JPH0416516A - 酸化物超電導体及びその製造法 - Google Patents
酸化物超電導体及びその製造法Info
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- JPH0416516A JPH0416516A JP2118013A JP11801390A JPH0416516A JP H0416516 A JPH0416516 A JP H0416516A JP 2118013 A JP2118013 A JP 2118013A JP 11801390 A JP11801390 A JP 11801390A JP H0416516 A JPH0416516 A JP H0416516A
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明#′i酸化物超電導体及びその製造法に関する。
(従来の技術)
従来の酸化物超電導体としては、1988年。
金属材料技術研究所の前出総合研究官らによって発見さ
れたビスマス、ストロンチウム、カル7ウム及び銅を主
成分とするBi −Sr −Ca −Cu−0系の酸化
物超電導体があるが、このBi −Sr −Ca −C
uO系の酸化物超電導体は、電気抵抗が零になる臨界温
度(以下Tぎ0とする)が110に付近であり、タリウ
ム、バリウム、カル/ラム及び銅を主成分とするTe−
Ba −Ca −Cu −0系の酸化物超電導体につい
で高いことが知られている。
れたビスマス、ストロンチウム、カル7ウム及び銅を主
成分とするBi −Sr −Ca −Cu−0系の酸化
物超電導体があるが、このBi −Sr −Ca −C
uO系の酸化物超電導体は、電気抵抗が零になる臨界温
度(以下Tぎ0とする)が110に付近であり、タリウ
ム、バリウム、カル/ラム及び銅を主成分とするTe−
Ba −Ca −Cu −0系の酸化物超電導体につい
で高いことが知られている。
Bi −Sr −Ca −Cu−0系の酸化物超電導体
は。
は。
T/ −Ba −Ca −Cu −0系の酸化物超電導
体ヨシモ毒性が弱いという特徴を有するが、結晶相にお
いて耳er0が110にとなる2223相よりも。
体ヨシモ毒性が弱いという特徴を有するが、結晶相にお
いて耳er0が110にとなる2223相よりも。
T2er0が80にの2212相又はTぎ0が20Kの
2201相が生成し易いという欠点がある。その後、ジ
ャパニーズ・ジャーナル・オプ・アプライド0フイジツ
クス(Japanese Journal ofA
pplied Physics )Vol、27.6号
(1988年6月刊)、L1041〜L1043頁に示
されるように、鉛を添加したB1−Pb−8r−Ca−
Cu −0系の酸化物超電導体(以下Bi系超超電導体
する)で2223相が多く得られることが明らかになっ
た。
2201相が生成し易いという欠点がある。その後、ジ
ャパニーズ・ジャーナル・オプ・アプライド0フイジツ
クス(Japanese Journal ofA
pplied Physics )Vol、27.6号
(1988年6月刊)、L1041〜L1043頁に示
されるように、鉛を添加したB1−Pb−8r−Ca−
Cu −0系の酸化物超電導体(以下Bi系超超電導体
する)で2223相が多く得られることが明らかになっ
た。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記のBi系超超電導体、2223相を生
成する温度範囲が狭いという問題があると共に2223
相を多く生成させるためには長時間。
成する温度範囲が狭いという問題があると共に2223
相を多く生成させるためには長時間。
例えは100時間の焼成が必要である。
一方Bi系超電導体は、2223相の他にCazPbO
a 、 PbCuO2等の異相が残留し易い。
a 、 PbCuO2等の異相が残留し易い。
CazPbO4,PbCu0z等の異相が2223相中
に共存すると超電導体の含有率が低下して臨界電流密度
(以下Jcとする)の低下を引き起こす問題がある。
に共存すると超電導体の含有率が低下して臨界電流密度
(以下Jcとする)の低下を引き起こす問題がある。
またBi系超超電導体、YBa−Cu−0系超電導体に
比べ磁場の印加によってJcが低下し易いという問題が
あシ、超電導電磁石、超電導磁気シールド材への適用の
面で不利であった。さらに焼結体の密饗を高くすること
が困難であり9粒子同士のつながりの改善が強く求めら
れていた。
比べ磁場の印加によってJcが低下し易いという問題が
あシ、超電導電磁石、超電導磁気シールド材への適用の
面で不利であった。さらに焼結体の密饗を高くすること
が困難であり9粒子同士のつながりの改善が強く求めら
れていた。
本発明は上記のような問題のない酸化物超電導体及びそ
の製造法を提供することを目的とするものである。
の製造法を提供することを目的とするものである。
(a題を解決するための手段)
本発明は銀を10〜35重量%及びパラジウムを0.1
〜2重量%含み、かつ 一般式Bt 1−A P bAS r B Ca1Mg
□ BaDCu 1,740,301(但しA=0.
15〜0.35.B=0.8〜1.1.B=0.8〜1
.2.C=0.05〜0.3.D=0.2未満。
〜2重量%含み、かつ 一般式Bt 1−A P bAS r B Ca1Mg
□ BaDCu 1,740,301(但しA=0.
15〜0.35.B=0.8〜1.1.B=0.8〜1
.2.C=0.05〜0.3.D=0.2未満。
数字は原子比を表わす)
で示される組成からなる酸化物超電導体及び上記の組成
となるように鎖、パラジウム、ビスマス。
となるように鎖、パラジウム、ビスマス。
鉛、ストロンチウム、カルシウム、マグネシウム。
バリウム及び銅を含む各原料を秤量し、ついで混合した
後焼成する酸化物超電導体の製造法に関すfOo 本発明において鋏としては、銀粉末の他、#に化銀、塩
化銀、硝酸銀等が用いられ焼成後鍋単体になる物質であ
れば特に制限はない。
後焼成する酸化物超電導体の製造法に関すfOo 本発明において鋏としては、銀粉末の他、#に化銀、塩
化銀、硝酸銀等が用いられ焼成後鍋単体になる物質であ
れば特に制限はない。
またパラジウムとしては、パラジウム粉末の他。
酸化パラジウムなどが用いられ、暁成後・;ラジウム単
体における物質であれば特に制限はない。
体における物質であれば特に制限はない。
鋼は酸化物超電導体中に10〜35重量%の範囲で含有
されることが必要とされ、10重量%未満ではパラジウ
ムの添加効果を均一化する助剤としての効果が低く、3
5重量%を越えると該効果はあるが、超電導体の体積率
が低下するっ一方パラジウムは酸化物超電導体中に0.
1〜2重量−の範囲で含有されることが必要とされ、0
.1重量−未満ではパラジウムによる高Jc化、磁場特
性の改善の効果が少なく、2重量%を越えると高価にな
るという欠点が生じる。
されることが必要とされ、10重量%未満ではパラジウ
ムの添加効果を均一化する助剤としての効果が低く、3
5重量%を越えると該効果はあるが、超電導体の体積率
が低下するっ一方パラジウムは酸化物超電導体中に0.
1〜2重量−の範囲で含有されることが必要とされ、0
.1重量−未満ではパラジウムによる高Jc化、磁場特
性の改善の効果が少なく、2重量%を越えると高価にな
るという欠点が生じる。
上記成分の他にビスマス、鉛、ストロンチウム。
カルシウム、マグネシウム、ノくリウム及び銅を含む原
料については特に制限はないが1例えば酸化物、炭酸塩
、硝酸塩等の1種またに2種以上が用いられる。
料については特に制限はないが1例えば酸化物、炭酸塩
、硝酸塩等の1種またに2種以上が用いられる。
一般式Bi I−APbASrBCa、(MgCBaD
Cul、7.。、30xにおいて、AFi原子比で0,
15〜0.35の範囲とさA、0.15未満であるとT
、 が8OK付近の中温相が生成し易くなるためll0
K付近の高温相の生成量が少なくな5,0.35を越え
ると鉛とカルシウムとの酸化物であるCazPbOaな
どの異相が多量に生成し臨界温度が低下する。
Cul、7.。、30xにおいて、AFi原子比で0,
15〜0.35の範囲とさA、0.15未満であるとT
、 が8OK付近の中温相が生成し易くなるためll0
K付近の高温相の生成量が少なくな5,0.35を越え
ると鉛とカルシウムとの酸化物であるCazPbOaな
どの異相が多量に生成し臨界温度が低下する。
Bは原子比で0.8〜1.1の範囲とされ、0.8未満
であると高温相が生成する焼成条件の範囲が狭く、かつ
ll0K付近で安定して電気抵抗を零にすることが困難
であJ、1.1を越えると超電導体以外の異相が生成し
易< T:erOが低下する。
であると高温相が生成する焼成条件の範囲が狭く、かつ
ll0K付近で安定して電気抵抗を零にすることが困難
であJ、1.1を越えると超電導体以外の異相が生成し
易< T:erOが低下する。
B′r/′i原子比テ0.8〜1.2の範囲とされ、0
.8未満であると顕著な効果が認められず、1.2を越
えると超電導体以外の異相が生成し易い。
.8未満であると顕著な効果が認められず、1.2を越
えると超電導体以外の異相が生成し易い。
Cは原子比で0.05〜0.3の範囲とされ、O,OS
未満であると顕著な効果は認められず、0.3を越える
と超電導体以外の異相が生成し易い。
未満であると顕著な効果は認められず、0.3を越える
と超電導体以外の異相が生成し易い。
DI/′i原子比で0.2未満とされ、0.2以上であ
ると超電導体以外の異相が生成し易い。
ると超電導体以外の異相が生成し易い。
原料の混合方法については特に制限はないが。
例えば合成樹脂製のボールミル内に合成樹脂で被覆した
ボール、エタノール、メタノール等の溶媒及び原料を充
填し、湿式混合する方法、溶媒中に原料を溶解した後に
共沈生成物を得る共沈法、アルコキシド等の原料を加水
分解さぞてゾルを炸裂し、これをゲル化させるゾル−ゲ
ル法等を用いることができる。
ボール、エタノール、メタノール等の溶媒及び原料を充
填し、湿式混合する方法、溶媒中に原料を溶解した後に
共沈生成物を得る共沈法、アルコキシド等の原料を加水
分解さぞてゾルを炸裂し、これをゲル化させるゾル−ゲ
ル法等を用いることができる。
本発明では混合した後必要に応じて仮焼全行うが、その
仮焼条件において、仮焼温度及び時間は各原料の配合割
合などにより適宜選定されるが。
仮焼条件において、仮焼温度及び時間は各原料の配合割
合などにより適宜選定されるが。
835℃±20℃好ましくは835℃−1:10℃で2
0〜200時間仮焼することが好ましく、また仮焼雰囲
気は、大気中、酸素雰囲気中、真空中。
0〜200時間仮焼することが好ましく、また仮焼雰囲
気は、大気中、酸素雰囲気中、真空中。
還元雰囲気中等で仮焼することができ特に制限はない。
粉砕及び成形については%に制限はなく、従来公知の方
法で行うものとする。
法で行うものとする。
焼成条件において、焼成温度は各原料の配合割合などに
よシ適宜選定されるが、820〜870℃の範囲で焼成
することが好ましく、また焼成雰囲気は、大気中、空気
気流中、または低酸素圧雰囲気中(酸素の含有量が1〜
20体積チ好ましくは2〜20体積チの範囲)で焼成す
ることが好ましい。
よシ適宜選定されるが、820〜870℃の範囲で焼成
することが好ましく、また焼成雰囲気は、大気中、空気
気流中、または低酸素圧雰囲気中(酸素の含有量が1〜
20体積チ好ましくは2〜20体積チの範囲)で焼成す
ることが好ましい。
本発明の組成においてO(酸素)の量は、Cu。
量及びCuの酸化状態によって定まる。しかし酸化状態
がどのようKなっているかを厳密にそして精度よく測定
することができず本発明においてはXで表わされる。
がどのようKなっているかを厳密にそして精度よく測定
することができず本発明においてはXで表わされる。
(実施例)
以下本発明の詳細な説明する。
実施例1〜6
ビスマス、鉛、ストロンチウム、マグネシウム。
バリウム、カルシウム及び銅の比率が原子比で第1表に
示す組成になるように三酸化ビスマス(高純度化学研究
断裂、純度99.9%)、炭酸ストロンチウム(レアメ
タリック製、純度99.9 % )酸化マグネシウム(
高純度化学研究所製、純度99.9チ)、炭酸バリウム
(高純度化学研究所羨、純度99.9%)、炭酸カルシ
ウム(高純度化学研究所製、純度99.9%)及び酸化
第2銅(高純度化学研党所製、純11[99,9チ)を
秤量し出発原料とした。
示す組成になるように三酸化ビスマス(高純度化学研究
断裂、純度99.9%)、炭酸ストロンチウム(レアメ
タリック製、純度99.9 % )酸化マグネシウム(
高純度化学研究所製、純度99.9チ)、炭酸バリウム
(高純度化学研究所羨、純度99.9%)、炭酸カルシ
ウム(高純度化学研究所製、純度99.9%)及び酸化
第2銅(高純度化学研党所製、純11[99,9チ)を
秤量し出発原料とした。
次に上記の出発原料を合成樹脂製のボールミル内に合成
樹脂で被覆した鋼球ボール及びメタノールと共に充てん
し毎分50回転の条件で72時時間式混合した。乾燥後
アルミナ匣鉢に入れ電気炉を用いて大気中800℃で1
0時間仮焼し、ついで乳鉢で粗粉砕し念後9合成樹脂裂
ボールミル内にジルコニア製ボール、酢酸エチルと共に
原子比で第1表に示す組成になるように一酸化鉛(黄色
。
樹脂で被覆した鋼球ボール及びメタノールと共に充てん
し毎分50回転の条件で72時時間式混合した。乾燥後
アルミナ匣鉢に入れ電気炉を用いて大気中800℃で1
0時間仮焼し、ついで乳鉢で粗粉砕し念後9合成樹脂裂
ボールミル内にジルコニア製ボール、酢酸エチルと共に
原子比で第1表に示す組成になるように一酸化鉛(黄色
。
高純度化学研究所製、純度99,9チ)を秤量して充て
んし、毎分50回転の条件で24時時間式混合後、乾燥
し、il!化物超電導体用組成物を得た。
んし、毎分50回転の条件で24時時間式混合後、乾燥
し、il!化物超電導体用組成物を得た。
この後酸化物超電導体用組成物を147MPaの圧力で
プレス成形後9体積比で02:N2=1 : 10の低
酸素圧雰囲気中で835℃で100時間焼成して厚さ1
mmの酸化物超電導体用材料を得た。
プレス成形後9体積比で02:N2=1 : 10の低
酸素圧雰囲気中で835℃で100時間焼成して厚さ1
mmの酸化物超電導体用材料を得た。
この後上記の酸化物超電導体用材料を乳鉢で粗粉砕した
後2合成樹脂製ボールミル内にジルコニア製ボール、酢
酸エチルと共に充てんし毎分50回転の条件で48時時
間式粉砕後、銀粉及びパラジウム粉を第1表に示す組成
になるように添加し。
後2合成樹脂製ボールミル内にジルコニア製ボール、酢
酸エチルと共に充てんし毎分50回転の条件で48時時
間式粉砕後、銀粉及びパラジウム粉を第1表に示す組成
になるように添加し。
さらに5時間混合して均一にした。なお銀粉は田中貴金
属製、またパラジウム粉は徳力本店展でいずれも純度9
9.9%以上で平均粒径が2チ1μmの粉末を用いた。
属製、またパラジウム粉は徳力本店展でいずれも純度9
9.9%以上で平均粒径が2チ1μmの粉末を用いた。
乾燥後得られた粉末を147 MPaの圧力で直径30
■、厚さ1−のペレツ)K成形後、大気中で840℃で
10時間焼成して飯化物超電導焼結体を得た。
■、厚さ1−のペレツ)K成形後、大気中で840℃で
10時間焼成して飯化物超電導焼結体を得た。
比較例1〜6
第1表に示す組成になるように各原料を秤量し。
以下実施例と同様の工程を経て酸化物超電導体を得た。
次に各実施例及び比較例で得た酸化物超電導体を長さ2
0mmX幅311I11×厚さl−の直方体に加工し、
四端子法で抵抗の温度変化を測定しTぎ0を求めた。ま
た上記と同様の試料を用いて液体窒素温度(77,3K
)でのJc6を測定すると共に液体窒素中0.05テス
ラの磁場中での”0.05を#1足した。これらの測定
結果及びJco、osとJco との比を合わせて第1
表忙示す。
0mmX幅311I11×厚さl−の直方体に加工し、
四端子法で抵抗の温度変化を測定しTぎ0を求めた。ま
た上記と同様の試料を用いて液体窒素温度(77,3K
)でのJc6を測定すると共に液体窒素中0.05テス
ラの磁場中での”0.05を#1足した。これらの測定
結果及びJco、osとJco との比を合わせて第1
表忙示す。
第1表から本発明の実施例になる酸化物超電導体は、T
:eroが高く、磁場の印加によるJcの低下が小さい
ことが示される。これに対し比較例の酸化物超電導体は
T:erOは実施例になる酸化物超電導体とあまシ変
わらないが、磁場の印加によりJcの低下が大きいこと
が示される。
:eroが高く、磁場の印加によるJcの低下が小さい
ことが示される。これに対し比較例の酸化物超電導体は
T:erOは実施例になる酸化物超電導体とあまシ変
わらないが、磁場の印加によりJcの低下が大きいこと
が示される。
(発明の効果)
本発明になる酸化物超電導体は T:erOの低下が少
なく、また磁場の印加によるJcの低下も小さく、工業
的に極めて経通カ酸化物超電導体である。
なく、また磁場の印加によるJcの低下も小さく、工業
的に極めて経通カ酸化物超電導体である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、銀を10〜35重量%及びパラジウムを0.1〜2
重量%含み、かつ 一般式Bi_1_−_APb_ASr_BCa_BMg
_CBa_DCu_1_._7_±_0_._3Ox(
但しA=0.15〜0.35、B=0.8〜1.1、B
′=0.8〜1.2、C=0.05〜0.3、D=0.
2未満、数字は原子比を表わす) で示される組成からなる酸化物超電導体。 2、請求項1記載の組成となるように銀、パラジウム、
ビスマス、鉛、ストロンチウム、カルシウム、マグネシ
ウム、バリウム及び銅を含む各原料を秤量し、ついで混
合した後焼成することを特徴とする酸化物超電導体の製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2118013A JPH0416516A (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 酸化物超電導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2118013A JPH0416516A (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 酸化物超電導体及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0416516A true JPH0416516A (ja) | 1992-01-21 |
Family
ID=14725899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2118013A Pending JPH0416516A (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 酸化物超電導体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0416516A (ja) |
-
1990
- 1990-05-08 JP JP2118013A patent/JPH0416516A/ja active Pending
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