JPH04171178A - 微粒子撹拌混合装置 - Google Patents
微粒子撹拌混合装置Info
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- JPH04171178A JPH04171178A JP29728490A JP29728490A JPH04171178A JP H04171178 A JPH04171178 A JP H04171178A JP 29728490 A JP29728490 A JP 29728490A JP 29728490 A JP29728490 A JP 29728490A JP H04171178 A JPH04171178 A JP H04171178A
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- 230000005514 two-phase flow Effects 0.000 claims abstract description 51
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- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 7
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- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、微粒子と気体の固気2相流を被加工物に噴射
して、被加工物を加工する装置に固気2相流を供給する
ために、微粒子と気体とを攪拌混合する装置に係わり、
微粒子を気体に均一に混合する事が出来るようにした微
粒子攪拌混合装置に関する。
して、被加工物を加工する装置に固気2相流を供給する
ために、微粒子と気体とを攪拌混合する装置に係わり、
微粒子を気体に均一に混合する事が出来るようにした微
粒子攪拌混合装置に関する。
本発明の微粒子攪拌混合装置は、気体供給装置として、
微粒子の落下方向と略逆方向に気体を供給するフィルタ
ーと、微粒子の落下方向と略直交する方向に気体を供給
する放射ノズルとから構成する事によって、固気2相流
として、微粒子を気体に均一に分散させるようにする。
微粒子の落下方向と略逆方向に気体を供給するフィルタ
ーと、微粒子の落下方向と略直交する方向に気体を供給
する放射ノズルとから構成する事によって、固気2相流
として、微粒子を気体に均一に分散させるようにする。
微粒子と気体の固気2相流を被加工物に噴射して加工す
る装置に、固気2相流を供給するための微粒子と気体と
を攪拌混合する装置に関し、本発明の発明者等が、特願
平2−152867号に、次のような提案をした。即ち
、この装置は、超音波モータにより駆動される回転翼と
、フィルターを通過した気体とにより、固気2相流とし
て、微粒子を気体に均一に分散させようとするものであ
る。
る装置に、固気2相流を供給するための微粒子と気体と
を攪拌混合する装置に関し、本発明の発明者等が、特願
平2−152867号に、次のような提案をした。即ち
、この装置は、超音波モータにより駆動される回転翼と
、フィルターを通過した気体とにより、固気2相流とし
て、微粒子を気体に均一に分散させようとするものであ
る。
本発明は、従来のこのような回転翼を用いて微粒子を気
体内に均一に分散させるのではなく、気体の流れのみで
、固気2相流として、微粒子を気体に均一に分散させる
事が可能な微粒子攪拌混合装置を提供する事を課題とし
ている。
体内に均一に分散させるのではなく、気体の流れのみで
、固気2相流として、微粒子を気体に均一に分散させる
事が可能な微粒子攪拌混合装置を提供する事を課題とし
ている。
本発明は、微粒子と気体の固気2相流を被加工物に噴射
して加工する装置に前記固気2相流を供給するために、
前記微粒子と気体とを攪拌混合し、固気2相流とする混
合室を備えた微粒子攪拌混合装置において、 前記混合室に微粒子を供給する微粒子供給装置と、前記
混合室に気体を供給する気体供給装置と、前記微粒子と
気体とを攪拌混合する事により得られる固気2相流を集
めて、収束して反射させる集微粒子装置と、前記固気2
相流を前記微粒子噴射式加工装置に供給する固気2相流
供給装置と、余分な気体を排出する排気装置とにより構
成され、前記気体供給装置は、微粒子の落下方向と略逆
方向に気体を供給するフィルターと、微粒子の落下方向
と略直交方向に気体を供給する放射ノズルとから成る。
して加工する装置に前記固気2相流を供給するために、
前記微粒子と気体とを攪拌混合し、固気2相流とする混
合室を備えた微粒子攪拌混合装置において、 前記混合室に微粒子を供給する微粒子供給装置と、前記
混合室に気体を供給する気体供給装置と、前記微粒子と
気体とを攪拌混合する事により得られる固気2相流を集
めて、収束して反射させる集微粒子装置と、前記固気2
相流を前記微粒子噴射式加工装置に供給する固気2相流
供給装置と、余分な気体を排出する排気装置とにより構
成され、前記気体供給装置は、微粒子の落下方向と略逆
方向に気体を供給するフィルターと、微粒子の落下方向
と略直交方向に気体を供給する放射ノズルとから成る。
このように、本発明の微粒子攪拌混合装置の気体供給装
置は、フィルターと放射ノズルとから成り、フィルター
は微粒子の落下方向と略逆方向(軸流方向)に気体を供
給し、放射ノズルは、微粒子の落下方向と略直交方向(
放射流方向)に気体を供給する事によって、固気2相流
として、微粒子を気体に均一に分散させる事が可能であ
る。
置は、フィルターと放射ノズルとから成り、フィルター
は微粒子の落下方向と略逆方向(軸流方向)に気体を供
給し、放射ノズルは、微粒子の落下方向と略直交方向(
放射流方向)に気体を供給する事によって、固気2相流
として、微粒子を気体に均一に分散させる事が可能であ
る。
以下、本発明の微粒子攪拌混合装置の一実施例を第1図
に従って説明する。第1図は微粒子噴射式加工装置と本
発明の微粒子攪拌混合装置の一実施例を示す断面図であ
る。第1図に示すように、装置全体としては、微粒子噴
射式加工装置上と微粒子攪拌混合装置用とから成り、微
粒子噴射式加工装置上は、微粒子2と気体3の固気2相
流4を被加工物5に噴射して被加工物5を加工する装置
であり、微粒子攪拌混合袋f30は、この微粒子噴射式
加工装置上に固気2相流4を供給するために、微粒子2
と気体3とを攪拌混合す装置である。
に従って説明する。第1図は微粒子噴射式加工装置と本
発明の微粒子攪拌混合装置の一実施例を示す断面図であ
る。第1図に示すように、装置全体としては、微粒子噴
射式加工装置上と微粒子攪拌混合装置用とから成り、微
粒子噴射式加工装置上は、微粒子2と気体3の固気2相
流4を被加工物5に噴射して被加工物5を加工する装置
であり、微粒子攪拌混合袋f30は、この微粒子噴射式
加工装置上に固気2相流4を供給するために、微粒子2
と気体3とを攪拌混合す装置である。
第1図に示した固気2相流4.4aとしては、2つの種
類がある。第1の種類の固気2相流4aは、微粒子2を
空気やドライ窒素等の気体3に攪拌混合した状態の種類
で、即ち微粒子2を気体3に混合し、微粒子2に流動性
を持たせた状態をいう。
類がある。第1の種類の固気2相流4aは、微粒子2を
空気やドライ窒素等の気体3に攪拌混合した状態の種類
で、即ち微粒子2を気体3に混合し、微粒子2に流動性
を持たせた状態をいう。
そして、第2の種類の固気2相流4は、この第1の種類
の固気2相流4aに、高圧の気体3を更に混合し、高速
な固気2相流4として、噴射ノズル6から被加工物5に
噴射して、この被加工物5を加工する。
の固気2相流4aに、高圧の気体3を更に混合し、高速
な固気2相流4として、噴射ノズル6から被加工物5に
噴射して、この被加工物5を加工する。
本発明は微粒子攪拌混合装置別に関してであるが、まず
、最初に、微粒子噴射式加工装置上に関して説明する。
、最初に、微粒子噴射式加工装置上に関して説明する。
微粒子噴射式加工装置上は、微粒子2と気体3の固気2
相流4を被加工物5に噴射して被加工物5を加工する装
置である。高圧の気体3は、高圧ガス管11に導かれ、
流体ドライヤ13に入る。12は高圧ガス調整パルプを
示す。流体ドライヤ13の所で、高圧ガス管11は2系
統14.15に分離される。その一系統である高圧ガス
管14は吸引ノズル16を有し、その端部に前述の噴射
ノズル6が配されている。吸引ノズル16の近傍で、固
気2相流4aに、高圧の気体3を混合し、高速な固気2
相流4として、この固気2相流4を噴射ノズル6から被
加工物5に噴射して、被加工物5を加工する。
相流4を被加工物5に噴射して被加工物5を加工する装
置である。高圧の気体3は、高圧ガス管11に導かれ、
流体ドライヤ13に入る。12は高圧ガス調整パルプを
示す。流体ドライヤ13の所で、高圧ガス管11は2系
統14.15に分離される。その一系統である高圧ガス
管14は吸引ノズル16を有し、その端部に前述の噴射
ノズル6が配されている。吸引ノズル16の近傍で、固
気2相流4aに、高圧の気体3を混合し、高速な固気2
相流4として、この固気2相流4を噴射ノズル6から被
加工物5に噴射して、被加工物5を加工する。
次に、本発明の微粒子攪拌混合製置皿を説明する。前述
の2系統の高圧ガス管14.15の内の他の一系統の高
圧ガス管15は、高圧ガス調整バルブ17と、高圧ガス
管1日を通して、本発明の微粒子攪拌混合製置皿の混合
室31に接続されている。
の2系統の高圧ガス管14.15の内の他の一系統の高
圧ガス管15は、高圧ガス調整バルブ17と、高圧ガス
管1日を通して、本発明の微粒子攪拌混合製置皿の混合
室31に接続されている。
本発明の微粒子攪拌混合装置別は、この混合室31と、
この混合室31に微粒子2を供給する微粒子供給装置3
2と、混合室31に気体3を供給する気体供給装置33
と、微粒子2と気体3とを攪拌混合する事により得られ
る固気2相流4aを集めて、収束して反射させる集微粒
子装置34と、固気2相流4aを前記微粒子噴射式加工
装置上に供給する固気2相流供給装置35と、余分な気
体3aを排出する排気装置36とにより構成されている
。
この混合室31に微粒子2を供給する微粒子供給装置3
2と、混合室31に気体3を供給する気体供給装置33
と、微粒子2と気体3とを攪拌混合する事により得られ
る固気2相流4aを集めて、収束して反射させる集微粒
子装置34と、固気2相流4aを前記微粒子噴射式加工
装置上に供給する固気2相流供給装置35と、余分な気
体3aを排出する排気装置36とにより構成されている
。
本発明の特徴は、気体供給装置33にあるが、この気体
供給装置33を説明する前に、それぞれの細部を説明す
る。まず、微粒子供給装置32であるが、微粒子2を図
示していないホッパーから材料供給管32aを通して、
混合室31に供給するためのもので、32bは開閉バル
ブである。開閉バルブ32bを開くと、微粒子2は重力
により、第1図の下方向に落下する。
供給装置33を説明する前に、それぞれの細部を説明す
る。まず、微粒子供給装置32であるが、微粒子2を図
示していないホッパーから材料供給管32aを通して、
混合室31に供給するためのもので、32bは開閉バル
ブである。開閉バルブ32bを開くと、微粒子2は重力
により、第1図の下方向に落下する。
気体供給装置33は、微粒子2の落下方向と略逆方向(
第1図の上方向)に気体3(気体3bと図示)を供給す
るフィルター33aと、微粒子2の落下方向と略直交方
向に気体3(気体3Cと図示)を供給する放射ノズル3
3bとから成る。フィルター33aから供給される微粒
子2の落下方向と略逆方向の気体3bと、放射ノズル3
3bから供給される微粒子2の落下方向と略直交方向の
気体3Cによって、微粒子2と気体3とが攪拌混合され
、固気2相流4aとなる。
第1図の上方向)に気体3(気体3bと図示)を供給す
るフィルター33aと、微粒子2の落下方向と略直交方
向に気体3(気体3Cと図示)を供給する放射ノズル3
3bとから成る。フィルター33aから供給される微粒
子2の落下方向と略逆方向の気体3bと、放射ノズル3
3bから供給される微粒子2の落下方向と略直交方向の
気体3Cによって、微粒子2と気体3とが攪拌混合され
、固気2相流4aとなる。
集微粒子装置f34は、このような固気2相流4aを集
めて、収束して、反射させる。収束して、反射された固
気2相流4aは、固気2相流供給装置35の固気2相流
供給噴穴35aに入り、固気2相流開閉バルブ35bと
固気2相流管35cを通って、前述の微粒子噴射式加工
装置上の吸引ノズル16の近傍に供給される。この微粒
子噴射式加工装置上の吸引ノズル16にて、固気2相流
4aに高圧の気体3を更に混合し、高速な固気2相流4
として、噴射ノズル6から被加工物5に噴射されて、被
加工物5を加工する。
めて、収束して、反射させる。収束して、反射された固
気2相流4aは、固気2相流供給装置35の固気2相流
供給噴穴35aに入り、固気2相流開閉バルブ35bと
固気2相流管35cを通って、前述の微粒子噴射式加工
装置上の吸引ノズル16の近傍に供給される。この微粒
子噴射式加工装置上の吸引ノズル16にて、固気2相流
4aに高圧の気体3を更に混合し、高速な固気2相流4
として、噴射ノズル6から被加工物5に噴射されて、被
加工物5を加工する。
被加工物5に噴射された固気2相流4と被加工物5の加
工粉は回収ノズル19aに回収され、固気2相流排気管
19bと固気2相流排気調整バルブ19cを通って、図
示していない微粒子回収装置に排出され、微粒子2は回
収される。
工粉は回収ノズル19aに回収され、固気2相流排気管
19bと固気2相流排気調整バルブ19cを通って、図
示していない微粒子回収装置に排出され、微粒子2は回
収される。
説明を微粒子攪拌混合装置用の細部に戻す。即ち、余分
な気体3aを排出する排気装置36を説明する。36a
は排気フィルターであり、排気に微粒子2が含まれない
ように微粒子2を除去するためのものである。36bは
排気管、36cは排気調整バルブである。高圧の気体3
を気体供給装置33により、供給しているのであるから
、混合室31の中の圧力は大きくなる。所定以上の圧力
になると、排気調整バルブ36cが働いて、混合室31
内の圧力を所定圧力以下に保つ、また、微粒子供給装置
32により、微粒子2を供給しようとする時、混合室3
1内の圧力が高いと、微粒子2が混合室31内に入って
行かない。そこで、排気調整バルブ36cが働き、微粒
子2が混合室31に入れる圧力(通常は大気圧)まで、
混合室31内の圧力を下げる。
な気体3aを排出する排気装置36を説明する。36a
は排気フィルターであり、排気に微粒子2が含まれない
ように微粒子2を除去するためのものである。36bは
排気管、36cは排気調整バルブである。高圧の気体3
を気体供給装置33により、供給しているのであるから
、混合室31の中の圧力は大きくなる。所定以上の圧力
になると、排気調整バルブ36cが働いて、混合室31
内の圧力を所定圧力以下に保つ、また、微粒子供給装置
32により、微粒子2を供給しようとする時、混合室3
1内の圧力が高いと、微粒子2が混合室31内に入って
行かない。そこで、排気調整バルブ36cが働き、微粒
子2が混合室31に入れる圧力(通常は大気圧)まで、
混合室31内の圧力を下げる。
このように本発明の微粒子攪拌混合装置用を構成する事
によって、固気2相流4として、微粒子2を気体3に均
一に分散される事が可能である。
によって、固気2相流4として、微粒子2を気体3に均
一に分散される事が可能である。
このようにして得られた均一に微粒子2が気体3に分散
された固気2相流4を、微粒子噴射式加工装置上に供給
し、固気2相流4を被加工物5に噴射して被加工物5を
加工する事によって、被加工物5の微細加工が可能とな
る。微細加工される被加工物5をマイクロデバイスとい
い、被加工物5を加工する手段(微粒子噴射式加工装置
上と称した)をマイクロデバイスプロセッサという。
された固気2相流4を、微粒子噴射式加工装置上に供給
し、固気2相流4を被加工物5に噴射して被加工物5を
加工する事によって、被加工物5の微細加工が可能とな
る。微細加工される被加工物5をマイクロデバイスとい
い、被加工物5を加工する手段(微粒子噴射式加工装置
上と称した)をマイクロデバイスプロセッサという。
本発明の微粒子攪拌混合袋W30において、混合室31
を略球形にすると、圧力に対する混合室310強度が増
加する。
を略球形にすると、圧力に対する混合室310強度が増
加する。
以上のように、本発明の微粒子攪拌混合装置の気体供給
装置は、フィルターと放射ノズルとから成り、フィルタ
ーは微粒子の落下方向と略逆方向(軸流方向)に気体を
供給し、放射ノズルは、微粒子の落下方向と略直交方向
(放射流方向)に気体を供給する事によって、固気2相
流として、微粒子を気体に均一に分散させる事が可能で
ある。
装置は、フィルターと放射ノズルとから成り、フィルタ
ーは微粒子の落下方向と略逆方向(軸流方向)に気体を
供給し、放射ノズルは、微粒子の落下方向と略直交方向
(放射流方向)に気体を供給する事によって、固気2相
流として、微粒子を気体に均一に分散させる事が可能で
ある。
このようにして得られた均一に微粒子が気体に分散され
た固気2相流を、微粒子噴射式加工装置に供給し、固気
2相流を被加工物に噴射して被加工物を加工する事によ
って、被加工物の微細加工が可能となる。
た固気2相流を、微粒子噴射式加工装置に供給し、固気
2相流を被加工物に噴射して被加工物を加工する事によ
って、被加工物の微細加工が可能となる。
第1図は微粒子噴射式加工装置と本発明の微粒子攪拌混
合装置の一実施例を示す断面図である。 1・−・・・−・・−・微粒子噴射式加工装置2−・・
・−−−−−−−−−一微粒子3−・・・−・・・−・
・−気体 3a−・−・−・−・−−−−一余分な気体3b・・・
・−・−・−・・・−微粒子2の落下方向と略逆方向に
供給される気体 3c・・−−−−−・−−−−−−−・・微粒子2の落
下方向と略直交方向に供給される気体 4.4a−・・・−固気2相流 5−・−・・−・・−被加工物 6−・・・−・・−−−−一噴射ノズル鎚・−・−・−
微粒子攪拌混合装置 31・・−・−・・−・−・・混合室
合装置の一実施例を示す断面図である。 1・−・・・−・・−・微粒子噴射式加工装置2−・・
・−−−−−−−−−一微粒子3−・・・−・・・−・
・−気体 3a−・−・−・−・−−−−一余分な気体3b・・・
・−・−・−・・・−微粒子2の落下方向と略逆方向に
供給される気体 3c・・−−−−−・−−−−−−−・・微粒子2の落
下方向と略直交方向に供給される気体 4.4a−・・・−固気2相流 5−・−・・−・・−被加工物 6−・・・−・・−−−−一噴射ノズル鎚・−・−・−
微粒子攪拌混合装置 31・・−・−・・−・−・・混合室
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、微粒子と気体の固気2相流を被加工物に噴射して加
工する装置に前記固気2相流を供給するために、前記微
粒子と気体とを攪拌混合し、固気2相流とする混合室を
備えた微粒子撹拌混合装置において、 前記混合室に微粒子を供給する微粒子供給装置と、前記
混合室に気体を供給する気体供給装置と、前記微粒子と
気体とを攪拌混合する事により得られる固気2相流を集
めて、収束して反射させる集微粒子装置と、前記固気2
相流を前記微粒子噴射式加工装置に供給する固気2相流
供給装置と、余分な気体を排出する排気装置とにより構
成され、前記気体供給装置は、微粒子の落下方向と略逆
方向に気体を供給するフィルターと、微粒子の落下方向
と略直交方向に気体を供給する放射ノズルとから成る事
を特徴とする微粒子攪拌混合装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の微粒子攪拌混合装置に
おいて、 前記混合室が略球形である事を特徴とする微粒子攪拌混
合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29728490A JP2882031B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 微粒子撹拌混合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29728490A JP2882031B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 微粒子撹拌混合装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04171178A true JPH04171178A (ja) | 1992-06-18 |
JP2882031B2 JP2882031B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=17844527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29728490A Expired - Fee Related JP2882031B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 微粒子撹拌混合装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2882031B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016163644A (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-08 | 株式会社ナカニシ | 粉粒混合気体生成器 |
-
1990
- 1990-11-05 JP JP29728490A patent/JP2882031B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016163644A (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-08 | 株式会社ナカニシ | 粉粒混合気体生成器 |
WO2016143615A1 (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 株式会社ナカニシ | 粉粒混合気体生成器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2882031B2 (ja) | 1999-04-12 |
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