JPH04174990A - 高効率赤外線放射セラミックス発熱体 - Google Patents

高効率赤外線放射セラミックス発熱体

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JPH04174990A
JPH04174990A JP1211751A JP21175189A JPH04174990A JP H04174990 A JPH04174990 A JP H04174990A JP 1211751 A JP1211751 A JP 1211751A JP 21175189 A JP21175189 A JP 21175189A JP H04174990 A JPH04174990 A JP H04174990A
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JP
Japan
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ceramic
range
heating element
temperature
sic
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Application number
JP1211751A
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English (en)
Inventor
Toshio Wakamatsu
俊男 若松
Hiroshi Wakamatsu
若松 博司
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TERUMO KOGYO KK
Original Assignee
TERUMO KOGYO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、高効率赤外線放射セラミ・ンクス発熱体に関
する。更に詳しくは交流電源0■〜600v(50/6
0Hz)又は直流電源OV〜600■を印加通電するこ
とにより、低温域から高温域(−20℃〜1,200℃
)の広い温度域で安定な発熱が可能て′、該セラミック
スの表面電力密度(W/cj)を大きく設計出来、又、
前記の温度域で自己温度制御点(キュリー温度)を自由
に制御設定でき、安定性に優れ、作業安全性にも富み、
しかも赤色加熱が出来て調理、暖房は言うまでもなく、
あらゆる物質加熱に適した産業上利用価値の高い、加熱
効率の優れた高効率赤外線放射セラミックス発熱体に関
する。
(ロ)従来の技術 従来、物質の加熱には遠赤外線放射エネルギーが有効で
あることが知られており、様々な遠赤外線放射体が提案
されている。例えばエネルギー源を電力とする場合は抵
抗発熱、電磁加熱、誘導加熱等々の発熱体や発熱器具と
遠赤外線放射体とを併設あるいは組合わせて使用されて
きた。又、コードヒーター、面状発熱体、セラミックス
抵抗発熱体、金属管シースヒーターやニクロム線等の発
熱体の表面に遠赤外線放射材を塗装あるいは溶射等でコ
ーティングするか被覆装填、組合わせて遠赤外線放射体
を構成するのか一般的であった。
しかし、なから、これ等の方法では放射体と発熱体とが
構造的に一体化されていないので、熱伝達が悪く速熱性
に欠け、エネルギー効率も悪く、又コーティング等の遠
赤外線放射体は冷熱サイクルにより、又はヒーター表面
の腐蝕により剥離脱落をおこし、経時劣化を起こす等の
問題かあった。
又一方、従来のセラミックス抵抗発熱体は、負の抵抗温
度特性を持つNTCであるSiC系、正の抵抗温度特性
を持つPTCであるBaTi○3系等々のセラミックス
発熱体が一般に使用されている。
しかしながら、NTCであるSiC系のセラミックス発
熱体は遠赤外線の放射は良好であるか、比抵抗が小さい
ので、低電圧、大電流の印加電源が必要で、トランス等
の変圧設備か必要であり、商用電源では利用し難く、更
に自己温度制御機能である抵抗温度係数が負から正の係
数特性に変わるキュリー温度も700℃以上であり、低
温での使用に適していない。一方、PTCであるBaT
iO3系のセラミックス発熱体は遠赤外線の放射も特に
良好であるとはいい難く、キュリー温度も種々の微量添
加元素で電値制御等の方法により、大よそ50℃〜50
0℃の範囲で設計できるもののピンチ効果等でスポット
過熱したり、なんらかの原因でキュリー温度以上になる
と負の抵抗温度係数の領域になると自己温度制御機能が
働かず熱暴走を起こし発熱体が破損するなど安定性、安
全性に問題点も多く、又衝撃に弱く、更に通電時の突入
電流の大きいのも難点であり、電流密度又は電力密度(
ワット密度、単位W / cj )が限定され赤色加熱
ができない等々の問題点があった。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 本発明は前記の様な欠点を改善し、低温域から高温域ま
での広い範囲で自己温度制御機能を持たせることが出来
、且、電力密度も自由に制御設計することが出来て、更
に赤外放射領域の0.75μm〜30μmの波長領域で
95%以上の放射率を持つ高効率赤外線放射セラミック
ス発熱体を提供するものである。
又、本発明は発熱体自体が高効率赤外線放射体であり、
速熱性、加熱効率に優れており、形状においても膜状、
板状、棒状、筒状、立体状と整形も自在で、耐衝撃性、
耐熱性、耐酸化性にも優れて、かつまた電源電圧も広い
範囲で使用でき工業用は言うまでもなく一般民生用の熱
源として100v、200vの商用電源で調理や暖房に
供する安定で安全で作業性のよい高効率赤外線放射セラ
ミックス発熱体を提供するものである。
(ニ)問題点を解決するための手段 本発明の高効率赤外線放射セラミック発熱体は炭化珪素
−窒化珪素系の焼結体であり、本発明者等はその組成式
((S i CL−x (S i、N、 )、 )にお
い(Ω・■)の範囲で設定できることを発見した。
又、((S i C)、、 (S isN* )、)の
式中のSiCとSi、N、  に微量元素を添加固溶さ
せたときの一般式([M 1 +−,(s ic >、
]I−,[M 2r−b (s 1xNs)bl、)に
おいてMlはB、Al 、Ca、Mgの金属元素の内の
少なくとも一種以上の元素であり、M2はLi、Mg、
Ca、A1.Y、La、Gaの金属元素の内の少なくと
も一種以上の元素であって、aは0.02≦a≦025
、bはo<b≦016の範囲で制御すると、負の抵抗温
度特性から正の抵抗温度特性にかわる自己温度制御点で
あるキュリー温度を一20’C〜l、200℃の範囲で
設定することが出来る。
(ホ)作用 前記の様な組成比になるように原料を定量混合し第3図
に示すプロセスを経て高効率赤外線放射セラミックス発
熱体を得る。
このプロセスの(6)は窒素の還元雰囲気で、焼成温度
は1500℃〜1750℃の温度域で焼成でき、結晶粒
径の制御が比較的容易に出来るのも利点である9 又、プロセスの(4)の常温加圧成形時の成形圧は10
00 )tg/ cxXであり、常温加圧成形寸法と焼
成後の仕上り寸法の差は11500以下の収縮率で加工
寸法制度が高いのも長所となる。
赤外線放射に関しては炭化珪素、窒化珪素はそれ自体高
効率放射物質であるが、前記原料と製造プロセスにより
該セラミックスは特定波長の陥没がなく:0.7’5μ
m〜30μmの範囲の波長域で95%以上の高放射率を
もたせることか出来る。
更にまた、プロセスの(1)の表面処理において該セラ
ミックス基材1の少なくとも一部分を電気絶縁性かあり
赤外線放射の良い材料2、例えばコージェライト、β−
スポジューメン、窒化珪素等の薄膜を形成させるか、電
気絶縁性があり赤外線透過の良好な材料3、例えば窒化
アルミニウム、β−サイアロン、M−8i −A I 
−0−N (M=Mg、Ca、Y、La)系ガラス、石
英ガラス、透明ホウロウ等々を焼付は等の方法で形成す
れば安全性、作業性の向上になる。
へ)発明の効果 本発明の実施例を図と表とグラフに従って説明する。実
施試料T−1の形状寸法は、板状で幅10cmx長さl
0CIIX厚さ0.5CI11の大きさで、式%式%)
] において、式中のMlをA1.M2をYとして、a=0
.02、b=0.03.x”0.7の各値に物性値制御
したものを10ピ一ス製作した。
データは10ピースの平均値を示し、必要に応じて最小
値、最大値も付記した。
表−1はT−1の物性値を、表−2はT−1の電気的物
理定数を示し、グラフ−1は温度抵抗特性、グラフ−2
は表面温度上昇特性、グラフ−3は電力密度−表面温度
特性、グラフ−4は放射特性を表す。
温度抵抗特性の比抵抗の測定は4探針法で測定し、電力
密度−表面温度特性及び温度上昇試験は試料の厚さ方向
に一組の対向In電極4を焼付は処理後ニッケルのリー
ド線5を銀蝋6で付け、交流100V−60Hzの電源
を印加し空中に水平に保持し自然対流の雰囲気で測定し
た。
グラフ−1から明らかな様に、550〜600°Cの間
のA点(568°C)の前後で抵抗温度特性が負から正
に急峻に変化しており、600℃を越えると又負の領域
になるが、670℃〜1000°Cの範囲ではほぼ直線
的に変化して、このときの温度係数αは一1500DI
)1程度となるが、実用上はグラフ−2に示す様に58
0℃で制御され熱平衡状態を保っている。
これ等の表やグラフから明らかなように、本発明のセラ
ミックス基材1は高効率赤外線放射体であり、物理的強
度、熱膨脹による歪み変形も問題なく、家庭商用電源で
使用出来て、発熱量も調理、採暖用として十分に供する
ものである。工業用、医療用食品加工用、プラスチック
加工用、各種焼成乾燥炉用等々産業分野の用途の熱源と
して、−般民生用品の熱源として有用であり広く貢献す
るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施態様を示す一部破断斜視図。第2
図は本発明の高効率赤外線放射セラミックス発熱体に表
外線放射又は赤外線透過材料で絶縁被覆した実施態様を
示す一部破断斜視図。 第3図は本発明の製造プロセスのチャート図。 表−1はT−1の物性値、表−2は電気的物理定数を示
す9グラフ−1は温度抵抗特性、グラフ−2はAC10
0V/60Hzを印加通電したときの表面温度上昇特性
、グラフ−3はAC100V/60Hzを印加通電した
ときの電力密度−表面温度特性、グラフ−4は放射特性
を表す。 1・・・・セラミックス基材、高効率赤外線放射セラミ
ックス発熱体、 2・・・・赤外線放射かつ/または電気絶縁材料3・・
・・赤外線透過かつ/または電気絶縁材料4・・・・焼
付けIn電極 5・・・・ニッケルリード線 6・・・・銀蝋 物性植入 表−1 表−2 試料温度℃ 時間hr。 電力密度 W/cd 波長μm 2<3)    ] 第2図 高効率赤外線放射セラミックス発熱体の製造行程 第3図 1、事件の表示 平成1年 特許願211751号発熱
体 3、補正する者 事件との関係    特許出願人 住 所 大阪府八尾市泉[lr]″1丁目85丁目85
称地  株式会社 テルモ工業

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1) セラミックス基材1が炭化珪素−窒化珪素系の焼
    結体からなる半導体で自己温度制御機能を有し、電気導
    通により該セラミックスが発熱し高効率に赤外線を放射
    することを特徴とする高効率赤外線放射セラミックス発
    熱体。 2) セラミックス基材1の炭化珪素−窒化珪素の焼結
    体の組成式{(SiC)_1_−_x(Si_3N_4
    )_x}において、xを0.15≦x≦0.95の範囲
    で制御することにより該セラミックスの比抵抗を10^
    2〜10^5(Ω・cm)の範囲で制御設定出来ること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の高効率赤外線
    放射セラミックス発熱体。 3) セラミックス基材1の組成SICとSi_3N_
    4に微量の金属元素を固溶させたときの一般式{[M1
    _1_−_a(SiC)_a]_1_−_x[M2_1
    _−_b(Si_3N_4)_b]_x)において、M
    1はB、Al、Y、Ca、Mgの金属の内の少なくとも
    一種以上の元素を、M2はLi、Mg、Ca、Al、Y
    、La、Gaのの金属の内の少なくとも一種以上の元素
    を選んで、a、bを0.02≦a≦0.16、0<b≦
    0.25の範囲で制御することにより、該セラミックス
    の自己温度制御機能である抵抗温度特性が負の抵抗温度
    係数から正の抵抗温度係数に変るキュリー温度を−20
    ℃〜1,200℃の範囲で制御設定できることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項及び第2項記載の高効率赤外
    線放射セラミックス発熱体。 4) セラミックス基材1の表面の少なくとも一部分が
    赤外線放射材料かつ/または電気絶縁材料2および/ま
    たは赤外線透過材料かつ/または電気絶縁材料3で被覆
    または構成されていることを特徴とする特許登録請求の
    範囲第1項〜第3項いずれか1項記載の高効率赤外線放
    射セラミックス発熱体。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997047159A1 (fr) * 1996-06-03 1997-12-11 Kanagawa Prefectural Government Procede de fabrication d'un dispositif emettant des infrarouges et dispositif emettant des infrarouges ainsi obtenu
CN113115995A (zh) * 2020-01-13 2021-07-16 深圳市合元科技有限公司 气雾生成装置及加热器
DE102020117987A1 (de) 2020-07-08 2022-01-13 Polymerge Gmbh Infrarotstrahlungs-Emitter, Schweißanlage, insbesondere Kunststoffschweißanlage, mit einem solchen Infrarotstrahlungs-Emitter, sowie Schweißverfahren mit einem solchen Infrarotstrahlungs-Emitter

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