JPH04172637A - 光カードの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は塗布型記録媒体である光カードの製造方法に関
する。

〔従来の技術〕

従来、光カードや光ティスフ等のように記録剤を基板面
に塗布した塗布型記録媒体において、記録剤の塗布方法
としては、特開昭６０＝５０６４１号公報でスピンコー
ターによる塗布方法か開示されている。この方法によれ
ば、基板面に形成された案内溝の深さか４００〜８００
人の場合には、案内溝部に塗布された記録剤による光記
録媒体層の膜厚ｔ１は記録部の記録剤による光記録媒体
層の膜厚ｔ２と実質的に等しい（ｔ２／ｌ、＝Ｑ、ｓ〜
１．０）。このようにして得られる記録媒体は基本的に
は光ティスフであり、塗布方式や溝形状において前記方
法を光カードに直接用いることは難しい。そこで光カー
ド特有の形状、溝形状において、効果のある方法として
、特開平１−２３４３４号公報で開示されているように
、グラビアコーターによる塗布方式がある。この方式に
よると、案内溝の深さが約３０００人の場合、案内溝の
膜厚ｔ、は約１７００人であり、３己録部の膜厚ｔ２は
約９００人である。

したかって、従来技術としては、スピンコーターやグラ
ビアコーターによる塗布方法があり、これらの方法で一
層塗布することにより、第３図に示すようなプリフォー
マット部１１、記録部１２を形成する基板１０に光記録
媒体層２０を積層した塗布型光記録媒体か製造されてい
た。

しかしながら、上記従来例では、案内溝部の膜厚１．と
記録部の膜厚ｔ２の関係か１２／１．≦１であり、１．
かかなり大きな値を示しても、案内溝の深さをｄとする
と、ｔ、＝ｔ２＋ｄとはならない。これは、塗布溶液が
案内溝に落ちこみ、ウェット状態では光記録媒体層表面
は平滑であるが、順次乾燥して成膜するときに記録部の
ウェット膜厚の薄い部分から乾燥し、次に案内溝部分が
乾燥するためである。したがってドライ状態における光
記録媒体層の表面は平滑にはならない。

このように光記録媒体層か成膜され、光記録媒体層の表
面が平滑にならないために次のような欠点が生しる。

すなわち、乾燥条件や案内溝の形状、深さにより記録部
の膜厚ｔ２と案内溝の膜厚ｔ、の比率か安定せず、した
がって信号特性が安定せず、トラックはずれ等のエラー
が発生しゃすい。

（発明か解決しようとする。；１題） 本発明はト記１！情に鑑みなされたもので、その目的と
するところは光記録媒体層の表面を′Ｉ／−滑にし、光
記録媒体層の凹部ど凸部の膜厚を安定化させることによ
り信号特性の安定な光カードの製造方法を提供すること
にある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するために、表面か凹凸状に形
成されたプレフォーマットをもする透明基板を用いた光
カードの製造方法において、まず基板上に凹状のプレフ
ォーマット部を満たすと！（に凸状の記録部に形成する
へき所定膜厚未満の膜厚の第１光記録媒体層を形成し、
次いて面記形成した第１光記録媒体層トに光記録媒体層
を積層することを繰返すことにより、記録部における積
層した光記録媒体層の合計＠厚を所定膜Ｈとするもので
ある。

以下１本発明を図面を参照して詳細に説明する。

第１図は本発明の特徴を最もよく表わす図てあり、同図
において、１０は透明基板、１１はプリフォーマット部
、１２は記録部、２０は第１光記録媒体層、３０は第１
光記録媒体層である。

上記構成において、透明基板１０は、使用する光に対し
て透過率の高いものか良い。例えば、プラスチック基板
なら、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース誘導体等
を用いることができる。また、プリフォーマット部１１
や記録部１２の形成方法は、透明基板ｉｏの材質にもよ
るが、アクリル系樹脂ならばキャスティング法、ポリカ
ーボネート樹脂ならばインジェクション法またはコンプ
レッション法、さらにほとんどの基板について、２Ｐ法
を用いることができる。光記録媒体層２０．３０の形成
方法としてはスピンコーター、またはグラビアコータ法
が好ましい。

光記録媒体層２０．３０を構成する記録剤としては、 等のアントラキノン誘導体、 ２Ｈ５ 等のクロマニウム系化合物、 等のシアニン化合物、 叶−、Ｃ０ＮＩ＋、− 等のメチン系色素等、か好ましい。

本発明においては、上記表面か凹凸状にプレフォーマッ
ト形成された基板にスピンコーター法やクラビアコータ
ー法等によって記録剤を塗布すものである。この場合、
記録剤の溶媒としては。

基板を冒さす、記録剤を溶解する溶媒、例えばアセトノ
やメチルエチルケトン タノール、エタノール等のアルコール系、さらには、ジ
クロロメタン等の塩素系の溶媒等か好ましい。

基板１　０　、１−に光記録媒体層を形成するに際して
は、まず基板に記録剤溶液を塗布する，、次いで、溶媒
を乾燥させるものであるか、乾燥に際して溶液か記録部
１２−上面からプリフォーマット部１１へ落ち込みなか
ら乾燥するように乾燥時間を調整することか好ましい。

乾燥条件としては溶媒によっても異なるか１０〜８０℃
てｌＯ〜３００秒程度とすることか望ましい。

このようにして乾燥させることにより、溶媒は留去し、
プリフォーマット部１１に形成される記録剤の膜厚は大
きく、また記録部１２のそれは小さくなり、これにより
比較的平滑（プリフォーマット部１１と記録部１２との
光記録媒体層の段差の小さい）な第１光記録媒体層２０
か形成される。

本発明においては、次いで、上記方法で形成した第１光
記録媒体層２０の上面にさらに光記録媒体層３０を積層
することを繰返しく第１図においては１層のみ積層した
状態を示している。）、光記録媒体層（第１記録媒体層
を含む）の膜厚の合計か記録部１２として機能するのに
充分な膜厚となるまで繰返すものである。

記録部１２として機能するに充分な膜厚としては通常３
００〜１５００人とすることが好ましい。

１−記のようにして第１尤記録媒体層２ｏの上面に第２
光記録媒体層３０、第３・・・　（図示せず〉と順次光
記録媒体層を積層し、これにより光記録媒体層の表面が
平滑な光カード５ｏを得るものである。

〔実　施　例〕

以上゛、実施例により本発明をさらに具体的に説明する
。

夫施贋」 ギヤステインク法により、プリフォーマット部の形状を
、断面形状で上底２．５μｍ、上底１、３μｍ、高さ０
　３μｍの逆台形状に成形した（ピッチ１　２μｍ）０
．４ｍｍ厚のＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）基
板に、記録剤溶液Ｎ　Ｒ−８２０　：　Ｉ　ＲＧ−０　
１　２＝３　：　１のジアセトンアルコール３％溶液、
ＩＲ−８２０、ＩＲＱ−０１２いずれも目本化薬製）を
まずダイレクトグラビア法で記録部膜厚か約７００人ど
なるように第１層を塗布した。このときプリフォーマッ
ト部への溶液の落ち込みか充分になるように乾燥時間を
２分とした。第１層の記録部とプリフォーマット部の段
差は、８００人となった。吹きに、スピンコーター（２
０００ｒｐｍ）で同溶液を記録部の総膜厚か９００人と
なるように塗布した。これにより記録部とプリフォーマ
ット部の段差はほとんどなく平滑な記録媒体層が形成さ
れた。

実ｊｄ外１ ２Ｐ法により、プリフォーマット部の形状を断面形状で
上底２　３５μｍ、上底１．３５μｍ、高さ０．２５μ
ｍの逆台形状に成形した（ピッチ１　２層ｍ）０．４ｍ
ｍ厚のＰＭＭＡ基板に記録剤溶液（Ｉ　Ｒ−８２０　：
　Ｉ　ＲＧ−０　１　２＝３　：　１７７）ジアセトン
アルコール３％溶液、ＩＲ−８２０、ＩＲＱ−０１２は
いずれも日本化薬製）をまずダイレクトグラビア法で記
録部膜厚が約３００人となるように第１層を塗布した。

この状態を第２図に示した。このとき乾燥時間を約９０
ｓｅｃとした結果、記録部１２とプリフォーマット部１
１の段差は約７００人となった。次ぎに、同液を同様に
塗布して第２層３０を形成した。乾燥時間を約９０ｓｅ
ｃとした結果、記録部とプリフォーマット部の段差は４
００人となった。さらに同液を同様に塗布し、第３層４
０を形成した。乾燥時間を約７５ｓｅｃとした結果、記
録部の総膜厚が９５０人となり、記録部とプリフォーマ
ット部の段差はなくなり、平滑な記録媒体層が形成され
た。

〔発明の効果〕

以上説明したように、凹凸透明基板の凹部を充分に満た
し、凸部に必要な光記録媒体層の膜厚未満の記録剤を第
１層として塗布し、その後凸部に必要な光記録媒体層厚
となるように１回以上塗布する多層コーチインクを行う
ことにより、光記録媒体層の表面をほぼ平滑にでき、記
録部の膜厚を安定させ、安定した１３号特性か得られ、
かつ、トラックはずれ等のエラーか発生し難い光カード
か製造できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す光カードの模式的断面
図、第２図は他の実施例を示す光カードの模式的断面図
、第３図は従来の光カードの模式的断面説明図である。 １０・・・透明基板、 １１・・・プリフォーマット部、 １２・・・記録部、 ２０・・・第１光記録媒体層、 ３０・・・第２光記録媒体層、 ４０・・・第３光記録媒体層、 ５０・・・光カード。 特許出願人　　キャノン株式会社 代　理　人　　弁理士　若株　忠

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面が凹凸状に形成されたプレフォーマットを有する透
   明基板を用いた光カードの製造方法において、まず基板
   上に凹状のプレフォーマット部を満たすと共に凸状の記
   録部に形成するべき所定膜厚未満の膜厚の第１光記録媒
   体層を形成し、次いで前記形成した第１光記録媒体層上
   に光記録媒体層を積層することを繰返すことにより、記
   録部における積層した光記録媒体層の合計膜厚を所定膜
   厚とすることを特徴とする光カードの製造方法。