JPH04160036A - 溶着用ガラス - Google Patents
溶着用ガラスInfo
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 45
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
- C03C8/245—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders containing more than 50% lead oxide, by weight
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば磁気ヘッドの空隙部の溶着に使用され
る溶着用ガラスに関するものである。
る溶着用ガラスに関するものである。
近年、ビデオテープレコーダー等の磁気記録再生装置に
は高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、空隙
長及びトラック幅を狭くした磁気ヘッドが求められてい
る。
は高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、空隙
長及びトラック幅を狭くした磁気ヘッドが求められてい
る。
そこで、このような磁気ヘッドでは、結晶化ガラス等の
非磁性材料からなる基板の空隙対向面に、高透磁率・高
飽和磁束密度を有する合金磁性材料、例えばセンダスト
合金やアモルファス合金、からなる薄膜を形成したブロ
ックを一対、溶着用ガラスにより相互に溶着させて一体
化すると共に、空隙部に前記溶着用ガラスを充填して空
隙部の補強を行ったヘッドコアが用いられるようになっ
て来ている。
非磁性材料からなる基板の空隙対向面に、高透磁率・高
飽和磁束密度を有する合金磁性材料、例えばセンダスト
合金やアモルファス合金、からなる薄膜を形成したブロ
ックを一対、溶着用ガラスにより相互に溶着させて一体
化すると共に、空隙部に前記溶着用ガラスを充填して空
隙部の補強を行ったヘッドコアが用いられるようになっ
て来ている。
そして、上記ブロックを溶着する際、上記基板の熱変形
及び上記薄膜の熱応力による剥離等を防止するために５
００℃以下の溶着作業温度で溶着を行えると共に、空隙
部の偏摩耗等を防止するためにビッカース硬度Ｈｖで４
００以上を確保できる溶着用ガラスが要求されており、
最も一般的には、鉛を主成分とした低融点ガラスが使用
されている。
及び上記薄膜の熱応力による剥離等を防止するために５
００℃以下の溶着作業温度で溶着を行えると共に、空隙
部の偏摩耗等を防止するためにビッカース硬度Ｈｖで４
００以上を確保できる溶着用ガラスが要求されており、
最も一般的には、鉛を主成分とした低融点ガラスが使用
されている。
ところが、上記従来の低融点ガラス等の溶着用ガラスで
は、ビッカース硬度Ｈｖで４００以上にしようとすると
、５００“Ｃ以下の温度では粘性が高くなってしまい、
濡れ性が悪くなって充分な溶着性が得られないという問
題点を有している。
は、ビッカース硬度Ｈｖで４００以上にしようとすると
、５００“Ｃ以下の温度では粘性が高くなってしまい、
濡れ性が悪くなって充分な溶着性が得られないという問
題点を有している。
本発明の溶着用ガラスは、上記の課題を解決するために
、ＳｉＯ□６．１〜７．２重量％、ＰｂＯ５９．３〜６
２．０重量％、ＺｒＯ２２，５〜３．６重量％、ＢＺ
０３６．５〜８．１重量％、ＺｎＯ２，５〜５．３重量
％、’ｒｚ２ｏ１５．９〜１７．７重量％、ＳｒＯ２．
６〜３．０重量％からなることを特徴としている。
、ＳｉＯ□６．１〜７．２重量％、ＰｂＯ５９．３〜６
２．０重量％、ＺｒＯ２２，５〜３．６重量％、ＢＺ
０３６．５〜８．１重量％、ＺｎＯ２，５〜５．３重量
％、’ｒｚ２ｏ１５．９〜１７．７重量％、ＳｒＯ２．
６〜３．０重量％からなることを特徴としている。
上記の構成によれば、ビッカース硬度Ｈｖが４００以上
であり、しかも５００°Ｃ以下の溶着作業温度でも低粘
度で濡れ性に富み、溶着性に優れた溶着用ガラスが得ら
れる。
であり、しかも５００°Ｃ以下の溶着作業温度でも低粘
度で濡れ性に富み、溶着性に優れた溶着用ガラスが得ら
れる。
本発明の一実施例を以下に説明する。
ＳｉＯ，、ＰｂＯ１ＺｒＯｚ 、Ｂｚ ０３ 、ＺｎＯ
１７１，０及びＳｒＯを第１表の組成比にしたがってそ
れぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中で１２００°Ｃ
の温度にて約１時間溶融及び混合することにより、試料
１を作製した。
１７１，０及びＳｒＯを第１表の組成比にしたがってそ
れぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中で１２００°Ｃ
の温度にて約１時間溶融及び混合することにより、試料
１を作製した。
得られた試料ｌの溶着用ガラスに対し、その物性を測定
し、その結果を第１表に併せて示した。
し、その結果を第１表に併せて示した。
また、この溶着用ガラスの溶着性能を確認するため、以
下に説明するように、−例として高密度の記録再生用磁
気ヘッドのへラドコアの溶着作業を実施した。
下に説明するように、−例として高密度の記録再生用磁
気ヘッドのへラドコアの溶着作業を実施した。
すなわち、非磁性の結晶化ガラス製の基板の空隙対向面
に、高透磁率・高飽和磁束密度を有する合金磁性材料、
例えばセンダスト合金又はアモル一対用意し、上記溶着
用ガラスにより相互に溶着させて一体化し、空隙部に前
記溶着用ガラスを充填して空隙部の補強を行うｉうにし
たへ・・ドコアを試作した。なお、このときの溶着作業
温度は４４０℃に設定された。
に、高透磁率・高飽和磁束密度を有する合金磁性材料、
例えばセンダスト合金又はアモル一対用意し、上記溶着
用ガラスにより相互に溶着させて一体化し、空隙部に前
記溶着用ガラスを充填して空隙部の補強を行うｉうにし
たへ・・ドコアを試作した。なお、このときの溶着作業
温度は４４０℃に設定された。
その結果、この溶着作業温度においても、本実施例の溶
着用ガラスは充分高い流動性を示すことが観察された。
着用ガラスは充分高い流動性を示すことが観察された。
すなわち、４４０℃というかなり低い溶着作業温度であ
るにもかかわらず、本実施例の溶着用ガラスは低粘度で
あり、濡れ性も優れていることが分かった。このように
優れた濡れ性を示す理由として、第１表から明らかなよ
うに、屈伏点が溶着作業温度４４０°Ｃよりも約１００
°Ｃも低い３５０°Ｃ以下であることが挙げられる。す
なわち、主に、Ｔｆｆｉ、 Ｏを１７．１重量％添加し
たことにより、低い屈伏点が実現され、これにより上述
の優れた濡れ性が得られる。ここで、屈伏点とは、上記
溶着用ガラスからなる棒状のテスト片を斜めに保持して
、その先端付近に垂直下方に所定荷重を加えた状態で、
徐々に加熱昇温したとき、テスト片が折れ曲がり始める
温度であると定義されている。
るにもかかわらず、本実施例の溶着用ガラスは低粘度で
あり、濡れ性も優れていることが分かった。このように
優れた濡れ性を示す理由として、第１表から明らかなよ
うに、屈伏点が溶着作業温度４４０°Ｃよりも約１００
°Ｃも低い３５０°Ｃ以下であることが挙げられる。す
なわち、主に、Ｔｆｆｉ、 Ｏを１７．１重量％添加し
たことにより、低い屈伏点が実現され、これにより上述
の優れた濡れ性が得られる。ここで、屈伏点とは、上記
溶着用ガラスからなる棒状のテスト片を斜めに保持して
、その先端付近に垂直下方に所定荷重を加えた状態で、
徐々に加熱昇温したとき、テスト片が折れ曲がり始める
温度であると定義されている。
なお、Ｔｌ１ｔＯの添加量としては、１６．９〜１７．
７重量％であることが好ましく、これ以上添加すると、
溶着用ガラスの耐湿性が劣化することになる。Ｂ＊Ｏｓ
の添加量としては、６．５〜８．１重量％であることが
好ましく、これ以上添加すると、Ｔｌ２Ｏと同様に溶着
用ガラスの耐湿性が劣化することになる。また、ＳｉＯ
□の添加量としては、６．１〜７．２重量％であること
が好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガラスの濡れ
性に低下させることになる。また、ＺｎＯの添加量とし
ては、２．５〜５．３重量％であることが好ましい。
７重量％であることが好ましく、これ以上添加すると、
溶着用ガラスの耐湿性が劣化することになる。Ｂ＊Ｏｓ
の添加量としては、６．５〜８．１重量％であることが
好ましく、これ以上添加すると、Ｔｌ２Ｏと同様に溶着
用ガラスの耐湿性が劣化することになる。また、ＳｉＯ
□の添加量としては、６．１〜７．２重量％であること
が好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガラスの濡れ
性に低下させることになる。また、ＺｎＯの添加量とし
ては、２．５〜５．３重量％であることが好ましい。
また、試作されたヘッドコアにおいて、前記基板の変形
や前記合金磁性材料からなる薄膜の剥離等はほとんど観
察されなかった。これは、上記のように溶着作業温度を
５００°Ｃ以下に設定したため、熱による内部応力を抑
制できるためと考えられる。
や前記合金磁性材料からなる薄膜の剥離等はほとんど観
察されなかった。これは、上記のように溶着作業温度を
５００°Ｃ以下に設定したため、熱による内部応力を抑
制できるためと考えられる。
さらに、溶着用ガラスとして従来の鉛を主成分とした低
融点ガラスを使用した場合、溶着時に合金磁性材料から
なる薄膜との間で反応が起こるため、反応部分の薄膜の
磁性が失われるだけでなく、低融点ガラス部分は脆くな
るために割れ欠けを生じ易くなっていたが、本実施例の
溶着用ガラスを使用した場合、この溶着用ガラスと合金
磁性材料からなる薄膜との界面での反応が抑制されてお
り、これにより、薄膜の磁性が失われにくくなると共に
、溶着用ガラスの脆性が小さくなるので、空隙部の磁気
特性の低下が少なくなり、しかも、空隙部に充填された
溶着用ガラスの割れ欠けが少なくなることが分かった。
融点ガラスを使用した場合、溶着時に合金磁性材料から
なる薄膜との間で反応が起こるため、反応部分の薄膜の
磁性が失われるだけでなく、低融点ガラス部分は脆くな
るために割れ欠けを生じ易くなっていたが、本実施例の
溶着用ガラスを使用した場合、この溶着用ガラスと合金
磁性材料からなる薄膜との界面での反応が抑制されてお
り、これにより、薄膜の磁性が失われにくくなると共に
、溶着用ガラスの脆性が小さくなるので、空隙部の磁気
特性の低下が少なくなり、しかも、空隙部に充填された
溶着用ガラスの割れ欠けが少なくなることが分かった。
上記反応が抑制された理由として、第１表に示されてい
るように、ＳｒＯを２．７重量％添加したことが挙げら
れる。すなわち、このＳｒＯの働きにより、溶着時、溶
着用ガラスと上記薄膜との界面での反応が抑制される。
るように、ＳｒＯを２．７重量％添加したことが挙げら
れる。すなわち、このＳｒＯの働きにより、溶着時、溶
着用ガラスと上記薄膜との界面での反応が抑制される。
なお、ＳｒＯの添加量としては、２．６〜３．０重量％
であることが好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガ
ラスが失透（結晶化）して溶着性が劣化することになる
。また、Ｚｒ０ｇの添加量としては、２．５〜３．６重
量％であることが好ましく、これ以上添加すると、Ｓｒ
Ｏと同様に溶着用ガラスが失透（結晶化）して溶着性が
劣化することになる。
であることが好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガ
ラスが失透（結晶化）して溶着性が劣化することになる
。また、Ｚｒ０ｇの添加量としては、２．５〜３．６重
量％であることが好ましく、これ以上添加すると、Ｓｒ
Ｏと同様に溶着用ガラスが失透（結晶化）して溶着性が
劣化することになる。
また、試作されたヘッドコアを用いて摩耗試験を行った
ところ、空隙部に充填された溶着用ガラスの偏摩耗性は
わずかであった。この理由は、第１表から明らかなよう
に、本実施例の溶着用ガラスでは、ビッカース硬度Ｈｖ
が４００以上であり、耐摩耗性が優れていることによる
。なお、ＰｂＯの添加量としては、５９．３〜６２．０
重量％であることが好ましく、これ以上添加すると、溶
着用ガラスの硬度及び安定性が劣化することになる。
ところ、空隙部に充填された溶着用ガラスの偏摩耗性は
わずかであった。この理由は、第１表から明らかなよう
に、本実施例の溶着用ガラスでは、ビッカース硬度Ｈｖ
が４００以上であり、耐摩耗性が優れていることによる
。なお、ＰｂＯの添加量としては、５９．３〜６２．０
重量％であることが好ましく、これ以上添加すると、溶
着用ガラスの硬度及び安定性が劣化することになる。
以上のように、本実施例の溶着用ガラスはビッカース硬
度Ｈｖが４００以上であり、しかも溶着作業温度を５０
０°Ｃ以下に設定しても、優れた溶着性を示すことが分
かった。これにより、磁気ヘラＰ製造工程において、ヘ
ッドコアの製造歩留りを向上させることができると共に
、磁気ヘッド製造工程を効率化できる。特に、合金磁性
材料としてアモルファス合金を使用している場合、溶着
作業時の温度による磁気特性の劣化を大幅に抑制できる
。また、上記溶着用ガラスの組成範囲であれば、溶着用
ガラスの熱膨張係数とセンダスト合金又はアモルファス
合金等の合金磁性材料の熱膨張係数とを合わせることが
できるので、これらを強固に溶着できる。
度Ｈｖが４００以上であり、しかも溶着作業温度を５０
０°Ｃ以下に設定しても、優れた溶着性を示すことが分
かった。これにより、磁気ヘラＰ製造工程において、ヘ
ッドコアの製造歩留りを向上させることができると共に
、磁気ヘッド製造工程を効率化できる。特に、合金磁性
材料としてアモルファス合金を使用している場合、溶着
作業時の温度による磁気特性の劣化を大幅に抑制できる
。また、上記溶着用ガラスの組成範囲であれば、溶着用
ガラスの熱膨張係数とセンダスト合金又はアモルファス
合金等の合金磁性材料の熱膨張係数とを合わせることが
できるので、これらを強固に溶着できる。
以上の実施例では、磁気ヘッド用のへラドコアの溶着に
ついて説明したが、本発明の溶着用ガラスはこれに限ら
ず、金属・セラミックス・ガラス相互間の溶着に適して
おり、例えば、ネオン管や電子管等の電極支持やシール
、集積回路の電極部やパッケージ等にももちろん応用で
きる。
ついて説明したが、本発明の溶着用ガラスはこれに限ら
ず、金属・セラミックス・ガラス相互間の溶着に適して
おり、例えば、ネオン管や電子管等の電極支持やシール
、集積回路の電極部やパッケージ等にももちろん応用で
きる。
〔発明の効果］
本発明の溶着用ガラスは、以上のように、ＳｉＯ□６．
１〜７．２重量％、ＰｂＯ５９，３〜６２゜０重量％、
Ｚｒ０ｚ ２．５〜３．６重量％、Ｂｔ Ｏｓ ６．５
〜８．１重量％、ＺｎＯ２，５〜５．３重量％、Ｔｌ２
Ｏ１６．９〜１７，７重量％、ＳｒＯ２．６〜３．０重
量％からなるので、ビッカース硬度Ｈｖが４００以上で
あり、しかも５００℃以下の溶着作業温度でも低粘度で
濡れ性に冨み、溶着性にも優れている。これにより、耐
摩耗性に優れ、熱変形も少ない溶着が行なえるという効
果を奏する。
１〜７．２重量％、ＰｂＯ５９，３〜６２゜０重量％、
Ｚｒ０ｚ ２．５〜３．６重量％、Ｂｔ Ｏｓ ６．５
〜８．１重量％、ＺｎＯ２，５〜５．３重量％、Ｔｌ２
Ｏ１６．９〜１７，７重量％、ＳｒＯ２．６〜３．０重
量％からなるので、ビッカース硬度Ｈｖが４００以上で
あり、しかも５００℃以下の溶着作業温度でも低粘度で
濡れ性に冨み、溶着性にも優れている。これにより、耐
摩耗性に優れ、熱変形も少ない溶着が行なえるという効
果を奏する。
Claims (1)
- １、ＳｉＯ＿２６．１〜７．２重量％、ＰｂＯ＿５９．
３〜６２．０重量％、ＺｒＯ＿２２．５〜３．６重量％
、Ｂ＿２Ｏ＿３６．５〜８．１重量％、ＺｎＯ２．５〜
５．３重量％、Ｔｌ＿２Ｏ１６．９〜１７．７重量％、
ＳｒＯ２．６〜３．０重量％からなる溶着用ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2287539A JP2554198B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 溶着用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2287539A JP2554198B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 溶着用ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04160036A true JPH04160036A (ja) | 1992-06-03 |
| JP2554198B2 JP2554198B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=17718650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2287539A Expired - Fee Related JP2554198B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 溶着用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2554198B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114380507A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-22 | 广东南海启明光大科技有限公司 | 一种适应晶硅p+层接触的厚膜银浆用玻璃粉及其制备方法 |
-
1990
- 1990-10-24 JP JP2287539A patent/JP2554198B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114380507A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-22 | 广东南海启明光大科技有限公司 | 一种适应晶硅p+层接触的厚膜银浆用玻璃粉及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2554198B2 (ja) | 1996-11-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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