部、該
光重合開始剤（Ｃ）を通常０．１〜４０重量部、好まし
くは０．５〜３０重量部、該エポキシ硬化剤（Ｄ）を通
常０．０１〜２００重量部、好ましくは０．１〜１５０
重量部の範囲で用いることが、耐熱性、解像度などに優
れた表面保護層を形成するうえで好ましい。

本発明の表面保護材（ＩＩＩ）は、該反応物（Ａ−１）
　１００重量部に対し、該光重合性単量体（Ｂ）を通常
２０〜４００重量部、好ましくは３０〜２５０重量部、
該光重合開始剤（Ｃ）を通常０．１〜４０重量部、好ま
しくは０．５〜３０重量部、該エポキシ硬化剤（Ｄ）を
通常０．０１〜２００重量部、好ましくは０．１−１５
０重量部、該エポキシ化合物（Ｅ）を通常１０〜３００
重量部、好ましくは２０〜２５０重量部の範囲で用いる
ことが、耐熱性、解像度などに優れた表面保護層を形成
するうえで好ましい。

本発明の表面保護材（ＩＶ）は、該反応物（Ａ−２）　
１００重量部に対し、該光重合性単量体（Ｂ）を通常２
０〜４００重量部、好ましくは３０〜２５０重量部、該
光重合開始剤（Ｃ）を通常０．１〜３０重量部、好まし
くは０．５〜２０重量部の範囲で用いることが、耐熱性
、解像度などに優れた表面保護層を形成するうえで好ま
しい。

本発明の表面保護材（Ｖ）は、該反応物（Ａ−２）　１
００重量部に対し、該光重合性単量体（Ｂ）を通常２０
〜４００重量部、好ましくは３０〜２５０重量部、該光
重合開始剤（Ｃ）を通常０．１〜４０重量部、好ましく
は０．５〜３０重量部、該エポキシ硬化剤（Ｄ）を通常
０．０１〜２００重量部、好ましくは０．１−１５０重
量部、該エポキシ化合物（Ｅ）を通常１０〜３００重量
部、好ましくは２０〜２５０重量部の範囲で用いること
が、耐熱性、解像度などに優れた表面保護層を形成する
うえで好ましい。

本発明の表面保護材（Ｉ）〜（Ｖ）には、必要により、
　（Ｆ）シランカップリング剤［γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、β−（３゜４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ
基含有シランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラ
ン、γ−メタリロキシプロビルトリメトキシシランなど
のビニル基含有シランカップリング剤、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシランなどの７ミノ基含有シランカツ
プリング剤、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンなどのメルカプト基含有シランカップリング剤などコ
；　（Ｇ）チタネートカップリング剤（イソプロピルト
リイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステ
アロイルジアクリロイルチタネート、イソプロピルトリ
メタクリロイルチタネート、イソプロピルトリアクリロ
イルチタネート、ジイソプロピルイソステアロイル−４
−アミノベンゾイルチタネートなど）；（Ｈ）ポリシロ
キサン（ポリフェニルメチルシロ牛サン、ポリエーテル
変性ポリシロキサンなど）；　　（Ｊ）酸化防止剤［２
，Ｂ−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどのフ
ェノール系酸化防止剤、トリス（２，４−’）−ｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイトなどのリン系酸化防止剤、
ジラウリル−３，３′−チオジプロピオネートなどのイ
オウ系酸化防止剤などコ；　（Ｋ）紫外線吸収剤（サリ
チル酸フェニル系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外
線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノ
アクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸
収剤など）；（Ｌ）活性剤［フッ素系界面活性剤（パー
フルオロアルキルスルホン酸アンモニウム塩、パーフル
オロアルキルスルホン酸アルカリ金属塩、パーフルオロ
アルキル４級アンモニウムヨウ化物、フッ素化アルキル
エステルなど）、シリコン系界面活性剤、炭化水素系界
面活性剤など］；（Ｍ）熱重合Ｍ　止剤（ハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール
、ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジンなど）；（Ｎ
）密着性付与剤（ベンゾトリアゾール、５−アミノ−１
，３，４−チアジアゾール−２−チオール、５−メルカ
プト−ＩＨ−１，２，４−トリアゾールなど）；（Ｐ）
アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性である
高分子結合剤（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸
、クロトン酸、無水マレイン酸からなる群より選ばれる
少な（とも１種の不飽和カルボン酸または酸無水物と、
ビニル単量体との共重合物など）；アミノ樹脂（メラミ
ンーホルムアルデヒドアミノ樹脂、尿素樹脂、ベンゾグ
アナミン樹脂など）などを併用することができる。

本発明の表面保護材（Ｉ）〜（Ｖ）は各々を構成する成
分を、各々通常、溶剤中で均一に混合して使用する。こ
の溶剤としては、これらの成分を溶解し、かつ、反応し
ないものであれば特に限定されない。この溶剤の具体例
としてはエステル類（エチレングリフールモノエチルエ
ーテルアセテート、エチレングリフールモノエチルエー
テルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート
、イソブチルイソブチレート、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテートなど）、エーテル類（エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ブチル
エーテル、ジイソアミルエーテル、ジエチレングリコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルなト）、ケ
トン類（メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンな
ど）、ノ入ロゲン化炭化水類（ｌ、２−エチレンジクロ
リド、ジクロロベンゼンなど）およびこれらの混合溶剤
が挙げられる。上記混合方法にはなんら制限は無く、全
構成成分を一度に溶剤に混合してもよく、また、必要に
応じて各成分１種または２種以上を同一または異種の溶
剤に別々に溶解して２種以上の溶液としたのちこれらの
溶液の混合により本発明の各表面保護材とすることもで
きる。

また溶剤中で混合する際の濃度は、特に限定されず、使
用目的および塗布方法により適宜選択されるが、通常ｌ
Ｏ〜８０重量％程度とすることが使用上好ましい。

また、無溶剤混合物とすることもでき、例えば、本発明
の各表面保護材の構成成分を加熱溶融状態、固体状態な
どで、充分に混合して用いることもできる。

本発明の表面保護層の形成法（Ｚ−１）、　（Ｚ−２）
において該基板としては、例えば、無機材料基板（ガラ
ス基板、シリコン基板、化合物半導体基板、金属基板な
ど）、有機樹脂基板（光透過性有機樹脂基板、顔料分散
有機樹脂基板など）、並びに、無機と有機材料の複合基
板（シリコン基板上に有機材料と無機材料を複合した基
板、ガラス基板上に有機材料と無機材料を複合した基板
など）が挙げられる。該基板の具体例としては、カラー
フィルター、その他、保護層の形成が求められる各種基
板が挙げられる。

カラーフィルターとしては、液晶表示素子、固体撮像素
子などの用途に通常使用されるカラーフィルターが挙げ
られ、通常、染色法、染料分散法、顔料分散法、印刷法
、電着法などの方法により製造されている。

本発明の各表面保護材を該基板上に槽布する方法を例示
すると、本発明の各表面保護材を、溶液状ないしは加熱
溶融などの状態で基体上に、スピンコード塗布、ロール
コート塗布、バーコーター塗布、スプレー塗布、印刷塗
布などの方法により、通常、塗布膜厚１ｍｍ以下となる
ように塗布する。

ただし、該基板がカラーフィルターをの場合は、塗布膜
厚は通常０．２〜ＩＯμｍである。

該形成法（Ｚ−１）においてはこの塗膜に、例えば、フ
ォトマスクを用いたパターン露光、該活性エネルギー線
の走査による直接描画などの方法により該活性エネルギ
ー線に対する露光部分（該所定部位）と未露光部分が作
成され、かつ、露光部分にのみ選択的に硬化が進行する
。該活性エネルギー線としては、例えば紫外線、遠紫外
線、電子線、可視光が挙げられ、光源としては超高圧水
銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、遠紫外線灯
、可視光レーザーなどを用いることができる。

未露光部分は、アルカリ水溶液（炭酸ナトリウムなどの
アルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウムなどのアルカリ
金属水酸化物、テトラメチルアンモニウムハイドロキサ
イドなどの有機アルカリなどの塩基の水溶液）、を機溶
剤（トリクロロエチレン、パークロロエチレン、メチレ
ンクロライドなどの有機ハロゲン化合物、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、エチル
セロソルブアセテートなどのエステル類など）などを用
いて現像することにより溶解除去されるので、該所定部
位のみの塗膜からなる表面保護層を形成することができ
る。この後、塗膜の硬化を更に完全なものとする必要が
ある場合は、上記に例示した活性エネルギー線の再照射
および／または加熱処理をしてもよい。加熱処理には、
循風炉、ホットプレート、赤外炉、遠赤外炉などを用い
ることができる。

該形成法（Ｚ−２）においては、上記の形成法（Ｚ　−
１）と同様の方法により、塗布、露光、現像の操作によ
り該所定部位のみの塗膜からなる表面保護層をまず形成
する。次いで、通常８０〜２５０℃の温度で、通常５分
〜１２０分間程度上記に例示した方法と同様にして加熱
処理し、硬化皮膜を熱重合と架橋によりさらに硬化させ
ることにより表面保護層を形成することができる。

このようにして形成された硬化膜は染料分散法、顔料分
散法、印刷法、電着法などの方法によりカラーフィルタ
ーを製造する場合には表面保護膜として、また、染色法
によりカラーフィルターを製造する場合には表面保護膜
および／または染色層の防染膜として利用できる。その
他、保護層の形成が求められる各種基板への利用により
、不要部分が除去された保護層を形成することができる
。

［実施例コ 以下、本発明を実施例により更に説明するが、本発明は
これに限定されない。

実施例１ ポリグリシジルメタクリレート／アクリル酸（重量平均
分子量約１５．０００１　　ポリグリシジルメタクリレ
ートとアクリル酸の反応物、酸当量／エポキシ当量比＝
０．８）（Ａ−１ａ）４０部、トリメチロールプロパン
トリアクリレート３部、ペンタエリスリトールトリアク
リレ−）１５部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン２部およびエチルセロソルブアセテート９
０部を均−溶解後０．２μｍのフィルターで濾過し、本
発明の表面保護材を得た。

１．７μｍの厚さを有するカラーフィルターパターンを
有するガラス基板上に上記表面保護材をスピンコードし
た後、８０℃で１０分間ベータして塗布膜厚２．０μｍ
の塗布膜を得た。次いでネガマスクを通して超高圧水銀
灯により５ａＯｍ　ｊ　／　ｃ　ｍ”の露光を行った後
、トリクロロエチレンを用いて３０℃で１分間スプレー
現像を行い、カラーフィルター上の露光部位のみに表面
保護層を形成した。得られた表面保護層の鉛筆硬度、テ
ープ剥離密着性および耐薬品性の評価結果を表−１に示
す。

実施例２ 実施例１で用いた（Ａ−１ａ）３５部、２−ヒ）’０キ
シエチルアクリレート１０部、ペンタエリスリトールト
リアクリレート８部、２−メチル−［４′−（メチルチ
オ）フェニルツー２−モルホリノ−１−プロパフフ２部
、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール２部、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン２部およびエチ
ルセロソルブアセテート９０部を均−溶解後０．２μｍ
のフィルターで濾過し、本発明の表面保護材を得た。上
記表面保護材を用いて実施例１と同様に塗布、露光、現
像を行いカラーフィルター上の露光部位のみに表面保護
材層を形成した。これを１５０℃で３０分間加熱処理し
表面保護層を形成した。得られた表面保護層の鉛筆硬度
、テープ剥離密着性および耐薬品性の評価結果を表−１
に示す。

実施例３ グリシジルメタクリレート−ベンジルアクリレート／ア
クリル酸（重量平均分子量約２０，０００、グリシジル
メタクリレートとベンジルアクリレートとの共重合体と
アクリル酸の反応物、酸当量／エポキシ当量比＝１．０
）　　（Ａ−１ｂ）　３８部、ペンタエリスリトールト
リアクリレート１２部、ｌ−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン２１Ｂ、３．４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート３０部、無水トリメリド酸、γ−グリシドキシプ
ロビルトリメトキシシラン２部、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル２０部およびエチルセロソルブアセテ
ート１１０部を均−溶解後０．２μｍのフィルターで濾
過し、本発明の表面保護材を得た。これを実施例２と同
様に評価した結果を表−１に示す。

実施例４ グリシジルメタクリレート−メタクリル酸メチルー（メ
タクリル酸−ｎ−ブチル）／アクリル酸（重量平均分子
量約１５，０００、酸当量／エポキシ当量比＝ＱＪ）　
　（Ａ−１ｃ）４１部、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート４部、トリグリシジルイソシアヌレート／アクリル
酸（ｌ／３のモル比）反応物８部、ｌ−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトン２部、ヘキサヒドロフタル酸
ジグリシジルエステル２０部、２−フェニルイミダゾー
ル２部およびエチルセロソルブアセテート１２０部を均
一溶解後０．２μｍのフィルターで濾過し、本発明の表
面保護材を得た。これを実施例２と同様に評価した結果
を表−１に示す。

実施例５ ポリグリシジルメタクリレート／アクリル酸／テトラヒ
ドロ無水フタル酸（重量平均分子量約１５．０００、ポ
リグリシジルメタクリレートとアクリル酸の反応物と、
テトラヒドロ無水フタル酸との反応物；酸当量／エポキ
シ当量比＝１．０、酸当量／水酸基当量比＝１．３）　
　（Ａ−２ａ）　３７部、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート５部、トリメチロールプロパントリアクリレート
１０部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン２部およびエチルセロソルブアセテート８０部を均
一溶解後０．２μｍのフィルターで濾過し、本発明の表
面保護材を得た。１．７μｍの厚さを有するカラーフィ
ルターパターンををするガラス基板上に上記表面保護材
をスピンコートシた後、８０℃で１０分間ベータして塗
布膜厚２、（Ｉｎの塗布膜を得た。次いでネガマスクを
通して超高圧水銀灯により５００ｍ　ｊ　／　ｃ　ｍ２
の露光を行った後、１％炭酸ナトリウム水溶液を用いて
３０℃で１分間スプレー現像を行い、カラーフィルター
上の露光部位のみに表面保護材層を形成した。これを１
５０℃で３０分間加熱処理し表面保護層を形成した。

得られた表面保護層の鉛筆硬度、テープ剥離密着性およ
び耐薬品性の評価結果を表−１に示す。

実施例６ ポリグリシジルメタクリレート／アクリル酸／ヘキサヒ
ドロ無水フタル酸（重量平均分子量約１８．０００、酸
当量／エポキシ当量比＝１，０、酸当量／水酸基当量比
＝１．４）　　（Ａ−２ｂ）　４０部、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート１０部、ペンタエリスリトヵ　−シ
トリアクリレート８部、２−メチル−［４′−（メチル
チオ）フェニルツー２−モルホリノ−１−フ０３フフ２
部、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン２部
およびエチルセロソルブアセテート９０部を均一溶解後
０．２μｍのフィルターで濾過し、本発明の表面保護材
を得た。これを実施例５と同様に評価した結果を表−１
に示す。

実施例７ 実施例５で用いた（Ａ−２ａ）４２部、トリメチロール
プロパントリアクリレート５部、ペンタエリスリトール
トリアクリレート５部、ｌ−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン２部、ビス（３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチル）アジペート３０部、無水トリメリド酸５
部、ジエチレングリコールジメチルエーテル２０部およ
びエチルセロソルブアセテ−）１１０部を均一溶解後０
．２μｍのフィルターで濾過し、本発明の表面保護材を
得た。これを実施例５と同様に評価した結果を表−１に
示す。

実施例８ 実施例６で用いた（Ａ−２ｂ）３８部、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート８部、トリグリシジルイソシアヌレ
ート／アクリル酸（ｌ／３のモル比）反応物８部、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン２部、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシシクロヘキシル）プロパンジグリシジルエーテ
ル２５部、２−フェニルイミダゾール２部、γ−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシラン２部およびエチルセ
ロソルブアセテート１３０部を均一溶解後０．２μｍの
フィルターで濾過し、本発明の表面保護材を得た。これ
を実施例５と同様に評価した結果を表−１に示す。

実施例９ グリシジルメタクリレート−ベンジルアクリレート／ア
クリル酸／ヘキサヒドロ無水フタル酸（重量平均分子量
約１６，０００、酸当量／エポキシ当量比＝１．０、酸
当量／水酸基当量比＝　ＩＪ）（Ａ−２ｃ）４０部、２
−ヒドロキシエチルアクリレート４部、トリメチロール
プロパントリアクリレート】０部、２−メチル−［４’
　−（メチルチオ）フェニルツー２−モルホリノ−１−
フ０３フフ２部、３，４−エポキジシクロヘキシルメチ
ル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
３０部、Ｉ−ベンジル−２−メチルイミダゾール２餌、
γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン２部およ
びエチルセロソルブアセテート８０部を均一溶解後０．
２μｍのフィルターで濾過し、本発明の表面保護材を得
た。これを実施例５と同様に評価した結果を表−Ｉに示
す。

実施例１０ 実施例５で用いた（Ａ−２ａ）４５部、２−ヒＦｃｌキ
シエチルアクリレート１Ｏｆｊ！５、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート６部、１−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン２部、無水トリメリド酸５部、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル２５部およびエチル
セロソルブアセテートｓＯＮを均一溶解した溶液と、ｌ
、６−ヘキサンジオールジグリシジルｘ　−ｆル２５部
ヲエチルセロンルブアセテート２５部に均一溶解した溶
液をさらに均一溶解して本発明の表面保護材を得た。こ
れを実施例５と同様に評価した結果を表−１に示す。

表−１ （注）評価方法： 鉛筆硬度　；　　ＪＩＳ　　Ｋ−５４００テープ剥離；
　　Ｊ　Ｉ　Ｓ　　Ｄ−０２０２耐液性；Ｃ−３５％塩
酸水溶液、４０″Ｃｘ１５分ｄ−１０％ＮａＯＨ水溶液
、４０″Ｃｘ１Ｓ分ｅ−Ｎ−メチルピロリドン、室温×
２時間浸漬後の外観変化　０：変化無し ［発明の効果コ 本発明の表面保護材を用いた本発明の方法により、ドラ
イエツチングなどの特殊な操作を用いることなく、通常
の現像操作により容易に不要部分が除去された保護層を
形成するととができる。この表面保護材および方法をカ
ラーフィルター保護膜層の形成に用いることにより、カ
ラーフィルタ一部分以外の保護膜を除去し、ガラス表面
上に保護膜を介さずに直接、該透明導電材料を形成する
ことができ、シール部分の密着性、および実装端子部分
における透明導電材料と回路基板部分の接続の信頼性な
どの向上した液晶表示素子とすることができる。また、
形成された保護膜は耐熱性、耐薬品性、透明性などの各
種特性にも優れている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、グリシジル（メタ）アクリレートを構成単位として
   含有する重合体（イ）と不飽和カルボン酸（ロ）との反
   応物（Ａ−１）、光重合性単量体（Ｂ）および光重合開
   始剤（Ｃ）を組み合わせてなることを特徴とする表面保
   護材。 ２、グリシジル（メタ）アクリレートを構成単位として
   含有する重合体と不飽和カルボン酸との反応物（Ａ−１
   ）、光重合性単量体（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および
   エポキシ硬化剤（Ｄ）を組み合わせてなることを特徴と
   する表面保護材。 ３、グリシジル（メタ）アクリレートを構成単位として
   含有する重合体と不飽和カルボン酸との反応物（Ａ−１
   ）、光重合性単量体（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、エポ
   キシ硬化剤（Ｄ）および分子中にエポキシ基を少なくと
   も２個有するエポキシ化合物（Ｅ）を組み合わせてなる
   ことを特徴とする表面保護材。 ４、グリシジル（メタ）アクリレートを構成単位として
   含有する重合体と不飽和カルボン酸との反応物（Ａ−１
   ）と飽和または不飽和の多塩基酸無水物（ハ）との反応
   物（Ａ−２）、光重合性単量体（Ｂ）および光重合開始
   剤（Ｃ）を組み合わせてなることを特徴とする表面保護
   材。 ５、グリシジル（メタ）アクリレートを構成単位として
   含有する重合体と不飽和カルボン酸との反応物と飽和ま
   たは不飽和の多塩基酸無水物との反応物（Ａ−２）、光
   重合性単量体（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、エポキシ硬
   化剤（Ｄ）および分子中にエポキシ基を少なくとも２個
   有するエポキシ化合物（Ｅ）を組み合わせてなることを
   特徴とする表面保護材。 ６、請求項１または４記載の表面保護材を基板上に塗布
   後、所定部位のみに活性エネルギー線を照射したものを
   、溶剤による現像処理により未硬化部分を除去し、必要
   により活性エネルギー線の照射および／または加熱処理
   することを特徴とする表面保護層の形成法。 ７、請求項２、３または５記載の表面保護材を基板上に
   塗布後、所定部位のみに活性エネルギー線を照射したも
   のを、溶剤による現像処理により未硬化部分を除去した
   後、加熱処理することを特徴とする表面保護層の形成法
   。