JPH04160188A - 封孔処理液及び方法 - Google Patents
封孔処理液及び方法Info
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 26
- -1 phthalic acid ester Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 17
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000004264 Petrolatum Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229940066842 petrolatum Drugs 0.000 claims abstract description 7
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 claims abstract description 7
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000344 soap Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 11
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 11
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims description 9
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 13
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 abstract 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 abstract 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 3
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N diheptyl phthalate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N (2r,3r,4r,5s)-hexane-1,2,3,4,5,6-hexol;(z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)CCCCC1 ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVAGMBHLXLZJKZ-UHFFFAOYSA-N 2-o-decyl 1-o-octyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC LVAGMBHLXLZJKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole Chemical compound CC1=CC=CC2=NNN=C12 CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 2
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 2
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 2
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- CJMZLCRLBNZJQR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-amino-4-(4-fluorophenyl)thiophene-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=C(N)SC=C1C1=CC=C(F)C=C1 CJMZLCRLBNZJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 2
- 235000011069 sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 2
- 239000001593 sorbitan monooleate Substances 0.000 description 2
- 229940035049 sorbitan monooleate Drugs 0.000 description 2
- 235000011076 sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 2
- 239000001587 sorbitan monostearate Substances 0.000 description 2
- 229940035048 sorbitan monostearate Drugs 0.000 description 2
- 229960005078 sorbitan sesquioleate Drugs 0.000 description 2
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 2
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COGHWIKGZJHSAG-UHFFFAOYSA-L zinc;2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Zn+2].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1.C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 COGHWIKGZJHSAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 1-methylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)N=NC2=C1 HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRHMMGNCXNXJL-UHFFFAOYSA-N 1-methylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C=CC2=C1 BLRHMMGNCXNXJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZRNAYUHWVFMIP-KTKRTIGZSA-N 1-oleoylglycerol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(O)CO RZRNAYUHWVFMIP-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- LWCOSGCLJGQXIV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonic acid;ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCN.C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 LWCOSGCLJGQXIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTMGZTIJDQYEKI-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol;2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class OCCN(CCO)CCO.C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 YTMGZTIJDQYEKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOXHHUSCWMAPPY-UHFFFAOYSA-N 2-benzylindazole Chemical compound C1=C2C=CC=CC2=NN1CC1=CC=CC=C1 VOXHHUSCWMAPPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZHXZJUWHKFMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylindazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(C)C=C21 OAZHXZJUWHKFMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONUJSMYYXFLULS-UHFFFAOYSA-N 2-nonylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCCCCCCC)=CC=C21 ONUJSMYYXFLULS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004255 Butylated hydroxyanisole Substances 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004803 Di-2ethylhexylphthalate Substances 0.000 description 1
- ZVFDTKUVRCTHQE-UHFFFAOYSA-N Diisodecyl phthalate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC(C)C ZVFDTKUVRCTHQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N N-phenyl aniline Natural products C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSBLJNMZWBPOPI-UHFFFAOYSA-N [2-(9,9-diphenylnonyl)phenyl] dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 GSBLJNMZWBPOPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- QCIGHKFGWASDAN-UHFFFAOYSA-N azanium;2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonate Chemical class [NH4+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 QCIGHKFGWASDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- YSIQDTZQRDDQNF-UHFFFAOYSA-L barium(2+);2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Ba+2].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1.C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 YSIQDTZQRDDQNF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IYVBKVVOHXVKRD-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-1-yl(phenyl)methanone Chemical compound C1=NC2=CC=CC=C2N1C(=O)C1=CC=CC=C1 IYVBKVVOHXVKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N beryllium copper Chemical compound [Be].[Cu] DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940043253 butylated hydroxyanisole Drugs 0.000 description 1
- CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N butylated hydroxyanisole Chemical compound COC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1.COC1=CC=C(O)C=C1C(C)(C)C CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019282 butylated hydroxyanisole Nutrition 0.000 description 1
- MKFUUBCXQNCPIP-UHFFFAOYSA-L calcium;2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Ca+2].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1.C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 MKFUUBCXQNCPIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- IUYOGGFTLHZHEG-UHFFFAOYSA-N copper titanium Chemical compound [Ti].[Cu] IUYOGGFTLHZHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- SPBMDAHKYSRJFO-UHFFFAOYSA-N didodecyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCCCCCC SPBMDAHKYSRJFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N diisononyl phthalate Chemical compound CC(C)CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC(C)C HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDNQRCVBPNOTNV-UHFFFAOYSA-N dinonylnaphthylsulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 WDNQRCVBPNOTNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GBHRVZIGDIUCJB-UHFFFAOYSA-N hydrogenphosphite Chemical compound OP([O-])[O-] GBHRVZIGDIUCJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 1
- UTWGRMYWDUMKNY-UHFFFAOYSA-N indole-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2N(C(=O)O)C=CC2=C1 UTWGRMYWDUMKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- WTHCDEDKJUFXJG-UHFFFAOYSA-M lithium;2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonate Chemical class [Li+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 WTHCDEDKJUFXJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000144972 livestock Species 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPJPBLLWYCLERP-UHFFFAOYSA-N n-(benzotriazol-1-ylmethyl)-n-octyloctan-1-amine Chemical compound C1=CC=C2N(CN(CCCCCCCC)CCCCCCCC)N=NC2=C1 GPJPBLLWYCLERP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- DHQIJSYTNIUZRY-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-di(nonyl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 DHQIJSYTNIUZRY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OMMLUKLXGSRPHK-UHFFFAOYSA-N tetramethylbutane Chemical compound CC(C)(C)C(C)(C)C OMMLUKLXGSRPHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、金めつき電気接点の封孔処理液、封孔処理方
法及び封孔処理されたコネクタ接触〜子に関する。特に
は潤滑、防錆及び電気的接続性が長期的に安定して優れ
る封孔処理液、封孔処理方法及び封孔処理されたコネク
タに関する。
法及び封孔処理されたコネクタ接触〜子に関する。特に
は潤滑、防錆及び電気的接続性が長期的に安定して優れ
る封孔処理液、封孔処理方法及び封孔処理されたコネク
タに関する。
[従来の技術]
電子機器用接続部品としてコネクタは最も代表的なもの
であり多種多様のコネクタが実用化されている。電算機
や通信用機器等高度の信頼性が要求される、いわゆる産
業用電子機器に使用されるコネクタは、りん青銅、ベリ
リウム銅等のバネ用銅合金を母材とし、接点用金属被膜
としてニッケル下地めっき後その上に金めつきを施した
ものが一般に利用されている。
であり多種多様のコネクタが実用化されている。電算機
や通信用機器等高度の信頼性が要求される、いわゆる産
業用電子機器に使用されるコネクタは、りん青銅、ベリ
リウム銅等のバネ用銅合金を母材とし、接点用金属被膜
としてニッケル下地めっき後その上に金めつきを施した
ものが一般に利用されている。
金は貴金属の中でも極めて耐食性が高く、表面に酸化物
や他の被膜を形成しないため電気的接続性に優れ、接点
用金属として広く使用されている。しかし、金は高価で
あるため、コネクタの製造コストを下げる目的で様々な
畜舎化策が採られてきた。その代表的方法が金めつきの
厚みを薄くする方法であるが、金めつきの厚みを薄くす
るとともに、被膜のピンホールの数が指数関数的に増え
、耐食性が著しく低下するという問題を抱えている。こ
の問題を解決する方法のひとつに封孔処理がある。すな
わち、各種の無機性、あるいは有機性の薬品で金めつき
面を処理し、ピンホールを塞ぎ耐食性を向上させようと
するものであった。
や他の被膜を形成しないため電気的接続性に優れ、接点
用金属として広く使用されている。しかし、金は高価で
あるため、コネクタの製造コストを下げる目的で様々な
畜舎化策が採られてきた。その代表的方法が金めつきの
厚みを薄くする方法であるが、金めつきの厚みを薄くす
るとともに、被膜のピンホールの数が指数関数的に増え
、耐食性が著しく低下するという問題を抱えている。こ
の問題を解決する方法のひとつに封孔処理がある。すな
わち、各種の無機性、あるいは有機性の薬品で金めつき
面を処理し、ピンホールを塞ぎ耐食性を向上させようと
するものであった。
[発明が解決しようとする課題]
封孔処理、特に有機性の薬品による封孔処理は、金めつ
き被膜の厚み低減に対し、耐食性を維持する効果に優れ
ている。ところが従来の封孔処理液は鉄系金属材料や銅
系金属材料の防錆剤として知られていた化合物を中心と
して選択されたものか、あるいは畜舎化以前にも金めつ
き接点の潤滑を目的として使用されていた潤滑剤をその
まま使用したものが一般的であった。
き被膜の厚み低減に対し、耐食性を維持する効果に優れ
ている。ところが従来の封孔処理液は鉄系金属材料や銅
系金属材料の防錆剤として知られていた化合物を中心と
して選択されたものか、あるいは畜舎化以前にも金めつ
き接点の潤滑を目的として使用されていた潤滑剤をその
まま使用したものが一般的であった。
封孔処理された金めつきに要求される特性としては、
■ 潤滑性がよいこと、
■ 耐食性が優れていること、
■ 接触抵抗が低く安定していること、■ はんだ付性
がよいこと、及び ■ それらの特性が各種の環境、使用条件下で長期に亘
り持続すること、 である。
がよいこと、及び ■ それらの特性が各種の環境、使用条件下で長期に亘
り持続すること、 である。
ところが従来の封孔処理液は、そのような総合的観点か
ら必ずしも満足できるものではなく、なんらかの品質面
で劣っているものが一般的であった。
ら必ずしも満足できるものではなく、なんらかの品質面
で劣っているものが一般的であった。
特に自動車の電子機器化、いわゆるカーエレクトロニク
ス化の急激な進展とともに自動車に使用される電子回路
用コネクタの材料で金めっきされたものが増えている。
ス化の急激な進展とともに自動車に使用される電子回路
用コネクタの材料で金めっきされたものが増えている。
そのような状況にあって、上記■〜■の特性のうち■の
耐食性において、耐工業ガス(H25SSO2混合)性
及び耐塩水噴霧性を、更に■において、過酷な温湿度サ
イクル環境下における耐久性を、従来の封孔処理よりも
大巾に改善しつつ、かつその他の特性については、同等
もしくはそれ以上の特性を有する封孔処理液技術が必要
となった。
耐食性において、耐工業ガス(H25SSO2混合)性
及び耐塩水噴霧性を、更に■において、過酷な温湿度サ
イクル環境下における耐久性を、従来の封孔処理よりも
大巾に改善しつつ、かつその他の特性については、同等
もしくはそれ以上の特性を有する封孔処理液技術が必要
となった。
本発明は、このような要求を満たすことのできる改善さ
れた封孔処理液及びそれを用いる封孔処理方法を提供す
ることを目的とし、あわせてそれにより処理されたコネ
クタを提供することを目的とするものである。
れた封孔処理液及びそれを用いる封孔処理方法を提供す
ることを目的とし、あわせてそれにより処理されたコネ
クタを提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
かかる状況に鑑み、本発明者等は鋭意研究を行った結果
、以下に示す封孔処理液、方法及び封孔処理されたコネ
クタを発明するに至った。
、以下に示す封孔処理液、方法及び封孔処理されたコネ
クタを発明するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、以下の(A)〜(E)の各群の
うちの2つ以上の群からそれぞれ1種または2種以上選
択された化合物を含む有機溶剤溶液よりなることを特徴
とする封孔処理液。
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、以下の(A)〜(E)の各群の
うちの2つ以上の群からそれぞれ1種または2種以上選
択された化合物を含む有機溶剤溶液よりなることを特徴
とする封孔処理液。
(A)イソステアリン酸、酸化ワックス、及び酸化ペト
ロラタム0.05〜3wt%、(B)アルキル置換ナフ
タレンスルフォン酸塩0.05〜3wt%、 (C)アミン0.05〜3wt%、 (D)金属石けん0.05〜3wt%、(E)フタル酸
エステル、亜りん酸エステル、グリセリンモノエステル
、及びソルビタンエステルチル0,01〜3wt%。
ロラタム0.05〜3wt%、(B)アルキル置換ナフ
タレンスルフォン酸塩0.05〜3wt%、 (C)アミン0.05〜3wt%、 (D)金属石けん0.05〜3wt%、(E)フタル酸
エステル、亜りん酸エステル、グリセリンモノエステル
、及びソルビタンエステルチル0,01〜3wt%。
(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種もしくは2
種以上0.05〜twt%をさらに含有することを特徴
とする前記(1)記載の封孔処理液。
種以上0.05〜twt%をさらに含有することを特徴
とする前記(1)記載の封孔処理液。
(3)前記(1)記載の(A)〜(E)から選択された
いずれか1種の化合物0.01〜3wt%と、キレート
形成性環状窒素化合物の1種又は2種以上0.05〜3
wt%を含有する封孔処理液。
いずれか1種の化合物0.01〜3wt%と、キレート
形成性環状窒素化合物の1種又は2種以上0.05〜3
wt%を含有する封孔処理液。
(4)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上0.001−1wt%を、さらに含有する
ことを特徴とする前記(1) 、(2)又は(3)記載
の封孔処理液。
くは2種以上0.001−1wt%を、さらに含有する
ことを特徴とする前記(1) 、(2)又は(3)記載
の封孔処理液。
(5)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてニッケルを
めっきし、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、前記 (1)、(2) 、(3)又は(4)記載の
封孔処理液で処理することを特徴とする封孔処理方法。
めっきし、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、前記 (1)、(2) 、(3)又は(4)記載の
封孔処理液で処理することを特徴とする封孔処理方法。
(6)ニッケル及び金または金合金めっきされた銅系ま
たは鉄系金属材料をプレス加工後、前記(1)、(2)
、(3)又は(4)に記載の封孔処理液で処理すること
を特徴とする封孔処理方法。
たは鉄系金属材料をプレス加工後、前記(1)、(2)
、(3)又は(4)に記載の封孔処理液で処理すること
を特徴とする封孔処理方法。
(7)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、前記(1) 、(2) 、(3)又は(4)記載の
封孔処理液で封孔処理したことを特徴とするコネクタで
ある。
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、前記(1) 、(2) 、(3)又は(4)記載の
封孔処理液で封孔処理したことを特徴とするコネクタで
ある。
本発明の封孔処理液の必須成分は、以下の(A)〜(E
)で示される群から選択される。
)で示される群から選択される。
すなわち、
(A)イソステアリン酸、酸化ワックス、及び酸化ペト
ロラタム0.05〜3wt%、 (B)アルキル置換ナフタレンスルフォン酸塩0.1〜
3wt%、 (C)アミン0.05〜3wt%、 (D)金属石けん0.05〜3wt%、(E)フタル酸
エステル、亜りん酸エステル、グリセリンモノエステル
、及びソルビタンエステル0.01〜3wt%であり、
これらは2種以上の群からそれぞれ1種又は2種以上混
合して添加され、耐食性向上に寄与する。上記(A)〜
(D)成分の添加量は0.05〜3wt%である。0.
05wt%未満では防錆効果が低く、3wt%を越える
と、接触抵抗への悪影響が認められる。
ロラタム0.05〜3wt%、 (B)アルキル置換ナフタレンスルフォン酸塩0.1〜
3wt%、 (C)アミン0.05〜3wt%、 (D)金属石けん0.05〜3wt%、(E)フタル酸
エステル、亜りん酸エステル、グリセリンモノエステル
、及びソルビタンエステル0.01〜3wt%であり、
これらは2種以上の群からそれぞれ1種又は2種以上混
合して添加され、耐食性向上に寄与する。上記(A)〜
(D)成分の添加量は0.05〜3wt%である。0.
05wt%未満では防錆効果が低く、3wt%を越える
と、接触抵抗への悪影響が認められる。
又、(E)成分の添加量は、0.01〜3wt%の範囲
であり、0.01wt%未満では耐食性向上効果が得ら
れず、3wt%を越えると接触抵抗への悪影響が認めら
れる。
であり、0.01wt%未満では耐食性向上効果が得ら
れず、3wt%を越えると接触抵抗への悪影響が認めら
れる。
本発明において使用する(B)成分のアルキル置換ナフ
タレンスルフォン酸塩は次式で表される。
タレンスルフォン酸塩は次式で表される。
5O9
(Rは炭素数6〜12のアルキル基;Mは塩形成成分;
nは1〜2の整数、mはMの価数に一致する整数) アルキル置換ナフタレンスルフォン酸塩として好ましい
ものを具体的に例示すれば、たとえば、ジノニルナフタ
レンスルフオン酸バリウム塩、ジノニルナフタレンスル
フオン酸カルシウム塩、ジノニルナフタレンスルフオン
酸亜鉛塩、ジノニルナフタレンスルフオン酸バリウム塩
基性塩、ジノニルナフタレンスルフオン酸エチレンジア
ミン塩、ジノニルナフタレンスルフォン酸ナトリウム塩
、及びジノニルナフタレンスルフォン酸リチウム塩、ジ
ノニルナフタレンスルフォン酸鉛塩、ジノニルナフタレ
ンスルフォン酸アンモニウム塩、ジノニルナフタレンス
ルフオン酸トリエタノールアミン塩等を挙げることがで
きる。
nは1〜2の整数、mはMの価数に一致する整数) アルキル置換ナフタレンスルフォン酸塩として好ましい
ものを具体的に例示すれば、たとえば、ジノニルナフタ
レンスルフオン酸バリウム塩、ジノニルナフタレンスル
フオン酸カルシウム塩、ジノニルナフタレンスルフオン
酸亜鉛塩、ジノニルナフタレンスルフオン酸バリウム塩
基性塩、ジノニルナフタレンスルフオン酸エチレンジア
ミン塩、ジノニルナフタレンスルフォン酸ナトリウム塩
、及びジノニルナフタレンスルフォン酸リチウム塩、ジ
ノニルナフタレンスルフォン酸鉛塩、ジノニルナフタレ
ンスルフォン酸アンモニウム塩、ジノニルナフタレンス
ルフオン酸トリエタノールアミン塩等を挙げることがで
きる。
本発明において使用する上記(C)成分のアミンとして
は脂肪族又は環状脂肪族が好ましく、特に好ましいもの
としては、オクタデシルアミン、ドデシルアミン、デシ
ルアミン、オクチルアミン、及びシクロヘキシルアミン
等を挙げることができる。
は脂肪族又は環状脂肪族が好ましく、特に好ましいもの
としては、オクタデシルアミン、ドデシルアミン、デシ
ルアミン、オクチルアミン、及びシクロヘキシルアミン
等を挙げることができる。
又、本発明において使用する上記(D)の金属石けんと
して特に好ましいものとしては、たとえば、酸化ペトロ
ラタム金属塩、酸化ワックス金属塩、ステアリン酸金属
塩、ラウリン酸金属塩、リシルロン酸金属塩、ミリスチ
ン酸金属塩、オレイン酸金属塩、ナフテン酸金属塩、及
びラノリン酸金属塩等を挙げることができ、金属塩は特
に制限はないが、好ましくはCa5Al。
して特に好ましいものとしては、たとえば、酸化ペトロ
ラタム金属塩、酸化ワックス金属塩、ステアリン酸金属
塩、ラウリン酸金属塩、リシルロン酸金属塩、ミリスチ
ン酸金属塩、オレイン酸金属塩、ナフテン酸金属塩、及
びラノリン酸金属塩等を挙げることができ、金属塩は特
に制限はないが、好ましくはCa5Al。
Ba、Pb塩等である。
本発明において使用する上記(E)成分のフタル酸エス
テルとしては、例えば、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタ
ル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジー2−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、
フタル酸ジイソデシル等を挙げることができる。
テルとしては、例えば、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタ
ル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジー2−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、
フタル酸ジイソデシル等を挙げることができる。
亜りん酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホス
ファイト、トリクレジルホスファイト、ジフェニルノニ
ルフェニルホスファイト、トリラウリルホスファイト、
ジラウリルハイドロゼンホスファイト等を挙げることが
できる。
ファイト、トリクレジルホスファイト、ジフェニルノニ
ルフェニルホスファイト、トリラウリルホスファイト、
ジラウリルハイドロゼンホスファイト等を挙げることが
できる。
グリセリンモノエステルとしては、例えば、グリセリン
モノオレイン酸エステルを挙げることができる。
モノオレイン酸エステルを挙げることができる。
ソルビタンエステルとしては、例えば、ソルビタンモノ
・ラウレート、ソルビタンモノ−ステアレート、ソルビ
タンモノ・パルミテート、ソルビタンモノ・オレエート
、ソルビタンセスキ・オレエート、ソルビタントリ・オ
レエート等を挙げることができる。
・ラウレート、ソルビタンモノ−ステアレート、ソルビ
タンモノ・パルミテート、ソルビタンモノ・オレエート
、ソルビタンセスキ・オレエート、ソルビタントリ・オ
レエート等を挙げることができる。
本発明の封孔処理液には必要に応じてキレート形成性環
状窒素化合物;アミン系又はフェノール系酸化防止剤を
添加することができる。キレート形成性環状窒素化合物
は、銅、ニッケル等に配位して安定なキレートを形成す
る化合物で、特にベンゼン環を有する環状窒素化合物、
あるいはトリアジン系化合物が好ましい。具体例を挙げ
れば、ベンゼン環を有する環状窒素化合物としては、た
とえば、 ベンゾトリアゾール系 インダゾール系 ベンズイミダゾール系 インドール系 (上記各式中、R1は水素、アルキル、置換アルキルを
表わし、R2はアルカリ金属、水素、アルキル、置換ア
ルキルを表わす) 等を挙げることができる。
状窒素化合物;アミン系又はフェノール系酸化防止剤を
添加することができる。キレート形成性環状窒素化合物
は、銅、ニッケル等に配位して安定なキレートを形成す
る化合物で、特にベンゼン環を有する環状窒素化合物、
あるいはトリアジン系化合物が好ましい。具体例を挙げ
れば、ベンゼン環を有する環状窒素化合物としては、た
とえば、 ベンゾトリアゾール系 インダゾール系 ベンズイミダゾール系 インドール系 (上記各式中、R1は水素、アルキル、置換アルキルを
表わし、R2はアルカリ金属、水素、アルキル、置換ア
ルキルを表わす) 等を挙げることができる。
ベンゾトリアゾール系としては、例えばベンゾトリアゾ
ール(R1、R2ともに水素)、1−メチルベンゾトリ
アゾール(R+が水素、R2がメチル)、1− (N、
N−ジオクチルアミノメチル)ベンゾトリアゾール(R
+が水素、R2かN、N−ジオクチルアミノメチル)、
トリルトリアゾール(R+がメチル、R2が水素)、ソ
ジウムトリルトリアゾール(R+がメチル、R2がナト
リウム)等が好ましい。
ール(R1、R2ともに水素)、1−メチルベンゾトリ
アゾール(R+が水素、R2がメチル)、1− (N、
N−ジオクチルアミノメチル)ベンゾトリアゾール(R
+が水素、R2かN、N−ジオクチルアミノメチル)、
トリルトリアゾール(R+がメチル、R2が水素)、ソ
ジウムトリルトリアゾール(R+がメチル、R2がナト
リウム)等が好ましい。
インダゾール系としては、例えばインダゾール(R1,
R2ともに水素)、2−メチルインダゾール(R+が水
素、R2がメチル)、2−ベンジルインダゾール(R+
が水素、R2が(6R5CH2)、■−アセチルインダ
ゾール(R+が水素、R2がC0CH5)等が好ましい
。
R2ともに水素)、2−メチルインダゾール(R+が水
素、R2がメチル)、2−ベンジルインダゾール(R+
が水素、R2が(6R5CH2)、■−アセチルインダ
ゾール(R+が水素、R2がC0CH5)等が好ましい
。
ベンズイミダゾール系としては、例えばベンズイミダゾ
ール(R+、R2ともに水素)、N−アセチイベンズイ
ミダゾール(R+か水素、R2かC0CH2)、N−ベ
ンゾイルベンズイミダゾール(R+か水素、R2かC0
C6H3)等が好ましい。
ール(R+、R2ともに水素)、N−アセチイベンズイ
ミダゾール(R+か水素、R2かC0CH2)、N−ベ
ンゾイルベンズイミダゾール(R+か水素、R2かC0
C6H3)等が好ましい。
インドール系としては、例えばインドール(R1、R2
ともに水素)、インドール−1−カルボン酸(R+が水
素、R2がC00H)、1−メチルインドール(R+が
水素、R2がCH3)等が好ましい。
ともに水素)、インドール−1−カルボン酸(R+が水
素、R2がC00H)、1−メチルインドール(R+が
水素、R2がCH3)等が好ましい。
また、トリアジン系化合物の好ましい具体例を挙げれば
、例えば、8−置換−1,3,5−)リアジン−2,4
−ジチオール−ナトリウム塩(Rはアルキル基で置換さ
れたアミノ基で、好ましくは−N(C4R9) 2、−
N(C8Hry) 2、−N(CI2 H25) 2、
−NHCa Hva CH−CHCe H17等である
)、 シアヌル酸<2.4.8− トリオキシ−1,3,5−
トリアジン)、 H メラミン(2,4,6−)リアミノ−1,3,5−)リ
アジン)、 H2 等を挙げることができる。これらは1種または2種以上
混合して添加され、耐食性、耐久性を向上させる。その
濃度は総量で0.05〜3yt%である。0.05vt
%より小さいと耐食性、耐久性が低く、また、3wt%
より大きいと電気的接続性に支障が生じる。
、例えば、8−置換−1,3,5−)リアジン−2,4
−ジチオール−ナトリウム塩(Rはアルキル基で置換さ
れたアミノ基で、好ましくは−N(C4R9) 2、−
N(C8Hry) 2、−N(CI2 H25) 2、
−NHCa Hva CH−CHCe H17等である
)、 シアヌル酸<2.4.8− トリオキシ−1,3,5−
トリアジン)、 H メラミン(2,4,6−)リアミノ−1,3,5−)リ
アジン)、 H2 等を挙げることができる。これらは1種または2種以上
混合して添加され、耐食性、耐久性を向上させる。その
濃度は総量で0.05〜3yt%である。0.05vt
%より小さいと耐食性、耐久性が低く、また、3wt%
より大きいと電気的接続性に支障が生じる。
又、本発明の封孔処理液に、必要に応じて添加される上
記のアミン系又はフェノール系酸化防止剤としては、た
とえば、 P、P“−ジオクチルジフェニルアミン4.4゛−テト
ラメチルジアミノジフェニルメタ4.4°−メチレン−
ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェノール) (CH3) 3 CC(CH3) 3 2.2°−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール) CH3CH3 2,2°−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブ
チルフェノール) CH2CH3CH2CH3 2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾールH CH3 ブチル化ヒドロキシアニソール 0CR30CH3 2,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノ−H2CH
3 等を挙げることができる。
記のアミン系又はフェノール系酸化防止剤としては、た
とえば、 P、P“−ジオクチルジフェニルアミン4.4゛−テト
ラメチルジアミノジフェニルメタ4.4°−メチレン−
ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェノール) (CH3) 3 CC(CH3) 3 2.2°−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール) CH3CH3 2,2°−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブ
チルフェノール) CH2CH3CH2CH3 2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾールH CH3 ブチル化ヒドロキシアニソール 0CR30CH3 2,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノ−H2CH
3 等を挙げることができる。
これらは、1種又は2種以上を0.001〜1wt%添
加することができる。
加することができる。
これらの成分を添加することにより、耐久性を一層向上
させることができる。すなわち、封孔処理皮膜の機能を
長期に亘り安定させ、また高温環境における皮膜の劣化
を抑制する効果を有する。0.001vt%未満てはそ
の効果を得ることはできず、1νt%を越えると接触抵
抗の低下現象が認められる。
させることができる。すなわち、封孔処理皮膜の機能を
長期に亘り安定させ、また高温環境における皮膜の劣化
を抑制する効果を有する。0.001vt%未満てはそ
の効果を得ることはできず、1νt%を越えると接触抵
抗の低下現象が認められる。
封孔処理液は上述の成分を有するが、溶媒としては特に
制限されず、公知の有機溶媒より適宜選択することがで
きる。例えばトルエン、キシレン等の石油系溶媒、トリ
クロロエチレン、トリクロロエタン等の/%ロゲン系溶
媒、あるいはフロン系溶媒等である。
制限されず、公知の有機溶媒より適宜選択することがで
きる。例えばトルエン、キシレン等の石油系溶媒、トリ
クロロエチレン、トリクロロエタン等の/%ロゲン系溶
媒、あるいはフロン系溶媒等である。
処理方法としては、めっき品を封孔処理液中に浸漬する
か、封孔処理液をスプレー、あるいは塗布するなど、何
れの方法によることもできる。しかし本発明において、
めっき品の形状が板・条、プレス部品であるを問わず、
めっき直後すなわち連続ラインであれば、そのラインの
中で処理することが、封孔処理の各種機能を高める効果
が高いことを見いだした。
か、封孔処理液をスプレー、あるいは塗布するなど、何
れの方法によることもできる。しかし本発明において、
めっき品の形状が板・条、プレス部品であるを問わず、
めっき直後すなわち連続ラインであれば、そのラインの
中で処理することが、封孔処理の各種機能を高める効果
が高いことを見いだした。
さらに、めっき品をプレス加工後に本発明の封孔処理液
で封孔処理する事も有効である。めっき後封孔処理した
金属材料であっても、その後のプレス加工で付着したプ
レス油を洗浄する工程において、封孔処理の機能の多く
は喪失する、そこで再度の封孔処理が有効となる。
で封孔処理する事も有効である。めっき後封孔処理した
金属材料であっても、その後のプレス加工で付着したプ
レス油を洗浄する工程において、封孔処理の機能の多く
は喪失する、そこで再度の封孔処理が有効となる。
その後のコネクタの加工工程においても、最終の電子機
器の組み立てまで、めっき品の洗浄工程があれば同様に
封孔処理機能は喪失するため、適宜本発明により封孔処
理する事が有効である。さらには電子機器にコネクタと
して組み込まれ実使用に際しても、使用にともない接点
性能が低下するなどの場合は、適宜本封孔処理液により
処理することができる。従って、本発明は本発明封孔処
理液により処理されたコネクタをも包含するものである
。
器の組み立てまで、めっき品の洗浄工程があれば同様に
封孔処理機能は喪失するため、適宜本発明により封孔処
理する事が有効である。さらには電子機器にコネクタと
して組み込まれ実使用に際しても、使用にともない接点
性能が低下するなどの場合は、適宜本封孔処理液により
処理することができる。従って、本発明は本発明封孔処
理液により処理されたコネクタをも包含するものである
。
なお、゛本発明における、めつき母材となる金属材料は
、銅及び、黄銅、りん青銅、チタン銅等の各種銅合金、
鉄、ステンレス鋼、高ニッケル合金等、コネクタの要求
性能に従い適宜選択でき、同等制限されない。中間層と
してのニッケルめっきは、ワット浴、スルファミン酸浴
等からの電気めっき、無電解めっき等の公知のものを適
用でき、めっき方法は制限されない。またニッケルめっ
きは金属母材に直接施すほか、その中間にさらに他の金
属層を有することもできる。金めつきは各種のアルカリ
性浴、酸性浴から純金めっきの他、コバルト等の合金成
分を含有する金合金めっきも包含するものである。
、銅及び、黄銅、りん青銅、チタン銅等の各種銅合金、
鉄、ステンレス鋼、高ニッケル合金等、コネクタの要求
性能に従い適宜選択でき、同等制限されない。中間層と
してのニッケルめっきは、ワット浴、スルファミン酸浴
等からの電気めっき、無電解めっき等の公知のものを適
用でき、めっき方法は制限されない。またニッケルめっ
きは金属母材に直接施すほか、その中間にさらに他の金
属層を有することもできる。金めつきは各種のアルカリ
性浴、酸性浴から純金めっきの他、コバルト等の合金成
分を含有する金合金めっきも包含するものである。
[実施例コ
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
ばね用りん青銅(C5210)の厚み0.2mll1の
冷間圧延材を用い、雄、及び雌の連続端子をそれぞれプ
レス成形した。これらをリール・ツウ・リールの連続電
気めっきラインを通して電気めっきを施した。めっきラ
インにおいては、脱脂、酸洗後ワット浴により 1μ印
のニッケルめっき後、酸性めっき浴により金を0.2
μlの厚みで接点部に部分めっきした。また、連続め
っきラインでは、金めつき後に封孔処理工程を設け、同
工程ではトリクロロエタンを溶媒とした各種封孔処理液
に連続端子を通人することにより封孔処理を施した。
冷間圧延材を用い、雄、及び雌の連続端子をそれぞれプ
レス成形した。これらをリール・ツウ・リールの連続電
気めっきラインを通して電気めっきを施した。めっきラ
インにおいては、脱脂、酸洗後ワット浴により 1μ印
のニッケルめっき後、酸性めっき浴により金を0.2
μlの厚みで接点部に部分めっきした。また、連続め
っきラインでは、金めつき後に封孔処理工程を設け、同
工程ではトリクロロエタンを溶媒とした各種封孔処理液
に連続端子を通人することにより封孔処理を施した。
こうして表面処理した雄と雌の端子をキャリア一部から
切断しリード線を圧着した後、それぞれを嵌合し評価試
験に供した。
切断しリード線を圧着した後、それぞれを嵌合し評価試
験に供した。
接触抵抗は直流1010ll1 、開放電圧50■Vて
測定した。腐食試験は次の条件で行った。
測定した。腐食試験は次の条件で行った。
ガス組成:H2S 3±tpp匝
SO210±3ppm
温度 、40± 2℃ 。
湿度 ニア5± 5%RH
時間 二96時間
加熱試験は125℃大気中で1000時間保持した。
結果を第1表に示す。
第1表
A−1イソステアリン酸
−2酸化ワックス
−3酸化ペトロラタム
−4ジノニルナフタレンスルフォン酸ノ(リウム塩−5
ジノニルナフタレンスルフォン酸カルンウム塩A−6ジ
ノニルナフタレンスルフオン酸亜鉛塩−7ジノニルナツ
タレノスルフォン酸/くリウム塩基性塩−8ンノニルナ
フタレンスルフオン酸エチレンノアミン塩−9ジノニル
ナツタレノスルフォン酸ナトリウム塩−10ツノニルナ
フタレンスルフォノ酸リチウム塩−11オクタデシルア
ミン −12ドデシルアミン −13デ/ルアミン −14オクチルアミン −15ンクロヘキンルアミン −16酸化ペトロラタムCa塩 −17酸化ワックスCa塩 =18 ステアリン酸Ca塩 −19ラウリン酸A1塩 −20リンルン酸AI塩 −21ミリスチン酸Ca塩 −22オレイン酸Ba塩 −23ナフテン酸Ba塩 −24ラノリン酸AI塩 −25フタル酸ジメチル −26フタル酸ジエチル −277タル酸ノブチル −28フタル酸ジヘブチル =29 フタル酸ノーn−オクチル −30フタル酸ノー2−エチルヘキンル−31フタル酸
ノイソノニル −32フタル酸オクチルデシル −337タル酸ノイソデンル −34Hフェニルホスファイト −35トリクレノルホスフアイト A−36ジフェニルノニルフェニルホスファイト−37
トリラウリルホスフアイト ー38 ノラウリルハイドロゼンホスファイト=39
グリセリンモノオレイン酸エステル−40ソルビタ
ンモノ・ラウレート −41ソルビタンモノ・ステアレート −42ソルビタンモノφパルミテート −43ソルビタンモノ・オレエート −44ソルビタンセスキ−オレエート =45 ソルビタントリ俳オレエートB−1ベンゾト
リアゾール −2インダゾール −3ベンズイミダゾール −4インドール −51−メチルベンゾトリアゾール −6トリルトリアゾール −7ソジウムトリルトリアゾール −8メラミン c−i p、p’−ジオクチルジフェニルアミン−2
4,4’−テトラメチルジアミノジフェニルメタン−3
4,4°−メチレン−ビス−(2,6−ジーt−ブチル
フェノール)−42,2°−メチレン−ビス−(4−メ
チル−e−t−ブチルフェノール) −52,2“−メチレン−ビス−(4−エチル−a−t
−ブチルフェノール) −62,6−+;−t−ブチルーp−クレゾール−7ブ
チル化ヒドロキンアニソール −82,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノール注
2) 試験の判定基準は次の通りである。
ジノニルナフタレンスルフォン酸カルンウム塩A−6ジ
ノニルナフタレンスルフオン酸亜鉛塩−7ジノニルナツ
タレノスルフォン酸/くリウム塩基性塩−8ンノニルナ
フタレンスルフオン酸エチレンノアミン塩−9ジノニル
ナツタレノスルフォン酸ナトリウム塩−10ツノニルナ
フタレンスルフォノ酸リチウム塩−11オクタデシルア
ミン −12ドデシルアミン −13デ/ルアミン −14オクチルアミン −15ンクロヘキンルアミン −16酸化ペトロラタムCa塩 −17酸化ワックスCa塩 =18 ステアリン酸Ca塩 −19ラウリン酸A1塩 −20リンルン酸AI塩 −21ミリスチン酸Ca塩 −22オレイン酸Ba塩 −23ナフテン酸Ba塩 −24ラノリン酸AI塩 −25フタル酸ジメチル −26フタル酸ジエチル −277タル酸ノブチル −28フタル酸ジヘブチル =29 フタル酸ノーn−オクチル −30フタル酸ノー2−エチルヘキンル−31フタル酸
ノイソノニル −32フタル酸オクチルデシル −337タル酸ノイソデンル −34Hフェニルホスファイト −35トリクレノルホスフアイト A−36ジフェニルノニルフェニルホスファイト−37
トリラウリルホスフアイト ー38 ノラウリルハイドロゼンホスファイト=39
グリセリンモノオレイン酸エステル−40ソルビタ
ンモノ・ラウレート −41ソルビタンモノ・ステアレート −42ソルビタンモノφパルミテート −43ソルビタンモノ・オレエート −44ソルビタンセスキ−オレエート =45 ソルビタントリ俳オレエートB−1ベンゾト
リアゾール −2インダゾール −3ベンズイミダゾール −4インドール −51−メチルベンゾトリアゾール −6トリルトリアゾール −7ソジウムトリルトリアゾール −8メラミン c−i p、p’−ジオクチルジフェニルアミン−2
4,4’−テトラメチルジアミノジフェニルメタン−3
4,4°−メチレン−ビス−(2,6−ジーt−ブチル
フェノール)−42,2°−メチレン−ビス−(4−メ
チル−e−t−ブチルフェノール) −52,2“−メチレン−ビス−(4−エチル−a−t
−ブチルフェノール) −62,6−+;−t−ブチルーp−クレゾール−7ブ
チル化ヒドロキンアニソール −82,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノール注
2) 試験の判定基準は次の通りである。
■初期接触抵抗、加IILlat験後接触抵抗(n−5
の平均値)0・25■−Ω以下 △ 25〜50m5Ω X・50膳−Ω以上 ■腐食試験後外観 ○、腐食生成物はとんどなし △ 腐食生成物点在 ×、腐食点が全面に認められる [発明の効果] 以上述べたように、本発明により封孔処理されたニッケ
ル下地、金めつきの接点は、処理直後の接触抵抗が低く
、過酷な腐食環境においても優れた耐食性を示し、また
熱履歴によっても接触抵抗が上昇せず、接触性能が安定
しているという利点を有する。
の平均値)0・25■−Ω以下 △ 25〜50m5Ω X・50膳−Ω以上 ■腐食試験後外観 ○、腐食生成物はとんどなし △ 腐食生成物点在 ×、腐食点が全面に認められる [発明の効果] 以上述べたように、本発明により封孔処理されたニッケ
ル下地、金めつきの接点は、処理直後の接触抵抗が低く
、過酷な腐食環境においても優れた耐食性を示し、また
熱履歴によっても接触抵抗が上昇せず、接触性能が安定
しているという利点を有する。
特許出願人 日 本 鉱 業 株 式 会 社特許出願
人 株式会社 共石製品技術研究所代理人 弁理士 小
松 秀 岳
人 株式会社 共石製品技術研究所代理人 弁理士 小
松 秀 岳
Claims (7)
- (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、以下の(A)〜(E)の各群の
うちの2つ以上の群からそれぞれ1種または2種以上選
択された化合物を含む有機溶剤溶液よりなることを特徴
とする封孔処理液。 (A)イソステアリン酸、酸化ワックス、及び酸化ペト
ロラタム0.05〜3wt%、 (B)アルキル置換ナフタレンスルフォン酸塩0.05
〜3wt%、 (C)アミン0.05〜3wt%、 (D)金属石けん0.05〜3wt%、 (E)フタル酸エステル、亜りん酸エステル、グリセリ
ンモノエステル、及びソルビタンエステルテル0.01
〜3wt%。 - (2)キレート形成性環状窒素化合物の1種もしくは2
種以上0.05〜1wt%をさらに含有することを特徴
とする請求項(1)記載の封孔処理液。 - (3)請求項(1)記載の(A)〜(E)から選択され
たいずれか1種の化合物0.01〜3wt%と、キレー
ト形成性環状窒素化合物の1種又は2種以上0.05〜
3wt%を含有する封孔処理液。 - (4)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上0.001〜1wt%を、さらに含有する
ことを特徴とする請求項(1)、(2)又は(3)記載
の封孔処理液。 - (5)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてニッケルを
めっきし、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、請求項(1)、(2)、(3)又は(4)記載の封
孔処理液で処理することを特徴とする封孔処理方法。 - (6)ニッケル及び金または金合金めっきされた銅系ま
たは鉄系金属材料をプレス加工後、請求項(1)、(2
)、(3)又は(4)に記載の封孔処理液で処理するこ
とを特徴とする封孔処理方法。 - (7)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、請求項(1)、(2)、(3)又は(4)記載の封
孔処理液で封孔処理したことを特徴とするコネクタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28415790A JPH04160188A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 封孔処理液及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28415790A JPH04160188A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 封孔処理液及び方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04160188A true JPH04160188A (ja) | 1992-06-03 |
Family
ID=17674919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28415790A Pending JPH04160188A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 封孔処理液及び方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04160188A (ja) |
-
1990
- 1990-10-24 JP JP28415790A patent/JPH04160188A/ja active Pending
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