JP2554198B2 - 溶着用ガラス - Google Patents

溶着用ガラス

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
    • C03C8/245Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders containing more than 50% lead oxide, by weight

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば磁気ヘッドの空隙部の溶着に使用さ
れる溶着用ガラスに関するものである。
〔従来の技術〕
近年、ビデオテープレコーダー等の磁気記録再生装置
には高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、空
隙長及びトラック幅を狭くした磁気ヘッドが求められて
いる。
そこで、このような磁気ヘッドでは、結晶化ガラス等
の非磁性材料からなる基板の空隙対向面に、高透磁率・
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料、例えばセンダス
に合金やアモルファス合金、からなる薄膜を形成したブ
ロックを一対、溶着用ガラスにより相互に溶着させて一
体化すると共に、空隙部に前記溶着用ガラスを充填して
空隙部の補強を行ったヘッドコアが用いられるようにな
って来ている。
そして、上記ブロックを溶着する際、上記基板の熱変
形及び上記薄膜の熱応力による剥離等を防止するために
500℃以下の溶着作業温度で溶着を行えると共に、空隙
部の偏摩耗等を防止するためにビッカース硬度HVで400
以上を確保できる溶着用ガラスが要求されており、最も
一般的には、鉛を主成分とした低融点ガラスが使用され
ている。
〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、上記従来の低融点ガラス等の溶着用ガラス
では、ビッカース硬度HVで400以上にしようとすると、5
00℃以下の温度では粘性が高くなってしまい、濡れ性が
悪くなって充分な溶着性が得られないという問題点を有
している。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の溶着用ガラスは、上記の課題を解決するため
に、SiO26.1〜7.2重量%、PbO59.3〜62.0重量%、ZrO
22.5〜3.6重量%、B2O36.5〜8.1重量%、ZnO2.5〜5.3重
量%、Tl2O16.9〜17.7重量%、SrO2.6〜3.0重量%から
なることを特徴としている。
〔作 用〕
上記の構成によれば、ビッカース硬度HVが400以上で
あり、しかも500℃以下の溶着作業温度でも低粘度で濡
れ性に富み、溶着性に優れた溶着用ガラスが得られる。
〔実施例〕
本発明の一実施例を以下に説明する。
SiO2、PbO、ZrO2、B2O3、ZnO、Tl2O及びSrOを第1表
の組成比にしたがってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金
るつぼ中で1200℃の温度にて約1時間溶融及び混合する 得られた試料1の溶着用ガラスに対し、その物性を測
定し、その結果を第1表に併せて示した。
また、この溶着用ガラスの溶着性能を確認するため、
以下に説明するように、一例として高密度の記録再生用
磁気ヘッドのヘッドコアの溶着作業を実施した。
すなわち、非磁性の結晶化ガラス製の基板の空隙対向
面に、高透磁率・高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料、例えばセンダスト合金又はアモルファス合金、から
なる薄膜を形成したブロックを一対用意し、上記溶着用
ガラスにより相互に溶着させて一体化し、空隙部に前記
溶着用ガラスを充填して空隙部の補強を行うようにした
ヘッドコアを試作した。なお、このときの溶着作業温度
は440℃に設定された。
その結果、この溶着作業温度においても、本実施例の
溶着用ガラスは充分高い流動性を示すことが観察され
た。すなわち、440℃というかなり低い溶着作業温度で
あるにもかかわらず、本実施例の溶着用ガラスは低粘度
であり、濡れ性も優れていることが分かった。このよう
に優れた濡れ性を示す理由として、第1表から明らかな
ように、屈伏点が溶着作業温度440℃よりも約100℃も低
い350℃以下であることが挙げられる。すなわち、主
に、Tl2Oを17.1重量%添加したことにより、低い屈伏点
が実現され、これにより上述の優れた濡れ性が得られ
る。ここで、屈伏点とは、上記溶着用ガラスからなる棒
状のテスト片を斜めに保持して、その先端付近に垂直下
方に所定荷重を加えた状態で、徐々に加熱昇温したと
き、テスト片が折れ曲がり始める温度であると定義され
ている。
なお、Tl2Oの添加量としては、16.9〜17.7重量%であ
ることが好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガラス
の耐湿性が劣化することになる。B2O3の添加量として
は、6.5〜8.1重量%であることが好ましく、これ以上添
加すると、Tl2Oと同様に溶着用ガラスの耐湿性が劣化す
ることになる。また、SiO2の添加量としては、6.1〜7.2
重量%であることが好ましく、これ以上添加すると、溶
着用ガラスの濡れ性に低下させることになる。また、Zn
Oの添加量としては、2.5〜5.3重量%であることが好ま
しい。
また、試作されたヘッドコアにおいて、前記基板の変
形や前記合金磁性材料からなる薄膜の剥離等はほとんど
観察されなかった。これは、上記のように溶着作業温度
を500℃以下に設定したため、熱による内部応力を抑制
できるためと考えられる。
さらに、溶着用ガラスとして従来の鉛を主成分とした
低融点ガラスを使用した場合、溶着時に合金磁性材料か
らなる薄膜との間で反応が起こるため、反応部分の薄膜
の磁性が失われるだけでなく、低融点ガラス部分は脆く
なるために割れ欠けを生じ易くなっていたが、本実施例
の溶着用ガラスを使用した場合、この溶着用ガラスと合
金磁性材料からなる薄膜との界面での反応が抑制されて
おり、これにより、薄膜の磁性が失われにくくなると共
に、溶着用ガラスの脆性が小さくなるので、空隙部の磁
気特性の低下が少なくなり、しかも、空隙部に充填され
た溶着用ガラスの割れ欠けが少なくなることが分かっ
た。上記反応が抑制された理由として、第1表に示され
ているように、SrOを2.7重量%添加したことが挙げられ
る。すなわち、このSrOの働きにより、溶着時、溶着用
ガラスと上記薄膜との界面での反応が抑制される。な
お、SrOの添加量としては、2.6〜3.0重量%であること
が好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガラスが失透
(結晶化)して溶着性が劣化することになる。また、Zr
O2の添加量としては、2.5〜3.6重量%であることが好ま
しく、これ以上添加すると、SrOと同様に溶着用ガラス
が失透(結晶化)して溶着性が劣化することになる。
また、試作されたヘッドコアを用いて摩耗試験を行っ
たところ、空隙部に充填された溶着用ガラスの偏摩耗性
はわずかであった。この理由は、第1表から明らかなよ
うに、本実施例の溶着用ガラスでは、ビッカース硬度HV
が400以上であり、耐摩耗性が優れていることによる。
なお、PbOの添加量としては、59.3〜62.0重量%である
ことが好ましく、これ以上添加すると、溶着用ガラスの
硬度及び安定性が劣化することになる。
以上のように、本実施例の溶着用ガラスはビッカース
硬度HVが400以上であり、しかも溶着作業温度を500℃以
下に設定しても、優れた溶着性を示すことが分かった。
これにより、磁気ヘッド製造工程において、ヘッドコア
の製造歩留りを向上させることができると共に、磁気ヘ
ッド製造工程を効率化できる。特に、合金磁性材料とし
てアモルファス合金を使用している場合、溶着作業時の
温度による磁気特性の劣化を大幅に抑制できる。また、
上記溶着用ガラスの組成範囲であれば、溶着用ガラスの
熱膨張係数とセンダスト合金又はアモルファス合金等の
合金磁性材料の熱膨張係数とを合わせることができるの
で、これらを強固に溶着できる。
以上の実施例では、磁気ヘッド用のヘッドコアの溶着
について説明したが、本発明の溶着用ガラスはこれに限
らず、金属・セラミックス・ガラス相互間の溶着に適し
ており、例えば、ネオン管や電子管等の電極支持やシー
ル、集積回路の電極部やパッケージ等にももちろん応用
できる。
〔発明の効果〕
本発明の溶着用ガラスは、以上のように、SiO26.1〜
7.2重量%、PbO59.3〜62.0重量%、ZrO22.5〜3.6重量
%、B2O36.5〜8.1重量%、ZnO2.5〜5.3重量%、Tl2O16.
9〜17.7重量%、SrO2.6〜3.0重量%からなるので、ビッ
カース硬度HVが400以上であり、しかも500℃以下の溶着
作業温度でも低粘度で濡れ性に富み、溶着性にも優れて
いる。これにより、耐摩耗性に優れ、熱変形も少ない溶
着が行なえるという効果を奏する。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】SiO26.1〜7.2重量%、PbO59.3〜62.0重量
    %、ZrO22.5〜3.6重量%、B2O36.5〜8.1重量%、ZnO2.5
    〜5.3重量%、Tl2O16.9〜17.7重量%、SrO2.6〜3.0重量
    %からなる溶着用ガラス。
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