JPH04175759A - 表面が交差線状に粗面化された感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、表面保護層を有する感光体に関し、さらに、
詳しくは、表面が無数の互いに交差する線状傷により粗
面化されている感光層上に表面保護層を形成した感光体
に関する。

従来の技術および課題 近年、電子写真感光体に用いられる感光層としては、セ
レン等無機光導電性材料または有機光導電性材料で構成
した種々のものが提案されているが、一般に硬度の低い
感光層は、繰り返し使用における転写紙、クリーニング
部材、現像剤等の摩耗により感光体が削れ、傷付きやす
い。

そこで、そのような問題を解決するために硬度の不充分
な感光層の表面には、表面保護層を設ける技術が提案さ
れている。

かかる表面保護層の一種として、適当な有機化合物のプ
ラズマ重合膜または金属化合物の蒸着膜等の真空薄膜が
提案されている（例えば特開昭６０−３２０５５号公報
等）。

発明が解決しようとする課題 このような表面保護層を有する感光体は、表面保護層を
有しない感光体に比べ、耐久性に優れ、常温常湿下での
長期使用に関しては充分な膜強度を有してはいるが、長
期使用後の耐湿性は充分とは言えず、高湿度環境下で繰
り返し使用していると、複写画像のぼ（プ、流ね等が発
生ずる。

本発明は、かかる車状に鑑みなされたものであって、従
来、表面保護層を何ら処理を施していない感光層上に直
接形成していたことに代え、感光層表面を無数の互いに
交差する線状傷により粗面化した後に、真空薄膜からな
る表面保護層を感光層上に形成することにより、上記問
題点を解決するものである。

一蕉全絆ブ〕灸女−リー＠壬−障 すなわち、本発明は導電性支持体上に光導電性感光層お
よび該光導電性感光層上に真空薄膜からなる表面保護層
を有する感光体において、表面が無数の互いに交差する
線状傷により粗面化されている光導電性感光層上に真空
薄膜が形成されていることを特徴とする感光体に関する
。

本発明の感光体は、導電性支持体上に光導電性感＃：、
層が形成きＩ’する。このような感光層どしては、一般
に表面保護層が必要とされる感光層であれば、特に限定
されるものではない。具体的にはセレン系感光層、例え
ばセレノ砒素合金の単Ｎ＊成よりなるもの、セレンとセ
Ｌ−＞デルル合金をこの順に設けたｔＩＩ層構成よりな
るもの、種々の光導電性物質を適当な樹脂中に分散させ
た構成の有機系感光層、またはａ−５ｉ悪感光等の硬度
の大きな感光層上に樹脂層を設けた構成のもの等を挙げ
ることができる。

本発明は、そのような感光層表面トに互いに交差する線
状傷を無数に形成する。本発明においては、線状傷は、
以下に記載の一定の傷の形状と表面粗さ（傷の深さ）を
有するように形成する。

第１図に、感光層表面の一部を抜き出し、その表面の傷
の形状を模式的に示した。

第１図は、傷の形状か規則的なものを示しているが、第
２図に示したごとくその形状は不規則、不定形のもので
あってもよい。

傷の形状は、交差角度（θ（度））、傾き角度（σ。

β（度）〕、ピッチ（Ｃ（μＬ１１））、傷の幅（ｗ（
μｍ））で規定される。

本発明においては交差角度は、３０〜１５０度、好まし
くは６０〜１２０度であり、傾き角度、（ａ、β）は、
いずれも１５〜７５度、好ましく　Ｉｉ：３０〜６０度
である。それらの値よりも小さいと、トナーのフィルミ
ング、融着、ブレードの摩耗、研磨筋の画像ノイズ発生
等の問題が生じる。また、それらの値よりも大きいと、
トナーの拭き残しや研磨筋の画像ノイズ発生等の問題が
生じる。

ピンチ（ｆｆ）は、２００μｍ以下、好ましくは１２０
μｍ以下である。下限は特に限定はないが１μｍ程度あ
ればよい。傷の幅（ｖ）は、３０μｍ以下、好ましくは
２０μｍ以下である。下限については１μｍ程度あれば
よい。ピッチあるいは、傷の幅が大きすぎると耐湿性改
善に効果がなく、また、画像の分解能が低下する。

本発明においては、傷の形状（θ、α、β、ＱｌＷ）は
、以下のごとく求めたもので示しである。

まず、感光層傷付は粗面化後又は真空薄膜形成後の感光
体表面の一部分を、光学顕微鏡にて写真撮影（倍率×７
５、×３００各−枚ず′つ）する。次に、その写真上、
実使用時に感光体表面が移動する方向と直行する０、２
５ｍｍの長さ部分を抜き取り、その長さ方向を基準線と
する。

傷の交差角度（θ）（度）は、基準線と交わる各傷線に
ついて、隣接する右上方向と左上方向の傷の成す角度（
基準線と平行な方向に位置する角度）を測定し、その算
術平均値を求めこれをθとしたものである。

傷の傾き角度（ｉｙ、β）（度）は、基準線と各傷線の
交わる角度を測定し、その算術平均値を求めこれをα、
β（σ：右上方向の傷と基準線の成す角度、β：左上方
向の傷と基準線の成す角度）としたものである。

傷のピンチ（ｇ）（μｍ）は、基準線と各傷線の交点に
ついて、隣接する交点間の長さを測定し、その算術平均
値を求めこれをρとしたものである。

傷の輻（Ｗ）（μｍ）は、基準線と交わる各傷線につい
て、その太さを測定し、その算術平均値を求めこれをＷ
としたものである。

なお上記各数値は感光体表面からラング１、に３ケ所以
上から抜き取った部分における算術平均値が上記範囲に
入るようにする。

表面粗さ（傷の深さ）については、最大高さ（Ｒｔ）（
μｍ）および中心線平均粗さ（ＲａＸμｍ）から特定す
る。

最大高さ（ＲＬＸｐｍ）は、０．０５−０．４　ｐｍ。

好ましくは０．０６〜０．３μｍとする。

中心線平均粗さは０．００８〜Ｃ１０２５μｍ、好まし
くは０．００９〜０．０２μｍとする。

最大高さ（Ｒ−ｔ）または中心線平均粗さ（Ｒａ）が上
記範囲より小さいと耐湿性改善に効果がなく、上記範囲
を上回ると、表面保護層としての接着性の悪化、膜欠損
、トナーのフィルミング、融漕、または、研磨筋の画像
ノイズ発生等の問題が生じる。

本発明においては最大高さ（Ｒｔ）とは、ＪＩＳＢＯ６
０１−１９８２に記載の方法に準じて測定したものをい
う。

最大高さ（Ｒ１）は、第５図Ｉこ示したように粗さ曲線
から基準長さだけ抜き取っｌ二部分の平行線に平行な２
直線で抜き取り部分を挟んだ時、この２直線の間隔を断
面曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をマイクロメ
ートル（μｍ）で表わしたものをいう。

なお、「粗さ曲線」は、基準長さの断面曲線（測定物を
切断したときに、その切り口に現れる輪郭）から０．０
２５ｍｍの波長より長い表面うねり成分をカットオフし
た曲線を示す。

「基準長さ」は、断面曲線の一定長さを抜き取った部分
の長さである。本発明においては、２５開を基準長さと
して用いている。

中心線平均粗さ（Ｒ，ａ）は、粗さ曲線からその中心線
の方向に測定長さＱの部分を抜き取り、この抜き取り部
分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸とし、粗さ曲線
をｙ＝ｆ（ｘ）で表わした時、次の式によって求められ
る値をマイクロメートル（μｍ）で表わしたものをいう
。

なお、「中心線」とは粗さ曲線の平均線に平行な直線を
引いた時、この直線と粗さ曲線で囲まれる面積がこの直
線の両側で等しくなる直線をいう。

感光層表面に無数の交差する線状傷を付は表面を粗面化
する方法としては、特に限定されるものではないが、例
えば、天然繊維（羊毛、鹿毛、兎毛などの獣毛、綿、麻
等）、化学繊維（レーヨン、アセテート、ナイロン、ポ
リプロピレン、アクリル、ポリエステル、テフロン等）
、ガラス繊維またはステンレススチール繊維等を樹脂で
固めたり、あるいは湿気、熱、圧力の作用で３次元的に
絡めて、シート状にしたフェルト、またはそれらの繊維
状からなる布、ブラシを圧接して摺擦させる機械的研磨
手段（パフ摩耗、プラン研磨等）を挙げることができる
。

このように機械的研磨手段を使用する場合、研磨剤（樹
脂あるいは無機物からなる粒子）、水、表面活性剤、切
削油等を摺擦部材と感光層の間に介在させてもよいし、
させなくてもよい。研磨剤を用いる場合は、研磨粒子を
埋め込んだり結合させたフェルト、布、プランを用いて
もよい。

表面粗さは、繊維の種類、大きさ、太さあるいは密度、
または、研磨粒子を用いる場合は、研磨粒子の種類、粒
子の形状、粒径、粒径分布、量、さらに研磨機の圧接力
、摺擦力により制御することができる。

特に、有機系感光層をディッピング法により形成し、表
面が極めて平滑である場合、純水等の溶媒中に研磨粒子
を分散させた液体を吐出させながらパフ研磨、ブラシ研
磨等を行い表面を粗面化することは有効である。

例工ば、ウール製フェルトの円盤状パフ（直径２０ｃｍ
）で直径８０ｍｍｘ長さ３３０ｍｍの樹脂分散型の有機
感光層を有する感光体ドラムをパフ研磨により粗面化す
る場合、 研磨材　　　：’ＷＡ＃６０００ （商品名；不二見研磨材工業） 研磨材量　　：２．５ｇ／（１ 吐液　　：　　１ａ／分 ドラム回転数＝１００〜５００　ｒｐｍパフ回転数　：
　　５５０−１Ｏ０Ｏｒｐバフ送り　　：　　０．３−
５ｃｍ／秒パフセンターずれ４．５〜５ｃｍ パフ荷重　　、　０．５〜７　ｋｇ の研磨条件下で、本発明に適１５た表面粗度とすること
ができる。もちろん、上記条付は例示的なものであって
、本発明の表面粗度を達成する条件を何ら限定するもの
でない。

さらに本発明においては、感光層表面の線状傷の角度（
θ、σ、β）を制御する必要がある。

パフ研磨を施し、表面に線状傷を付は粗面化する場合、
傷の角度は次式によりほぼ制御可能である。

Ｂｖ　ｃｏｓ８−”、　Ｂｘ Ｂｖｓｉｎδ−Ｄｙ ＢｖｓｉｎδモＤｙ 但し、θ−σ十β 式中、 ）３ｖ：バ７外周端部の接線方向の速度成分Ｂｘ・スキ
ャンによるパン移動速、度の感光体長手方向成分 Ｄ）ニドラム外周表面の接線力向の速度成分Ｒ・パフの
直径 ■−１：バフセンターずれ量 従って、パフの回転数、感光ドラムの回転数、パフの移
動速度、パフセンターずれ量を調整することにＪり傷の
角度は自由に制御することができる。

ブラシ研磨をｒる場合、第６図に示したように、２本ブ
ラシローラーを非平行に配置して、感光体を回転させ、
ブラシロ−ラーを矢印ａの方向に往復運動させなから圧
接回転させる。

また、第７図に示し、ｔユように、ブラシローラーを感
光体の長手方向に平行に配置し、感光体を回転させ、ブ
ラシローラーを矢印すの方向に往復運動させながらブラ
シローラーを圧接回転させてもよい。

表面傷の角度（θ、σ、β）はグラ／ローラーと感光体
の配置、回転数、移動速度等を適当に設定することによ
り制御することができる。

以上のような表面傷を有する感光層の表面に、真空薄膜
を形成し、表面保護層とする。このようにして導電性支
持体（１）上に感光層（２）、表面保護層（３）を順次
形成した感光体を得る（第８因）。

このような表面保護層（３）としてはプラズマ重合法で
形成した非晶質炭化水素膜、または、Ａ１、０１、Ｂｉ
２Ｏ，、Ｃｅ、Ｏ，、Ｃｒ２Ｏ３，１ｎ２０．、ＭｇＯ
。

ＳｉＯ、Ｓ　１０３、　　Ｓｎ　イＤ　２、　　Ｔ　ａ
　ｚ　Ｏｓ　Ｓ　　Ｔ　１０　、　　　Ｔ　Ｉｏｌ　、
ＺｒＯ２、Ｙ’、Ｏ，等の金属酸化物、Ｓ　ｉ３Ｎ　４
．ＴａｘＮなどの金属窒化物、ＭｇＦ、、ＬｉＦＳＮｄ
Ｆ２、ＬａＦ、、Ｃ，Ｆ、、ＣｅＦ、等の金属硫化物、
ＳｉＣ。

ＴｉＣなとの金属炭化物、Ｚｎ、Ｓ、Ｃｄ５１ＰｂＳな
どの金属硫化物等の金属化合物を蒸着法スパッタリング
法、イオン・ブレーティング法などのいわゆる真空薄膜
形成技術を用いて形成した金属化合物膜が挙げられる。

また、プラズマ重合法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法等で表面保護層を設ける場合、その保護層
の下の感光層がプラズマ中における電子あるいはイオン
の衝撃、熱等で劣化しないように感光層の上に一旦、樹
脂層を設ける構成の感光体が提案されているが（例えば
特開平０１−１３３０６３号公報等）（第９図）、その
ような構成の感光体の場合、感光層がいかなる種類のも
のであれ、本発明を適用することにより耐久性および耐
刷後の耐湿性が改善される。

本発明による粗面化処理を施した感光層表面に本来真空
薄膜に内包される膜ストレスにより、第８および９図に
示したように、該薄膜中に、研磨傷に沿った無数のクラ
ックが、膜厚方向に入る。

その結果、感光層表面は１．上記クラックにより無数の
斑点が島状にアイソレートされる。従って、画像ぼけ、
流れの原因である表面電荷の横流れがクラック部の存在
によって防止され、長期使用後の耐湿性の劣化、複写画
像のぼけ、流れ等の問題が解消されるものと考えられて
いる。

本発明の別の効果として、繰り返しコピー後の残留電位
と昇、並びに、感度低下による筋状の画像ノイズ発生を
防止することができる。この効果は、表面保護層が有機
系感光層、樹脂層上Ｉこ設けられる場合に著しい。これ
は、表面保護層と感光層の界面に蓄積された電荷が、前
述のクラックからリークし、感光体表面の逆極性の電荷
と中和することによるものと考えられている。

表面保護層の厚さは、微細な凹凸のない鏡面状の表面に
形成したとした場合に換算して、０．０１〜５μｍ、好
ましくは、０．０４〜１μｍである。

この程度の膜厚であると、感光層表面の凹凸の形態は、
表面保護層上に、はとんどそのままの形状で現われる。

５μｍより厚いと、形成した真空薄膜に内部応力に基づ
くと考えられるクラックが形成されず、前記しｔ：問題
が依然解消されない。膜厚が０．０１μｍより薄いと膜
強度が低下し、傷、膜削れ等の問題が生じ、表面保護層
としては不十分なものとなる。

以下、本発明を実施例を用いて説明する。

感光体の作製は、以下に記載の感光層、該感光層の粗面
化、表面保護層を表１に示したような組み合わせで行な
った。

また、表２には、感光層表面上にさらに樹脂層を形成し
、該樹脂層の粗面化と組み合わせて、感光体を作製した
場合を示した。

得られた感光体の表面形状（θ、ａ、β、ＱおよびＷ）
および表面粗さ（ＲｔおよびＲａ）と感光体の諸特性（
耐湿性、感光体傷跡による画像ノイズ、トナー拭き残し
による画像ノイズ、黒筋発生の有無、トナー融着、ブレ
ード摩耗、接着性、膜欠損、感度低下）を同時に表１お
よび表２に示した。

以下に感光層の調製法、表面粗面化法、真空薄膜の調製
法および評価方法について具体的に述べる。

有機系感光層（ａ）の作製（負帯電用機能分離型）ヒス
アゾ顔料クロロジアンブルー（ＣＤＢ）１重量部、ポリ
エステル樹脂（東洋紡績社製：Ｖ−２００月重量部、及
びンクロへキサノン１００重量部の混合物をサンドグラ
インダーにて１３時間分散した。この分散液を直径８０
關×長さ３３０ｍｍの円筒状アルミニウム基板上にディ
ッピングにて塗布し、乾燥して膜厚０．３μｍの電荷発
生層を形成した。

次に、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−ジフェニ
ルヒドラゾン（ＤＥＨ）１重量部、及びポリカーボネー
ト（量大化成社製：に−１３００）１重量部をテトラヒ
ドロフラン（Ｔ　Ｈｐ　）　６　ｔｕ部ニ溶解し、この
溶液を前記電荷発生層上に塗布、乾燥し、乾燥後の膜厚
が１５μｍの電荷輸送層を作成し、有機系感光層（ａ）
を得た。

特殊α型顔料フタロシアニン（東洋インキ社製）２５重
量部、アクリルメラミン熱硬化性型樹脂（犬日本インキ
社製：Ａ−４０５とスーパーベッカミンＪ８２０の混合
物）５０重量部、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド
−ジフェニルヒドラノン２５重量部および有機溶媒（キ
シレン７重量部とブタノール３重量部の混合物）５００
重量部の混合液をボールミルで１０時間粉砕分散した。

この分散液を直径８０ｍｍＸ　３３０ｍｍの円筒状アル
ミニウム基板上にディッピングにて塗布し、乾燥焼き付
け（１５０°Ｃで１時間）を行い、膜厚１５μｍの有機
系感光層（ｂ）を得た。

セレン系感光層（ｃ）の作製 第１３図に示す蒸着装置を用いて常法であるところの抵
抗加熱による真空蒸着により約５０μｍの膜厚の自体公
知のセレン砒素合金単層構成からなる５ｅ−Ａｓ感光層
（Ｃ）を得た。

アモルファス・シリコーン系感光層（ｄ）の作製工程（
Ｉ）： 第１２図に示すグロー放電分解装置において、まず、反
応室（７３３）の内部を１０−’Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１〜第３及び第５調節弁（７０７）、（７
０８）、（７０９）、（７１１）を開放し、第１タンク
（７０１）よりＨ２ガス、第２タンク（７０２）より１
００％５ｉＨａガス、第３タンク（７０３）よりＨ２で
２ＱＯｐｐｍに希釈されたＢ　２　Ｈａガス、更に第５
タンク（７０５）よりＣ２Ｈ，ガスを圧力ゲージ１ｋｇ
／ｃｍ”の下で流量制御器（７１３）、（７１４）、（
７１５）、（７１７）内へ流入させた。そして、各流量
制御器の目盛を調節して、Ｈ２の流量を３００ｓｅｃｍ
、　Ｓ　ｉＨ＋Ｈｚの流量９０　ｓｃｃｍ、　Ｂ　。

Ｈｚ（２００ｐｐｍ／　Ｈｘとして）をｌ　ＯＯｓｃｃ
ｍ、　　Ｃ，Ｈ。

をｌ　２０　ｓｅｃｍとなるように設定して、反応室（
７３３）内へ流入した。夫々の流量が安定した後に、反
応室（７３３）の内圧が１．ＱＴｏｒｒとなるように調
整した。一方、基板（７５２）としては、直径８Ｑｍｍ
Ｘ長さ３３０ｍｍの円筒状アルミニウムを用いて２５０
　’Ｃに予め加熱しておき、各ガス流量が安定し、内圧
が安定した状態で高周波電源（７３９）を投入し、電極
板（７３６）に２００Ｗの電力（周波１１３．５６ＭＨ
ｚ）を印加してグロー放電を発生させた。このグロー放
電を３．５分間持続して行ない、導電性基板（７５２）
上に水素、硼素を含む厚さ・約０．３５μｍの第１層を
形成した。

工程（２）： 第１層形成後、高周波電源から電力印加を停止すること
なく、調節弁（７１１）を切ってＣ２Ｈ，のマスフロー
コントローラー（７１７）ノ流量ヲ３０秒以内に０にし
た。他の条件は工程（１）と同様にして、膜厚０，０５
μｍの第２層を形成した。

工程（３）： 第２層形成後、高周波電源（７３９）から電力印加を停
止するとともに、マス７０−コントローラーの流量設定
をＯとし、反応室（７３３）内を十分脱気した。その後
、第１タンク（７０１）よりＨ２ガスを４００　ｓｅｃ
ｍ、第２タンク（７０２）より１００％ＳｉＨ，を２０
０　ｓｃｃｍ、第３タンク（７０３）よりＨ２で２００
　ｐｐｍに希釈されたＢ２Ｈ，ガスを２０９ＣＣｍ、お
よび第６タンク（７０６）より０２ガスを２　ｓｅｃｍ
反応室内部に流入させ、内圧を１ＯＴｏｒｒに調整した
うえで高周波電源を投入して３００Ｗの電力を印加した
。約４時間放電を続け、約２８μｍの第３層を形成し円
筒状アツベニウム基板上にアモルファス姉シリコン系感
光層（ｄ）を形成しｊ二。

硫化カドミニウム／樹脂分散系感光層（ｅ）の作製 ＣｃｌＳ　−ｎＣｄＣＯ３（０＜ｎ＜４）光導電性粉末
を熱硬化性アクリル樹脂とともに分散し円筒状アルミニ
ウム基板上に約３０μｍに塗布し熱硬化することによっ
て硫化カドミニウム／樹脂分散系感光層（ｅ）を作製し
た。

感光層の上に樹脂層を有する感光層の作製（樹脂層（Ａ
）の形成） ポリカーボネート（量大化成社製に−１３００）１重量
部をＴＨＦ　１０重量部に溶解させ、この溶液を感光層
上に乾燥後の膜厚が０．０６μｍとなるように塗布し、
乾燥させて樹脂層を形成した。

（樹脂層（Ｂ）の形成） アクリルメラミン熱硬化性樹脂を有機溶剤（キシレン７
重量部とブタノール３重量部の混合物）に溶解させ、そ
の溶液を感光層上に、乾燥、焼付後の膜厚が０．０６μ
ｍとなるように塗布、焼成して樹脂層を形成した。

感光体の粗面化 実施例１〜４．７〜１１１３〜１６．１９〜上記で得ら
れた感光層の表面を第１０図に示したパフ研磨機により
表３に示した条件で粗面化しＩこ。

感光体をチャッキング（３０１）により固定し、ウール
製フェルトの円盤状パフ（直径２０　ｃｍＸ　３０３）
を所定バフズレの位置にセットした。バフズレとは、第
１１図に示したように、感光体（３０４）の長手方向の
中心線と円盤状パフ（３０３）の中心点との間の距離で
ある。

次に、感光体（３０４）を矢印ｄ方向１こ回転（ワーク
回転）させ、円盤状パフを矢印Ｃ方向に回転させながら
、円盤状パフ（３０３）に矢印ａの方向から荷重（パフ
荷重）をかけ、円盤状パフ（３０３）を感光体（３０４
）Ｉこ押圧し、矢印す方向に往復運動（バフ送り）させ
た。パフの動きに合わせて感光体と円盤状パフの接触面
に向けて液吐出ノズル（３０２）より、純水または研磨
剤を分散させた純水を１、　Ｑ／　ｍｍの割合で吐出さ
せた。

実施例５．６．１７．１８．２２ 直径５ｃｍの円筒状プランを第６図に示したように非平
行（角度６０°：実施例５および１７、角度８０°：実
施例２２、角度１００°：実施例６および１８）に配置
し、感光体を１２０ｒｐｍで回転させながら、ブラシロ
ーラーを４５０　ｒｐｍで感光体に圧接回転させ、この
ときプランはｌ　ｃｍ／秒の速度で感光体の軸と平行な
方向に移動させ感光体の表面を粗面化した。

上記パフ研磨処理またはプラン研磨処理を約２分間行な
い、感光体の粗面化処理を終了した。

粗面化後は感光体を純水中で超音波洗浄を行ない、さら
に６０°Ｃの純水で洗浄後、乾燥空気雰囲気中に約１　
ｃｍ／秒の速度で感光体を引き上げ乾燥させた。

感光体の粗面化の程度としては、最大高さ（Ｒｔ）およ
び中心線平均粗さ（Ｒａ）をもって表わした。

なお、測定には、サーフコム５５０Ａ（商品名）（東京
精密社製）の表面粗さ形状測定機を使用した。

最後に以上のようにして表面粗面化した感光体の上に、
以下に記載の方法を用いて、表面保護層を形成した。

プラズマ非晶質炭化水素膜（ＩＸＰＡｃ（１）という）
の作製 第１２図に示すグロー放電分解装置にて、まず、反応槽
（７３３）の内部を１０”’Ｔｏｒｒ程度の高真空にし
た後、第１、第２および第３調節弁（７０７，７０８，
７０９）を開放し、第１タンク（７０ｊ）より水素ガス
、第２タンク（７０２）よりブタジェンガスおよび第３
タンク（７０３）より四ツ／化メタンガスを各々出力圧
１−５ｋｇ／ｃｍの下で第１、第２および第３流量制御
器（７１３，７１４，７１５）内へ流入させた。そして
各流量制御器の目盛を調製［７て、水素ガスの流量を３
００５ＣＣＯＩ、ブタジェンガスの流量を１５ｓｅｃｍ
および四フッ化メタンガスの流量を９０　ｓｅｃｍとな
るように設定して、途中混合器（７３１）を介して、主
管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入させた。各
々の流量が安定しＩこ後に反応室（７３３）内の圧力が
０．５Ｔｏｒｒとなるように圧力調整弁（７４５）を調
整した。一方、基板（７５２）としては、前述の有機感
光層を形成したドラムを用いた。

次にその基板（７５２）を反応室（７３３）内の接地電
極（７３５）に固定した。基板（７５２）はガス導入前
ｌ：″約１５分間かけて常温よりミ３０°Ｃまで列置し
た。ガス流量および圧力が安定した状態で、予め接続選
択スイッチ（７４４）により接続しておいた低周波電源
（７４１）を投入し、電力投入電極（７３６）に１５０
Ｗの電力を周波数８０ＫＨｚの下で印加して約２分間グ
ラズマ重合反応を行ない、基板（７５２）上に厚さ０．
１μｍの非晶質炭化水素膜を形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、水素ガス以外の調節
弁を閉じ反応室（７３３）内に水素ガスだけを１００　
ｓｅｃｍの流量で流入し、圧力をＩＴｏｒｒに保持し約
３０°Ｃまで降温した。その後、水素ガスの調節弁（７
０７）を閉じ、反応室（７３３）内を充分番ご排気し、
反応室（７３３）内の真空を破り、本発明による感光体
を取り出した。

プラズマ非晶質炭化水素膜（２ＸＰＡＣ（２）という）
の作製 第１２図に示すグロー放電分解装置にて、まず、反応槽
（７３３）の内部をｌｏ−’Ｔｏｒｒ程度の高真空ニシ
タ後、第１、第２Ｘ節弁（７０７，７０８）を開放し、
第１タンク（７０１）より水素ガス、第２タンク（７０
２）よりブタジェンガスを各々出力圧１．５ｋｇ／Ｃｍ
の下で第１１第２流量制御器（７１３，７ｊ４）内へ流
入させた。そして各流量制御器の目盛を調整して、水素
ガスの流量を３００　ｓｅｃｍ。

ブタジェンガスの流量を１５ｓｅｃｍとなるように設定
して、途中混合器（７３１）を介して、主管（７３２）
より反応室（７３３）内へ流入させた。各々の流量が安
定した後に反応室（７３３）内の圧力が１、ＯＴｏｒｒ
となるように圧力調整弁（７４５）を調整した。一方、
基板（７５２）としては、前述の有機感光層を形成した
ドラトを用いた。

次にその基板（７５２）を反応室（７３３）内の接地電
極（７３５）に固定した。基板（７５２）はガス導入前
に約１５分間かけて常温より５０°Ｃまで昇温した。ガ
ス流量および圧力が安定した状態で、予め接続選択スイ
ッチ（７４４）により接続し、ておいた低周波電源（７
４１，）を投入し、電力投入電極（７３６）に１５０Ｗ
の電力を周波数８０ＫＨｚの下で印加し、て約３．５分
間プラズマ重合反応を行ない、基板（７５２）ｌに厚さ
０．１μｍの非晶質炭化水素膜を形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、水素ガス以外の調節
弁を閉じ反応室（７３３）内に水素ガスだけを１．　Ｏ
Ｏｓｃｃｍの流量で流入し、圧力を１Ｔｏｒｒに保持し
約３０°Ｃまで降温した。その後、水素ガスの調節弁（
７０７）を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排気し、
反応室（７３３）内の真空を破り、本発明による感光体
を取り出した。

酸化アルミニウム膜（Ａ（ｂｏ、膜という）の作製高Ｊ
ｉｌ波（１３，５６ＭＨｚ）スパッタリングにより、有
機系感光層上に表面保護層を形成した。前述の有機感光
層を高周波スパッタリング蒸着装置（図示せず）の真空
槽内の接地電極に固定した。対向する高周波印加電極は
厚さ約５士の酸化アルミニウムＡＩ２．Ｏ，の板で覆い
それをターゲットとした。

真空槽の内部を排気ポンプを用いて１０−’Ｔｏｒｒ程
度の高真空にした後、スパッタ用のアルゴンガスを真空
槽内に導入し圧力を５　Ｘ　１０−”Ｔｏｒｒに設定し
た。次に電極に２００Ｗの電力を周波数１３．５６ＭＨ
ｚの下で印加して約１０分間スバッタリングを行ない、
基板上に厚さ０．１μＩのＡＱ２０゜からなる表面保護
層を形成した。成膜完了後は電力印加を停止し真空層内
を排気し、真空層内の真空を破り、本発明による表面保
護層を有する感光体を取り出した。

酸化ケイ素膜（ＳｉＯ膜という）の作製第１３図に示す
蒸着装置にて、表面保護層を形成した。基板（５０３）
としては前述の有機感光層を形成したドラムを用いた。

その基板（５０３）を、基板支持部材（５０２）取り付
けた、ポート（５，０４）には−酸化珪素ＳｉＯの粉末
を載置した。

次いで、真空層（５０１）の内部を排気ポンプ（５１１
）を用いて１０−’Ｔｏｒｒ程度の高真空にした後、電
極（５０６）に電力を印加し、ポート（５０４）を１０
８０°Ｃに昇温した。ポート（５０４）の温度が安定し
たところで、モーター（５１２）を起動させ約１０回転
／分で基板（５０３）を回転させつつ、予め閉状７１１
１ごしておいたシャッター（５０８）を回転導入端子（
５０１）の操作により、約３分間開状態にして、１０−
’Ｔｏｒｒ程度の真空度の下で蒸着を行ない基板（５０
３）上に約０．１５μｍのＳｉＯからなる表面保護層を
形成した。

表面保護層形成後は電極（５０６）への通電を停止する
と共に、真空槽（５０１）内を充分に排気し、真空槽（
５０１）の真空を破り、本発明による表面保護層を有す
る感光体を取り出した。

実施例および比較例で得られた感光体について以下の項
目について特性評価を行なった。

なお、負帯電型の感光体（ａ）、（ｅ）ｉ＝ついては、
複写機（ＥＰ５４００；ミノルタカメラ社製）に、正帯
電型の感光体（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）について１ｉ、複
写８ｍ（ＥＰ５５０Ｚ、ミノルタカメラ社製）に搭載し
、実写を行なった。

耐湿性 実写を室内雰囲気中で１０万回行なった後、温度３５°
Ｃ１相対湿度８５％の環境下で実写し画像流れの有無を
目視観察し、以下のごとくランク付を行なった。

○：画画像流は認められず良好 Ｘ：文字画像において、画像流れか認められ文字が識別
できないものがある。

画像ノイズ（傷跡） 感光体表面の傷跡の画像への影響について、実写を１０
００回行なった後、露光量を調整し、画像濃度０．５０
のハーフトーン画像を得た。その画像中の筋状の画像ノ
イズを目視観察し、それと感光体表面との傷跡との対応
を調べ、以下のごとくランク付を行なった。

Ｏ：優に対応したノイズは認められず良好△：わずか傷
に対応したノイズが認められるが実用上問題なし ×：実用上不適当 画像ノイズ（拭残し） クリーニング不良の画像への影響を実写を１万回行なっ
た後、白紙原稿をコピーし白紙画像を得た。その画像中
の拭き残しによるノイズを目視により観察し、以下のご
とくランク付を行なった。

○：画像上全く拭き残しなく良好 Ｘ：拭き残しが認められ実用上不適当 トナーのフィルミング融着を実写を室内雰囲気中で１０
万回行なった後、実機から感光体を取り出し、感光体表
面のフィルミング融着の有無を目視観察し、以下のごと
くランク付を行なった。

○：感光体表面にフィルミング融着かなく、画像も良好 ×：感光体上にフィルミング融着が認められる ブレード摩耗 ブレードの摩耗を実写を室内雰囲気中で１万回行なった
後、実機からクリーニングブレードを取り出しブレード
の感光体接触部の摩耗量を光学顕微鏡Ｉこより観察し、
以下のごとくランク付を行なっｔ二。

○：先端からの摩耗量が１１００ｐ以内で、かつ均一に
摩耗している ×：不均一に摩耗しており、ひどい所は先端からの摩耗
量が１００μｍを越える 膜欠損評価 一方杖コピー後の感光体表面を３００倍の光学顕ｇ！、
鏡（視野面積０．０８ｍｍ’）で観察し、その映像をニ
レコ社製画像解析装置ルーゼックス５０００（商品名）
で解析し、表面保護層の欠損部分の面積比率を算出した
。観察はドラム上任意の２０点で行ない、その中で最大
の値のものを採用した。

膜欠損比率を以下のごとくランク付した。

欠損比率　　　記号　　　　評価 ０〜２％　　　○　　良好 ２％超〜５％　△　　実用上問題無し ５％超〜　　　×　　実用上不適当 接着性評価 ＪＩＳ−に５４００規格の基盤目試験を行ない表面保護
層の有機系感光体への接着性を評価し、以下のごとくラ
ンク付を行なった。

感度低下の評遣 試作された感光体を実機に搭載し、露光量を調整し、画
像濃度０．５０のハーフトーン画像を得た。

その後、Ａ４紙１万枚のコピーをとった後、同一の露光
量にてハーフトーン画像を得、その画像濃度を求め、初
期の画像濃度０．５０との差を求めた。

例えば一方杖コピー後の画像濃度が０．５５であれば、
その差０．０５を感度低下分とした。

実機の表面電位設定は６００　［Ｖ］、現像バイアス設
定は１５０　［Ｖ］とした。

実施例の一覧表には下記の評価基準にて感度低下の良否
を示した。

尚、画像濃度の測定はコニカ社製濃度計サクラデンシト
メータＰＤＡ６５（商品名）を用いた。

実施例１〜２２の感光体は、耐刷後の耐湿性は良好であ
り、実用上回の問題も認められなかった。

実施例１．１５については、実写６０万枚後でも室内雰
囲気下におｌ／１ても高湿雰囲気下においても画像流れ
は認められなかった。

比較例１．５に示した感光体のごとく、粗面化処理を行
なわず、直接真空薄膜を設けた場合、画像ノイズ面では
何ら問題は認められなかったが、ｊＯ万方杖実写後にお
いて、高湿環境下（３５℃。

８５％）の実写で画像流れが認められた。

比較例２．６に示した感光体のごとく、傷の角度が大き
すぎる（傷が立ちすぎ）場合１０万枚実写後において、
高湿画像流れは認められなかったが、実写において、研
磨筋に対応した画像ノイズが認められ実用上不適当であ
った。

比較例３．７に示した感光体のごとく、表面粗さ大で、
傷のピッチが大きすぎる場合真空薄膜層の接着性につい
て問題が発生し、１０万枚実写後において、高湿画像流
れが認められ実用上不適当であった。

比較例４．８に示した感光体のごとく、傷の角度が小さ
すぎる（傷が寝すぎ）場合、１０万枚実写後において、
高湿画像流れは認められなかったが、実写において、研
磨筋に対応した画像ノイズが発生し、１０万枚実写後ト
ナーのフィルミング、融着が発生し、ブレードの摩耗も
著しく実用上不適当であった。

さらに本発明においては有機系感光層を有する感光体、
および感光層上に樹脂層を有する感光体については、感
度低下の有無について評価したところピッチＱが３０μ
ｍ以下のものにおいては惑・度低下は認められないか、
あるいは実用上問題のないレベルのものであった。

兄里ｍ擲−來 本発明に従い微細粗面化処理した感光層表面に真空薄膜
を形成した構成の感光体は、コピーを繰り返し行った後
も耐湿性に優れている。また、有機系感光層を有機する
感光体、および感光層上に樹脂層を有する感光体は、感
度低下が防止された。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は感光層表面の線状価を模式的に表
わしたものである。 第３図は、感光層表面の部分的な断面曲線を模式的に表
わした図である。 第４図は最大高さを説明するための図である。 第５図および第６図は、プラン研磨方法を説明するだめ
の図である。 第７図および第８図は、感光体の模式的断面図である。 第９図は、パフ研磨方法を模式的に示した図である。 第１０図は、バフズレを説明するための図にある。 第１１図は、グロー放電分解装置の概略構成例を示す図
である。 第１２図は、蒸着装置の概略構成例を示す図である。 特許出願人　ミノルタカメラ株式会社 代　理　人　弁理士　青　山　葆　はか１名第３図 ； ←−−−−−−−−−−−−５Ｉ−−十−−−−−−−
一−−−５２−＝−−−−−−−−→第４１ン１ 第５図 第７図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、導電性支持体上に光導電性感光層および該光導電性
   感光層上に真空薄膜からなる表面保護層を有する感光体
   において、表面が無数の互いに交差する線状傷により粗
   面化されている光導電性感光層上に真空薄膜が形成され
   ていることを特徴とする感光体。 ２、導電性支持体上に光導電性感光層、該感光層上に樹
   脂層および該樹脂層上に真空薄膜からなる表面保護層を
   有する感光体において、表面が無数の互いに交差する線
   状傷により粗面化されている樹脂層上に真空薄膜が形成
   されていることを特徴とする感光体。