JPH04171847A - 混成集積回路装置 - Google Patents

混成集積回路装置

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JPH04171847A
JPH04171847A JP29942390A JP29942390A JPH04171847A JP H04171847 A JPH04171847 A JP H04171847A JP 29942390 A JP29942390 A JP 29942390A JP 29942390 A JP29942390 A JP 29942390A JP H04171847 A JPH04171847 A JP H04171847A
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Japan
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wiring
wiring board
integrated circuit
hybrid integrated
circuit device
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Yoshio Dobashi
土橋 芳男
Tsuneo Endo
恒雄 遠藤
Ikuo Akazawa
赤澤 生朗
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は混成集積回路装置に係わり、特に高集積化が可
能な混成集積回路装置に関する。
〔従来の技術〕
混成集積回路装置(ハイブリッドIC)は、基本的には
、配線基板に能動素子や受動素子等の電子部品を搭載す
るとともに、前記電子部品の電極と配線層とをワイヤで
電気的に接続し、かつ前記配線基板にリードを接続し、
前記リードの外端を除く全体をパッケージで封止するこ
とによって製造される。
一方、−1%iのICの組立では、リードフレームが使
用され、リードフレームのランド(タブ)へのチンプポ
ンディング、チップの電極とリード内端間のワイヤポン
ディング、レジンモールドによるパンケージング、不要
リードフレーム部分の除去、リード成形等の各作業が連
続的に行われている。この組立技術は生産性が高くかつ
組立の信軌度も高い。
そこで、混成集積回路装置においても、リードフレーム
を使用する技術が開発されている。たとえば、特開昭6
1−10263号公報には、リードフレームを使用した
構造のハイブリッドICについて開示されている。この
ハイブリッドICは、リードフレームのランド上に多層
配線基板が固定された構造となっている。多層配線基板
の最上層の配線基板の主面には、回路素子パターンが設
けられている。回路素子パターンの一部としては、中央
部に設けられるペレットエリア、このペレットエリアの
近傍に配された多数のポンディングパッド、前記配線基
板の周辺部上に配された多数のポンディングパッドがあ
る。半導体ベレットは耐記ベレットエリアに固定される
。また、前記半導体ペレットの電極とペレットエリア近
傍のポンディングパッドはワイヤで接続される。また、
配線基板の周辺のポンディングパッドとランドの周囲に
内端が臨むリードとは、ワイヤで電気的に接続される。
この文献による他の構造例としては、配線基板に矩形の
貫通孔を設けてランドの表面を露出させ、直接このラン
ドにパワー系半導体ペレットを固定させたものも開示さ
れている。
[発明が解決しようとするII!] 混成集積回路装置は、多機能、高集積化の要請で一層高
密度化の傾向にあり、配!9基板に搭載される部品(i
t子部品)も多数となって来ている。
また、IC,LSI  (大規模集積回路)等を構成す
る半導体チップも、多機能、高集積化からチップサイズ
が大形化している。たとえば、−辺が20数mmとなる
配線基板に一辺が十数mmとなる半導体チップが搭載さ
れる。このため、配wA基板に対する半導体チップの占
める面積割合が大きくなり、配線基板が限定されたサイ
ズの場合には、配線方法や配線本数が限定される問題が
ある。
そこで、本発明者は混成集積回路装置の高集積化につい
て検討した結果、従来においては、半導体チンブが搭載
される配線基板領域には、配線やスルーホール部が設け
られていない、これは半導体チップと配線との電気的リ
ークが考えられるためであると推定される。そして、こ
の半導体チップが搭載される配線基板領域は、使用に供
されない領域(デッドスペース)となっている。また、
このデッドスペースは半導体チップの数が多い程広くな
り高性能品程大きい。
本発明の目的は配線基板の使用効率の増大を図ることに
ある。
本発明の他の目的は混成集積回路装置の高密度化を達成
することにある。
本発明の他の目的は混成集積回路装置の小型化を達成す
ることにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
〔課題を解決するだめの手段] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、本発明の混成集積回路装置は、リードフレー
ムを利用した組立構造であるとともに、配線基板の半導
体チップ搭載領域に、配線やスルーホール部を設けてな
るものである。
また、半導体チップの各電極にワイヤを介して接続され
る配線は、前記半導体チップが搭載される配線基板のチ
ップ搭載領域に延在しかつこのチンブ搭lIl!領域に
設けられたスルーホール部に接続されている。なお、前
記配線やスルーホール部は絶縁性レジストによる絶縁体
で被われ、半導体チップと前記配線やスルーホール部と
の絶縁化が図られている。
〔作用〕
上記した手段によれば、本発明の混成集積回路装置は、
配線基板のチップ搭載領域を配線有効領域として使用す
ることができるので、配線を形成するための領域が広く
なり、その分配線基板の小型化が図れるため、混成集積
回路装置の小型化が図れる。
また、本発明によれば、チップ搭1! 領域の有効利用
により、配線基板には空領域ができるため、さらに多数
の電子部品の搭載も可能となり、混成集積回路装置の多
機能化、高集積化が達成できる。
本発明において、半導体チップの電極にワイヤを介して
接続される配線を、前記チップ搭載領域に延在させ、か
つこのチップ搭186i域に設けたスルーホール部に接
続する構造となっていることから、半導体チップの周囲
にスルーホール部を設ける従来の構造に比較して、スル
ーホール部形成に必要な面積分あるいは長さ分配線パタ
ーン領域を縮小できる。したがって、本発明によれば、
配線基板の小型化による混成集積回路袋!の小型化、配
線形成領域増大による電子部品のさらなる搭載による高
集積度、高機能化、配線形成領域増大による配線パター
ン設計の自由度向上がそれぞれ図れることになる。
〔実施例] 以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
第1図は本発明の一実施例による混成集積回路装置の要
部を示す斜視図、第2図は同じく混成集積回路装置の断
面図、第3図は同しく配線基板主面に搭載される電子部
品の配置概要を示す平面図、第4図は同じく半導体チッ
プの搭載状態を示す一部の拡大断面図、第5図は同しく
混成集積回路装置の組立に使用されるリードフレームの
平面図である。
この実施例の混成集積回路装置は、第2図に示されるよ
うに、外観的には略矩形体レジンからなるパッケージ1
と、このパッケージ1の周面から突出する複数のり一部
2とからなっている。前記パッケージ1内にはリードフ
レームの支持体(タブ)3が配設されているとともに、
このタブ3上には多層構造のプリント板からなる配線基
板4が接合材5を介して固定されている。前記配線基板
4の主面には、第3図に示されるように、VLS16、
LSI7.IC8,チップ抵抗9.チップコンデンサ1
0等が搭載されている。配線基板4は第4図に示される
ように、下層の配線板20゜中層の配線板21.上層の
配線板22と3枚の配線板の積層によって形成されてい
る。そして、各層間および上層の配線板5ならびに下層
の配線板20の表面には、導体層によって配線17等が
形成されている。また、この配線基板4の所定部にはス
ルーホール(貫通孔)が設けられるとともに、−このス
ルーホールにはメツキによって導体層が被着されて導電
性のスルーホール部16が形成されている。このスルー
ホール部16は、配線基板4の主面(表面)と裏面の配
線17等および/または各層間の配線17等を電気的に
接続する。なお、配線基板4は、第1図および第2図で
は三層に分けず、単一の層として表記しである。
一方、一部しか示してないが、前記上層の配線板22の
表面には回路パターン11が形成されている0回路パタ
ーン11は、上層の配線板22の周辺部に設けられるワ
イヤ接続用のワイヤポンディングパッド12と、VLS
I6.LSI7.IC8等の能動素子の周囲に設けられ
るワイヤ接続用のワイヤポンディングパッド13と、チ
ップ抵抗用バンド部14と、チップコンデンサ用パッド
部15と、配線基板4を貫通して設けたスルーホールに
導電材を充填してなるスルーホール部16と、以上の各
部を接続する配線17等とで構成されている。前記各部
品の寸法関係について、−例を上げるならば、配線基板
4は厚さ0.6mmで一辺の長さが25mmの正方形板
、VLS I 6は縦8mm、横7mm、LSI7は縦
12mm、横4mm、IC8は3mm口となっている。
また、チップ抵抗9やチップコンデンサ10は縦横がそ
れぞれ0.5mm〜1mm程度のものである。また、回
路パターン11は、35μm厚さの銅箔をエツチングに
より形成したものであり、前記配線17は線幅が100
μm、最小配線間隔は線幅と同じ100μmとなってい
る。また、前記ワイヤポンディングパッド12.13は
200μm口となり、表面はワイヤボンディングのため
に金メ・ツキが施されている。スルーホール部16は内
径がQ、  2mm、外径がQ、5mmとなっている。
そして、前記ワイヤポンディングパッド12.13を除
く回路パターン11部分は、第4図に示されるように、
ホトレジストによる絶縁膜1Bで被われている。また、
前記配線基板4の裏面も絶縁膜19で被われている。前
記絶縁+118は、配線17やスルーホール部16と半
導体チップ24とを電気的に絶縁する必要から、0.1
mmと厚い保護膜となっている。
このような配線基板4にあっては、主面の所定部にVL
sI6.LSI7.IC8等の能動部品やチップ抵抗9
.チップコンデンサ10等の受動部品が搭載される。ま
た、この実施例における能動部品はいずれもベアーチッ
プとなっている。そして、これらベアーチップ(半導体
チップ)24は、配線基板4のチップ搭載領域26に絶
縁性の接合体27を介して固定されている。また、半導
体チン1240図示しない電極は、ワイヤ25によって
配線基板4のワイヤボンディングバンド13に電気的に
接続されている。
他方、前記配線基板4の周囲にはワイヤボンディングバ
ンド12が設けられているが、これらのワイヤボンディ
ングバンド12は導電性のワイヤ28を介して前記リー
ド2の内端と電気的に接続されている。
また、これが本発明の特徴の一つであるが、前記VLS
r6.LSI7.IC8等の半導体チンプ24(電子部
品)を搭載する配線基板領域、すなわち、チップ搭載領
域26には、第1図乃至第4図に示されるように、配線
17および配線17の一部を構成するスルーホール部1
6が設けられている。チップ搭載領域26の周囲にはワ
イヤポンディングパッド13が並んで配設されているが
、その一部の配線17は前記チップ搭l!領域26に延
在しかつスルーホール部16に繋がっている。
このように、従来利用されずかつ面積的に数mm単位の
辺を有する面積の広いチップ搭載領域26に、配置s1
7やスルーホール部16を設けることによって配線でき
る領域が増大し、配線設計の自由度が高くなる。また、
チップ搭1&領域26を配線に使用することによって、
電子部品を搭載しない配線基板領域における配線未使用
域(空領域)が広くなり、この配線未使用域に新たに電
子部品の搭載や配線の形成が可能となって、混成集積回
路装置のさらなる多機能化、高集積化が可能となる。ま
た、前記配線未使用域を使用しない場合には、その分配
線基板4を小さくすることができ、混成集積回路装置の
小型化が可能となる。
特に、スルーホール部16を前記チップ搭載領域26に
多く設けることによって、前記配線基板4の配線未使用
域は広くなる。すなわち、前記スルーホール部16は、
その外径が最小でも0.5mmと配線17の線幅0.1
mmに対して5倍も大きいため、スルーホール部16を
面積的に余裕度があるチップ搭載領域26に設けること
は、配線未使用域の大幅な増大をもたらす、たとえば、
第6図は本発明の他の実施例による半導体チップ24の
搭載状態を示す斜視図である。この例では、半導体チッ
プ24の両側にワイヤボンディングバンドI3が配列さ
れているとともに、これらワイヤボンディングバンド1
3は、全てチップ搭載領域26に設けられたスルーホー
ル部16に配線17を介して接続された構造となってい
る。したがって、半導体チップ24の図示しない電極に
ワイヤ25を介して電気的に接続されるチップ搭載領域
26の周囲のワイヤボンディングバンド13が、スルー
ホール部I6に接続されるとした場合、スルーホール部
16がワイヤポンディングパッド13の外側に配列され
る第7図に示される従来の構造に比較して、この実施例
の場合は、スルーホール部16がワイヤボンディングバ
ンド13の内側、すなわち、チップ搭載領域26に設け
られていることから、第7図のaなる長さ、換言するな
らばスルーホール部I6の外径寸法程短くできる。この
結果、この構造によれば、半導体チップ24の両側はそ
れぞれa程短くなることから、ワイヤ25の延在方向で
は、全体として2aの長さ分短くなり、配線基板4の長
さを2a丈短くできることになる。したがって、4辺に
それぞれ電極が設けられる半導体チップの搭載の場合に
は、縦横それぞれ2a程配線パターンの寸法を小さくす
ることができることになる。換言するならば、搭載する
半導体チップの数が多くなる程配線未使用域は大きくな
り、本発明の効果は大きくなる。
つぎに、本発明の混成集積回路装置の組立について篇単
に説明する。混成集積回路装置の組立においては、第5
図に示されるようなリードフレーム30が使用される。
リードフレーム30は、0゜1mm 〜0.25mmの
厚さのFe−Ni系合金あるいはCu合金等からなる金
属板をエツチングまたは精密プレスによってパターニン
グすることによって形成される。リードフレーム30は
複数の単位リードパターンを一方向に直列に並べた形状
となっている。単位リードパターンは、一対の平行に延
在する外枠31と、この一対の外枠31を連結しかつ外
枠31に直交する方向に延在する一対の内枠32とによ
って形成される枠33内に形成されている。この枠33
の中央には、矩形状のタブ(支持体)3が配設されてい
る。また、このタブ3はその四隅をタブ吊りリード34
で支持されている。これらタブ吊りリード34は、枠3
3の四隅に張り出した支持片35に支持されている。
一方、前記枠33の各外枠31および内枠32の内側か
らは、相互に平行となって枠33の中央に延在する複数
のリード2が設けられている。このリード2は、前記隣
合う支持片35間に亘って設けられた細いダム36と交
差するパターンとなっている。そして、このダム36に
よって各リード2はその途中を支持されている。前記ダ
ム36は後述するレジンモールド時、溶けたレジンの流
出を阻止するダムとして作用する。また、このダム36
の内側の片持梁状のリード部分をインナーリード37と
呼称し、外側の部分をアウターリード38と呼称してい
る。なお、前記外枠31には、図示しないがガイド孔が
設けられている。このガイド孔は、リードフレーム30
の移送や位置決め等のガイドとして利用される。なお、
前記リードフレーム30は必要に応じて所望個所にメツ
キが施される。
つぎに、このようなリードフレーム30に対して、第5
図の二点鎖線で示されるように、配線基板4が接合材5
を介して固定される。その後、前記配線基板4の主面に
は、第3図に示されるように、VLSI6.LSI7.
IC8等の能動部品やチップ抵抗9.チップコンデンサ
10等の受動部品が搭載される。能動部品はベアーチッ
プとなり、第4図に示されるように、接合体27によっ
て配線基板4のチップ搭msi域26に固定される。
前記接合体27は絶縁性のものが選択されるが、仮に導
電性のものが使用されても、前記チップ搭載領域26は
絶縁性の絶縁111Bで被われていることから、ベアー
チップである半導体チップ24は配線基板4の配線17
やスルーホール部16等との電気的絶縁が確実に維持で
きることになる。
チップ抵抗9やチップコンデンサIOは導電性接着剤等
によってチップ抵抗用パッド部14やチップコンデンサ
用パッド部15に固定される。また、前記半導体チップ
24の図示しない電極と、半導体チップ24の周囲に配
設されたワイヤポンディングパッド13は、第1図およ
び第4図に示されるように、導電体からなるワイヤ25
によって電気的に接続される。
つぎに、配線基板4の周辺のワイヤポンディングパッド
12と、インナーリード37の先端とが、第2図に示さ
れるように、導電体からなるワイヤ2日によって電気的
に接続される。
つぎに、このようなリードフレーム30は常用のモール
ド(トランスファモールド)技術によって、前記タブ3
.配線基板4.配線基板4に搭載された電子部品等、ワ
イヤ28.インナーリード37の内端部分がレジンから
なるパッケージ1で封止される。また、不要となるリー
ドフレーム部分は切断除去される。さらに、パッケージ
1から突出するリード2は成形されて、第2図に示され
るようなガルウィング型のレジンパッケージ構造の混成
集積回路装置が製造される。なお、前記パ7ケージlは
全体でその厚さが3〜4mm程度である。
このような実施例による本発明によれば、つぎのような
効果が得られる。
(1)本発明の混成集積回路装置は、半導体チップを搭
載する配線基板領域、すなわち、チップ搭!ll!領域
に配線および配線の一部を構成するスルーホール部が設
けられ、従来使用に供されない領域が有効に利用されて
いるという効果が得られる。
(2)上記(1)により、本発明の混成集積回路装置は
、従来利用されていないチップ搭1! 8N域に、配線
やスルーホール部が設けられることによって配線できる
領域が増大するため、配線設計の自由度が高くなるとい
う効果が得られる。また、この場合、配線やスルーホー
ル部は絶縁膜で被われていることから、半導体チップと
配線等とのシヲートは防止できる。
(3)上記(1)により、本発明の混成集積回路装置は
、従来利用されていないチップ搭Ill域を配線に使用
することによって、電子部品を搭載しない配線基板領域
における配線未使用域が広(なり、この配線未使用域に
新たに電子部品の搭載や配線の形成が可能となって、混
成集積回路装置のさらなる多機能化、高集積化が可能と
なるという効果が得られる。
(4)上記(3)により、本発明の混成集積回路装置は
、チップ搭eta域の有効利用によって、配線基板にお
ける配線未使用域を使用しない場合には、その分配線基
板を小さくすることができるという効果が得られる。
(5)上記(4)により、配線基板の小型化から、混成
集積回路装置の小型化が可能となるという効果が得られ
る。
(6)本発明において、半導体チップの周囲のワイヤポ
ンディングパッドがチップ搭l’ 6M域に設けられた
スルーホール部に配線を介して接続される構造とすれば
、ワイヤポンディングパッドの外側にスルーホール部を
設ける構造に比較して、チップ搭載領域を外れた領域に
スルーホール部形成のための領域を必要としな(なるた
め、配線パターンの縮小化が可能となり、配線基板の大
幅な小型化が達成できるという効果が得られる。
(7)上記(6)により、本発明によれば、混成集積回
路装置における回路パターンの縮小化率は、搭載する半
導体チップの数が多くなる程大きくなるという効果が得
られる。
(8)上記(1)〜(7)により、本発明によれば、混
成集積回路装置の多機能化、高集積化さらには小型化が
図れるという相乗効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、前記実施例で
は、電子部品の一つである半導体チップの搭載領域に配
線およびスルーホール部を設けたが、チップ抵抗やチッ
プコンデンサ等の他の電子部品の搭iur域に、配線お
よび/またはスルーホール部を設けても前記実施例同様
な効果が得られる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるリードフレームを用
いて製造する混成集積回路装置の製造技術に適用した場
合について説明したが、それに限定されるものではなく
、一般の混成集積回路装置の製造技術にも適用できる。
本発明は少なくとも配線基板に部品の搭載技術には適用
できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
本発明の混成集積回路装置は、配線基板のチップ搭11
i1域を配線有効領域として使用しているので、配線を
形成するための領域が広くなり、配線設計の自由度が高
くなるとともに、チップ搭載;■域の使用によって配線
基板に生した空領域に電子部品を搭載することによって
混成集積回路装置の多機能化、高集積化が達成でき、か
つ空領域分配線基板を小型にすることによって混成集積
回路装置の小型化が図れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による混成集積回路装置の要
部を示す斜視図、 第2図は同しく混成集積回路装置の断面図、第3図は同
じく配線基板主面に搭載される電子部品の配置概要を示
す平面図、 第4図は同じく半導体チップの搭載状態を示す一部の拡
大断面図、 第5図は同じく混成集積回路装置の組立に使用されるリ
ードフレームの平面図、 第6図は本発明の他の実施例による半導体チップの搭載
状態を示す斜視図、 第7図は従来の混成集積回路装置における半導体チップ
の搭載状態を示す一部の拡大断面図である。 l・・・パッケージ、2・・・リード、3・・・タブ、
4・・・配線基板、5・・・接合材、6・・・VLS 
I、7・・・LSI、B・・・IC19・・・チップ抵
抗、10・・・チップコンデンサ、11・・・回路パタ
ーン、12.13・・・ワイヤポンディングパッド、1
4・・・チップ抵抗用バンド部、15・・・チップコン
デンサ用パッド部、16・・・スルーホール部、17・
・・配線、18.19・・・絶縁膜、20・・・下層の
配線板、21・・・中層の配線板、22・・・上層の配
線板、24・・・半導体チップ、25.28・・・ワイ
ヤ、26・・・チップ搭載領域、27・・・接合体、3
0・・・リードフレーム、3工・・・外枠、32・・・
内枠、33・・・枠、34・・・タブ吊りリード、35
・・・支持片、36・・・ダム、37・・・インナーリ
ード、38・・・アウターリード。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.配線基板に電子部品を搭載してなる混成集積回路装
    置であって、前記電子部品が搭載される部分の配線基板
    領域に配線およびスルーホール部が設けられていること
    を特徴とする混成集積回路装置。
  2. 2.前記配線基板の電子部品搭載領域の表面は絶縁膜で
    被われていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の混成集積回路装置。
  3. 3.配線基板に電子部品を搭載してなる混成集積回路装
    置であって、前記電子部品が搭載される部分の配線基板
    領域に配線およびスルーホール部が設けられるとともに
    、前記電子部品の電極に電気的に繋がる配線端子は前記
    電子部品搭載領域に配線として延在しかつ電子部品搭載
    領域に設けられたスルーホール部に接続されていること
    を特徴とする混成集積回路装置。
  4. 4.リードフレームの支持体と、この支持体の周囲に配
    設された複数のリードと、前記支持体に固定されかつ電
    子部品を搭載した配線基板と、前記リードの内端部およ
    び支持体ならびに配線基板等を封止するパッケージとか
    らなる混成集積回路装置であって、前記電子部品が搭載
    される部分の配線基板領域に配線およびスルーホール部
    が設けられていることを特徴とする混成集積回路装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0600750A3 (en) * 1992-12-04 1995-04-19 Sgs Thomson Microelectronics Circuit arrangement with a lead frame insert.
JPH10214912A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Sony Corp 半導体装置及び半導体装置の製造方法並びに配線基板

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