JPH04178366A - 3―アミノ―4―メチレンピロリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
3―アミノ―4―メチレンピロリジン誘導体の製造方法Info
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- JPH04178366A JPH04178366A JP2308093A JP30809390A JPH04178366A JP H04178366 A JPH04178366 A JP H04178366A JP 2308093 A JP2308093 A JP 2308093A JP 30809390 A JP30809390 A JP 30809390A JP H04178366 A JPH04178366 A JP H04178366A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は3−アミノ−4−メチレンピロリジン誘導体の
製造方法に関し、きらに詳しくは有用な抗菌剤であるピ
リドンカルボン酸の7位を形成するピロリ〉ン誘導体の
製造方法に関する。
製造方法に関し、きらに詳しくは有用な抗菌剤であるピ
リドンカルボン酸の7位を形成するピロリ〉ン誘導体の
製造方法に関する。
(以下余白)
従来の技術
一般式:
で示きれる特開平2−191273記載のピリドンカル
ボン酸は、高い抗菌作用を広範囲で示す有用な抗菌剤で
ある。その7−ビロリシノ側鎖の4位アルキレン側鎖は
、 式: %式%(33 で示諮れるフェニルセレノ体を経由する方法で導入きれ
ている。
ボン酸は、高い抗菌作用を広範囲で示す有用な抗菌剤で
ある。その7−ビロリシノ側鎖の4位アルキレン側鎖は
、 式: %式%(33 で示諮れるフェニルセレノ体を経由する方法で導入きれ
ている。
明が解決しようとする課題
従来のフェニルセレノ体を経由する7位側鎖の製造方法
は、N−フェニルセレノフタルイミドなとの特殊かつ有
害な有機金属試薬を必要とした6そのため工業的大量製
造方法としては、簡便性および安全性の面から十分満足
できるものでなかった。
は、N−フェニルセレノフタルイミドなとの特殊かつ有
害な有機金属試薬を必要とした6そのため工業的大量製
造方法としては、簡便性および安全性の面から十分満足
できるものでなかった。
課題を解決するための手段
本発明者らはこれらの問題を解決すべく鋭意研究した結
果、 式: (式中、R1、R2およびR3は前記と同義)で示され
る3−アミノ−4−オキソピロリジン誘導体(I[>ヲ
用いれば、4位にメチレン側鎖を有害で特殊な試薬を使
用することなく、簡便かつ安全な方法で導入できること
を見出し、本発明を完成した。
果、 式: (式中、R1、R2およびR3は前記と同義)で示され
る3−アミノ−4−オキソピロリジン誘導体(I[>ヲ
用いれば、4位にメチレン側鎖を有害で特殊な試薬を使
用することなく、簡便かつ安全な方法で導入できること
を見出し、本発明を完成した。
(以下余白)
即ち、本発明は、
式゛
(式中、R1およびR3はアミノ保護基、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わす)で示芒れるケトン体〈π)
をメチレン化することを特徴とする式:(式中、R1,
R2およびR3は前記と同義)で示されるエキソメチレ
ン体(I>の製造方法を提供するものである。
たは低級アルキルを表わす)で示芒れるケトン体〈π)
をメチレン化することを特徴とする式:(式中、R1,
R2およびR3は前記と同義)で示されるエキソメチレ
ン体(I>の製造方法を提供するものである。
(以下余白)
以下に本発明の詳細な説明する。
ケトン体(I[)のエキソメチレン化は、例えば、(1
)メチレン化試薬として、(caHs )、P=CH2
または(RO)=P(0)=CH*(式中、Rはフェニ
ルまたは低級アルキルを表わす)などで示きれる有機リ
ンイリドを用いたWittig at al、、 Ch
em、 Ber、、 87.1318゜(1954)ま
たはOrg、 React。、 25.73. (19
77)などに記載されているライ・/チヒ(Witti
g)型反応(これらの反応は通常、例えば、反応溶媒と
して、炭化水素系溶媒のトルエンなど、エーテル系溶媒
のテトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどまたは非
プロトン性極性溶媒のジメチルスルホキシド、HMPA
なとを用い、反応温度−201C〜100℃で、数分か
ら数時間反応きせることにより行なうことができる。)
、(2)メチレン化試薬として、cut(Mgr)t(
式中、Xoはハロゲンを表わす)または(CHs )J
sicHzLiもしくは(C)13)3SiCH!Mg
X’(式中、Xoは前記と同義)で示諮れる求核試薬を
用いた、F、 Bertini et al、、 Te
t、、 26.1281゜<1970)またはり、 P
eterson et al、、 J、A、C,S、。
)メチレン化試薬として、(caHs )、P=CH2
または(RO)=P(0)=CH*(式中、Rはフェニ
ルまたは低級アルキルを表わす)などで示きれる有機リ
ンイリドを用いたWittig at al、、 Ch
em、 Ber、、 87.1318゜(1954)ま
たはOrg、 React。、 25.73. (19
77)などに記載されているライ・/チヒ(Witti
g)型反応(これらの反応は通常、例えば、反応溶媒と
して、炭化水素系溶媒のトルエンなど、エーテル系溶媒
のテトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどまたは非
プロトン性極性溶媒のジメチルスルホキシド、HMPA
なとを用い、反応温度−201C〜100℃で、数分か
ら数時間反応きせることにより行なうことができる。)
、(2)メチレン化試薬として、cut(Mgr)t(
式中、Xoはハロゲンを表わす)または(CHs )J
sicHzLiもしくは(C)13)3SiCH!Mg
X’(式中、Xoは前記と同義)で示諮れる求核試薬を
用いた、F、 Bertini et al、、 Te
t、、 26.1281゜<1970)またはり、 P
eterson et al、、 J、A、C,S、。
97、1464. (1975)なとに記載されている
グリ二〜−ル型反応またはベーターソン型反応(これら
の反応は通常、例えは、反応溶媒として、エーテル系溶
媒のテトラヒドロフラン、〉エチルエーテル、ジメトキ
シエタンなどまたは炭化水素系溶媒のベンゼン、トルエ
ンなどを用い、反応温度−50℃〜100℃で、数分か
ら数時間反応させることにより行なうことができる。)
あるいは、(3)メチレン化試薬として、CHt X
’ *−Zn−ルイス酸(式中、Xは前記と同義)、例
えば、CHJra−Zn−TiC14またはCHJ’−
−Zn−有機金属化合物(式中、Xoは前記と同義)、
例えは、CHJr、−Zn−Cp*ZrC1tなどの金
属亜鉛を用いたH、 Nozaki et al、 、
Bull、 Chem、 Soc。
グリ二〜−ル型反応またはベーターソン型反応(これら
の反応は通常、例えは、反応溶媒として、エーテル系溶
媒のテトラヒドロフラン、〉エチルエーテル、ジメトキ
シエタンなどまたは炭化水素系溶媒のベンゼン、トルエ
ンなどを用い、反応温度−50℃〜100℃で、数分か
ら数時間反応させることにより行なうことができる。)
あるいは、(3)メチレン化試薬として、CHt X
’ *−Zn−ルイス酸(式中、Xは前記と同義)、例
えば、CHJra−Zn−TiC14またはCHJ’−
−Zn−有機金属化合物(式中、Xoは前記と同義)、
例えは、CHJr、−Zn−Cp*ZrC1tなどの金
属亜鉛を用いたH、 Nozaki et al、 、
Bull、 Chem、 Soc。
Jap、、 53.1698. (1980)、L、
Lombardo、 TetLett、、 23.42
93. (1982)またはJ、 M、 Tour e
tal、、 Tet、 Lett、、 30.3927
. (1989)などに記載されている反応(これらの
反応は通常、例えば、反応溶媒として、エーテル系溶媒
のテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシ
エタンなどまたは炭化水素系溶媒のベンゼン、トルエン
なとを用い、反応温度−50°C〜100″Cで、数分
から数時間反応きせることにより行なうことができる。
Lombardo、 TetLett、、 23.42
93. (1982)またはJ、 M、 Tour e
tal、、 Tet、 Lett、、 30.3927
. (1989)などに記載されている反応(これらの
反応は通常、例えば、反応溶媒として、エーテル系溶媒
のテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシ
エタンなどまたは炭化水素系溶媒のベンゼン、トルエン
なとを用い、反応温度−50°C〜100″Cで、数分
から数時間反応きせることにより行なうことができる。
)なと、通常用いられている反応により行なうことがで
きる。
きる。
式(II)で示される出発物質は、3−ピロリンより製
造することができる。即ち、以下の反応工程に示すよう
に、 (式中、Hl、R2およびR3は前記と同義)3−ピロ
リンを一連のN−保護反応、過酸にょるエポキシ化反応
、式: R2NH,(式中、R2は前記と同義〉で示さ
れるアミンによる開環反応、N−保護反応およびスワン
酸化またはクロム酸塩(PCC、Jones試薬など)
による酸化反応に順次付すことにより製造できる。
造することができる。即ち、以下の反応工程に示すよう
に、 (式中、Hl、R2およびR3は前記と同義)3−ピロ
リンを一連のN−保護反応、過酸にょるエポキシ化反応
、式: R2NH,(式中、R2は前記と同義〉で示さ
れるアミンによる開環反応、N−保護反応およびスワン
酸化またはクロム酸塩(PCC、Jones試薬など)
による酸化反応に順次付すことにより製造できる。
R1およびR3で表わきれるアミノ保護基として、接触
還元を使わずに除去できるものであれば、通常使用され
ているもの、例えば、プロテクティブ・グループ イン
・オルガニック・ケミストリー(Protective
Group in Organic Chmistr
y)、ジエイ エフ・ダブリュー・マツコーミー(J、
F、 W。
還元を使わずに除去できるものであれば、通常使用され
ているもの、例えば、プロテクティブ・グループ イン
・オルガニック・ケミストリー(Protective
Group in Organic Chmistr
y)、ジエイ エフ・ダブリュー・マツコーミー(J、
F、 W。
McOmie)iii、 1973年、44頁〜74頁
に記載されているものを用いることができる。好ましい
アミン保護基としては、例えば、ベンゾイル、アセチル
、ホルミル、トリフルオロアセチルなどのアシル誘導体
、ベンジルオキシカルボニル、1−ブトキシカルボニル
、イソプロポキシカルボニル、メトキシカルボニルなど
のウレタン型誘導体またはアリル、ヘンジノし、トリチ
ノ呟テトラヒドロピラニルなどのアルキル誘導体などを
挙げることができる。
に記載されているものを用いることができる。好ましい
アミン保護基としては、例えば、ベンゾイル、アセチル
、ホルミル、トリフルオロアセチルなどのアシル誘導体
、ベンジルオキシカルボニル、1−ブトキシカルボニル
、イソプロポキシカルボニル、メトキシカルボニルなど
のウレタン型誘導体またはアリル、ヘンジノし、トリチ
ノ呟テトラヒドロピラニルなどのアルキル誘導体などを
挙げることができる。
R2で表わされる低級アルキルとして、C1〜C6アル
キル、例えは、メチ4.エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ペンチルなどを挙げることができる。
キル、例えは、メチ4.エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ペンチルなどを挙げることができる。
以下に、実施例および参考例を示し、本発明を更に詳し
く説明するが、これらは本発明を何ら限定するものでな
い。
く説明するが、これらは本発明を何ら限定するものでな
い。
(以下余白)
実施例1
l−t−ブトキシカルボニル−3〜(N−メトキンカル
ボニル−N−メチル)アミノ−4−メチレンピロリジン
1aの製造 1−t−ブトキシカルボニル−3−(N−メトキシカル
ボニル−N−メチル)アミノ−4−オキソピロリシンI
Ia35、 Og(0,13mol>、亜鉛末68.0
g(0,13x8mol)、ジルコノセンジクロリド(
Cp、ZrC1,>45.0g(0,13x1.2rn
ol)、ジブロムメタン20+n1(0,13x2.2
mol)をテトラヒドロフラン250m1に加え、水冷
下、1時間攪拌する。反応液にトルエン500m1を加
え、濾過する。濾液を500m1まで濃縮して、飽和炭
酸ナトリウム水溶液で洗浄する。有機層をシリカゲルク
ロマトグラフィー(シリカゲル: soog;溶出溶媒
:トルエン−トルエン/酢酸エチル=s/l:(tすこ
とにより油状の標題化合物聾を17.0g得る。
ボニル−N−メチル)アミノ−4−メチレンピロリジン
1aの製造 1−t−ブトキシカルボニル−3−(N−メトキシカル
ボニル−N−メチル)アミノ−4−オキソピロリシンI
Ia35、 Og(0,13mol>、亜鉛末68.0
g(0,13x8mol)、ジルコノセンジクロリド(
Cp、ZrC1,>45.0g(0,13x1.2rn
ol)、ジブロムメタン20+n1(0,13x2.2
mol)をテトラヒドロフラン250m1に加え、水冷
下、1時間攪拌する。反応液にトルエン500m1を加
え、濾過する。濾液を500m1まで濃縮して、飽和炭
酸ナトリウム水溶液で洗浄する。有機層をシリカゲルク
ロマトグラフィー(シリカゲル: soog;溶出溶媒
:トルエン−トルエン/酢酸エチル=s/l:(tすこ
とにより油状の標題化合物聾を17.0g得る。
収率49z。
実施例2
亜鉛末1.52g(5/5mmol)の10m1テトラ
ヒト+=r7ラン懸濁液に、ジブロムメタン770u
1(5x2.2n+mol)を加え、−60℃で攪拌す
る。L OM l1C1,/クロロメタン溶液7.5m
1(5x1.5mmol)を加えた後、10分間を要し
て0℃とする。続いて、ケトン体)Ia 1.36g(
5,0mmol)の5mlテトラヒドロフラン溶液を加
工、室温にて、3時間攪拌する。反応液にエーテル、水
を加え、エーテル層を水洗、乾燥後、減圧下に溶媒を留
去する。残渣をローパーカラムBを用いたクロマトグラ
フィー(溶出溶媒: トルエン/酢酸エチル−571)
に付すことにより油状の標題化合物聾を500cog得
る。収率33′y、。
ヒト+=r7ラン懸濁液に、ジブロムメタン770u
1(5x2.2n+mol)を加え、−60℃で攪拌す
る。L OM l1C1,/クロロメタン溶液7.5m
1(5x1.5mmol)を加えた後、10分間を要し
て0℃とする。続いて、ケトン体)Ia 1.36g(
5,0mmol)の5mlテトラヒドロフラン溶液を加
工、室温にて、3時間攪拌する。反応液にエーテル、水
を加え、エーテル層を水洗、乾燥後、減圧下に溶媒を留
去する。残渣をローパーカラムBを用いたクロマトグラ
フィー(溶出溶媒: トルエン/酢酸エチル−571)
に付すことにより油状の標題化合物聾を500cog得
る。収率33′y、。
化合物にの物理恒数
元素分析(C,、H,。N、0.として)計JI値(%
): C,62,24; H,9,50; N、 13
.20;実?11Hii(X): C,6196; H
,9,43; N、 13.20゜IR(film)ν
max 1700 cm−’。
): C,62,24; H,9,50; N、 13
.20;実?11Hii(X): C,6196; H
,9,43; N、 13.20゜IR(film)ν
max 1700 cm−’。
200MHz−NMR(CDCIs)SI)I)m
1.47(s、9H)、 2.76(s。
1.47(s、9H)、 2.76(s。
3H)、 3.27(br、t、J=8Hz、LH)、
3.75(m、1)1)、 3.74(s、3B)、
4.02(br、s、2H)、 4.98<m、LH
)、 5.19(brs、LH)、 5.37(br、
s、1)1)。
3.75(m、1)1)、 3.74(s、3B)、
4.02(br、s、2H)、 4.98<m、LH
)、 5.19(brs、LH)、 5.37(br、
s、1)1)。
(以下余白)
参考例1
l−t−ブトキシカルボニル−3−(N−メトキシカル
ボニル−N−メチル)アミノ−4−オキソピロリシンI
Iaの製造 <1)3−ピロリン34.0gの10On+1メタノー
ル溶液に、水冷下、t−ブチルオキシカルボン酸無水物
を加え、室温下、5.0時間攪拌した後、減圧下溶媒を
留去する。残渣をジブロムメタン500+++1に溶解
し、m−クロロ過安息香酸(85X>120gを室温下
、2日間に渡り数回に分けて加える。析出物を濾去し、
濾液を濃縮後、トルエン/ヘキサン−1/1を加え、再
び析出物を濾去する。濾液を希チオ硫酸ナトリウム水溶
液、次いで、金型炭酸ナトリウム水溶液、さらに水にて
洗浄後、溶媒を留去すると98gの1−t−ブトキシカ
ルボニル−3,4−エポキシピロリジン塁を得る。収率
:定量的 (2)エポキシ体32.50gを402メチルアミン水
溶液20m1に溶解し、室温下、2日間放置する。反応
液を減圧下乾固し、残渣をエーテルより結晶化すると2
.30gの1−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキ
シ−3−メチルアミノピロリジン4を得る。
ボニル−N−メチル)アミノ−4−オキソピロリシンI
Iaの製造 <1)3−ピロリン34.0gの10On+1メタノー
ル溶液に、水冷下、t−ブチルオキシカルボン酸無水物
を加え、室温下、5.0時間攪拌した後、減圧下溶媒を
留去する。残渣をジブロムメタン500+++1に溶解
し、m−クロロ過安息香酸(85X>120gを室温下
、2日間に渡り数回に分けて加える。析出物を濾去し、
濾液を濃縮後、トルエン/ヘキサン−1/1を加え、再
び析出物を濾去する。濾液を希チオ硫酸ナトリウム水溶
液、次いで、金型炭酸ナトリウム水溶液、さらに水にて
洗浄後、溶媒を留去すると98gの1−t−ブトキシカ
ルボニル−3,4−エポキシピロリジン塁を得る。収率
:定量的 (2)エポキシ体32.50gを402メチルアミン水
溶液20m1に溶解し、室温下、2日間放置する。反応
液を減圧下乾固し、残渣をエーテルより結晶化すると2
.30gの1−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキ
シ−3−メチルアミノピロリジン4を得る。
Mp、 98−99℃。収率79z0
IR(Nujol)L/max 3300.3070.
1685 am−’200MHz−NMR(CDC1,
)Sppm 1.46(s、9H)、 2.46(s。
1685 am−’200MHz−NMR(CDC1,
)Sppm 1.46(s、9H)、 2.46(s。
3)1)、 3.00−3.30(m、38)、 3.
60−3.75(m、2H)、 4.10(dt、 J
=5.5.LH)。
60−3.75(m、2H)、 4.10(dt、 J
=5.5.LH)。
(3)アミノアルコール42.61.gのテトラヒドロ
フラン40m1溶液に、−30℃下、トリエチルアミン
1.80m1、クロル炭酸メチル852μmを加え、室
温下20分間攪拌する。溶媒を減圧下留去し、残渣にエ
ーテルを力aえ水洗後、溶媒を減圧下留去すると、飴状
の1−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキシ−3−
(N−メトキシカルボニル−N−メチル)アミノピロリ
ジン52.80gを得る。収率定量的。
フラン40m1溶液に、−30℃下、トリエチルアミン
1.80m1、クロル炭酸メチル852μmを加え、室
温下20分間攪拌する。溶媒を減圧下留去し、残渣にエ
ーテルを力aえ水洗後、溶媒を減圧下留去すると、飴状
の1−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキシ−3−
(N−メトキシカルボニル−N−メチル)アミノピロリ
ジン52.80gを得る。収率定量的。
IR(film)νmax 3410.1680−17
10 am−’200MHz−NMR(CDC1,)S
ppm 1.46(s、9H)、 2.86(s。
10 am−’200MHz−NMR(CDC1,)S
ppm 1.46(s、9H)、 2.86(s。
3H)、 3.20〜3.40(m、3H)、 3.7
3(s、3H)、 4.20(m。
3(s、3H)、 4.20(m。
IH)、 4.25〜4.50(m、28)。
(4〉オキザリルクロリド0.4m1(4,4m1)の
50m1レクロロメタン溶液を−5010に冷却し、D
MSOo、7mH9,6mmol)を加え、−30°C
にて5分間攪拌する。
50m1レクロロメタン溶液を−5010に冷却し、D
MSOo、7mH9,6mmol)を加え、−30°C
にて5分間攪拌する。
そこにN−カルバメート体51.10g(4,0mmo
l)の4mlmクンロメタン溶液を加え、−20℃にて
15分間攪拌する。更にトリエチルアミン3n+1を加
え、10分間を要して室温とし、水洗後、乾燥、減圧下
溶媒を留去して、飴状の標題化合物IIa 1.05g
を得る。収率96z0 IR(film)しmax 1765. 1690 c
m−’200MHz−NMR(CDCIs )δppm
1.48(s、9H)、 2.97(s。
l)の4mlmクンロメタン溶液を加え、−20℃にて
15分間攪拌する。更にトリエチルアミン3n+1を加
え、10分間を要して室温とし、水洗後、乾燥、減圧下
溶媒を留去して、飴状の標題化合物IIa 1.05g
を得る。収率96z0 IR(film)しmax 1765. 1690 c
m−’200MHz−NMR(CDCIs )δppm
1.48(s、9H)、 2.97(s。
3H)、 3.30〜3.55(m、LH>、 3.7
1(s、3H)、 3.80〜3.95(m、2H)、
4.00〜4.40(m、2H)。
1(s、3H)、 3.80〜3.95(m、2H)、
4.00〜4.40(m、2H)。
実施例で得られたアミン体kを脱保護反応に付した後、
特開平2−191273記載の実施例と同様に反応、処
理すると、アミン体聾は、すぐれた抗菌作用を有するピ
リドンカルボン酸誘導体の7位側鎖を形成する。
特開平2−191273記載の実施例と同様に反応、処
理すると、アミン体聾は、すぐれた抗菌作用を有するピ
リドンカルボン酸誘導体の7位側鎖を形成する。
Claims (1)
- (1) 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3はアミノ保護基、R^2は
水素または低級アルキルを表わす)で示されるケトン体
をメチレン化することを特徴とする式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同義)で
示されるエキソメチレン体の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2308093A JPH04178366A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 3―アミノ―4―メチレンピロリジン誘導体の製造方法 |
TW080108523A TW203605B (ja) | 1990-11-13 | 1991-10-30 | |
EP19910119272 EP0485952A3 (en) | 1990-11-13 | 1991-11-12 | Process for production of 3-amino-4-methylenepyrrolidine derivatives |
KR1019910020061A KR920009792A (ko) | 1990-11-13 | 1991-11-12 | 3-아미노-4-메틸렌피롤리딘 유도체의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2308093A JPH04178366A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 3―アミノ―4―メチレンピロリジン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04178366A true JPH04178366A (ja) | 1992-06-25 |
Family
ID=17976783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2308093A Pending JPH04178366A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 3―アミノ―4―メチレンピロリジン誘導体の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0485952A3 (ja) |
JP (1) | JPH04178366A (ja) |
KR (1) | KR920009792A (ja) |
TW (1) | TW203605B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001072659A (ja) * | 1998-11-30 | 2001-03-21 | Toray Ind Inc | ピロリジン誘導体の製造法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104693088B (zh) * | 2013-12-06 | 2018-01-05 | 常州市勇毅生物药业有限公司 | 一种吉米沙星侧链的制备方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1332605C (en) * | 1988-10-03 | 1994-10-18 | Yasuhiro Nishitani | Pyridonecarboxylic acids |
-
1990
- 1990-11-13 JP JP2308093A patent/JPH04178366A/ja active Pending
-
1991
- 1991-10-30 TW TW080108523A patent/TW203605B/zh active
- 1991-11-12 KR KR1019910020061A patent/KR920009792A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-11-12 EP EP19910119272 patent/EP0485952A3/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001072659A (ja) * | 1998-11-30 | 2001-03-21 | Toray Ind Inc | ピロリジン誘導体の製造法 |
JP4582366B2 (ja) * | 1998-11-30 | 2010-11-17 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | ピロリジン誘導体の製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR920009792A (ko) | 1992-06-25 |
EP0485952A3 (en) | 1993-01-20 |
EP0485952A2 (en) | 1992-05-20 |
TW203605B (ja) | 1993-04-11 |
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