JP2577128B2 - 溶着用ガラス組成物 - Google Patents
溶着用ガラス組成物Info
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- JP2577128B2 JP2577128B2 JP2231562A JP23156290A JP2577128B2 JP 2577128 B2 JP2577128 B2 JP 2577128B2 JP 2231562 A JP2231562 A JP 2231562A JP 23156290 A JP23156290 A JP 23156290A JP 2577128 B2 JP2577128 B2 JP 2577128B2
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- JP
- Japan
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- welding
- glass
- glass composition
- composition
- thin film
- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ヘッド等の空隙部に充填され比較的低
温にて溶着処理が可能な溶着用ガラス組成物に関するも
のである。
温にて溶着処理が可能な溶着用ガラス組成物に関するも
のである。
近年、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置に
は高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、磁気
ヘッドも、高密度記録再生を行い得るものが求められて
いる。
は高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、磁気
ヘッドも、高密度記録再生を行い得るものが求められて
いる。
そこで、結晶化ガラス等の非磁性材料から成る基板の
ギャップ対向面に、高透磁率及び高飽和磁束密度を有す
る合金磁性材料、例えばセンダスト合金等から成る薄膜
を形成した基板ブロックを作製し、一対の上記各基板ブ
ロックを溶着用ガラスで相互に溶着させて成るコアを使
用した磁気ヘッドが用いられるようになってきている。
ギャップ対向面に、高透磁率及び高飽和磁束密度を有す
る合金磁性材料、例えばセンダスト合金等から成る薄膜
を形成した基板ブロックを作製し、一対の上記各基板ブ
ロックを溶着用ガラスで相互に溶着させて成るコアを使
用した磁気ヘッドが用いられるようになってきている。
上記コアに形成されるギャップには、溶着に使用され
た上記ガラスも充填されており、この溶着用ガラスとし
ては、鉛を主成分とした低融点ガラス等が使用されてい
る。
た上記ガラスも充填されており、この溶着用ガラスとし
ては、鉛を主成分とした低融点ガラス等が使用されてい
る。
通常、蒸着等により合金薄膜の形成された前記各基板
ブロックをガラスを用いて溶着する場合、上記基板の熱
変形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止するため、
なるべく低い温度（500℃以下）で溶着を行うことが望
ましい。また、ギャップに充填されているガラスの偏摩
耗等を防ぐために、そのビッカース硬度は350以上を確
保する必要がある。ところが、このような硬度を備えた
ガラスは、500℃以下という温度では、低粘度で優れた
濡れ性を有する物が少ないため、溶着性に劣るものが多
い。一方、500℃以下で溶着可能なガラスには、上記の
ような硬度を備えるものは少ない。
ブロックをガラスを用いて溶着する場合、上記基板の熱
変形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止するため、
なるべく低い温度（500℃以下）で溶着を行うことが望
ましい。また、ギャップに充填されているガラスの偏摩
耗等を防ぐために、そのビッカース硬度は350以上を確
保する必要がある。ところが、このような硬度を備えた
ガラスは、500℃以下という温度では、低粘度で優れた
濡れ性を有する物が少ないため、溶着性に劣るものが多
い。一方、500℃以下で溶着可能なガラスには、上記の
ような硬度を備えるものは少ない。
さらに、500℃以下という温度で溶融する低融点ガラ
スでは、その融点が低いほど高膨張率を有する傾向にあ
り、前記のように低膨張率の結晶化ガラス等から成る一
対の基板を相互に溶着するには、膨張率の差により高膨
張率の低融点ガラスは適していない。
スでは、その融点が低いほど高膨張率を有する傾向にあ
り、前記のように低膨張率の結晶化ガラス等から成る一
対の基板を相互に溶着するには、膨張率の差により高膨
張率の低融点ガラスは適していない。
また、最も一般的に溶着用のガラスとして使用される
鉛ガラスでは、溶着時に合金薄膜との間で、核化と呼ば
れる反応を起こし、核化の生じた合金薄膜部分は磁性を
失っていると共に、ガラス部分は脆くなるために割れ欠
けを生じ易くなっており、磁性特性の劣化を生じ易くな
っている。
鉛ガラスでは、溶着時に合金薄膜との間で、核化と呼ば
れる反応を起こし、核化の生じた合金薄膜部分は磁性を
失っていると共に、ガラス部分は脆くなるために割れ欠
けを生じ易くなっており、磁性特性の劣化を生じ易くな
っている。
したがって、上記従来のガラスを用いて作製される磁
気ヘッドの製造においては、上記の各問題点に起因する
歩留りの低下を招いている。
気ヘッドの製造においては、上記の各問題点に起因する
歩留りの低下を招いている。
そこで、本願発明者は、上記従来の問題点に鑑み、特
に、前記基板と合金磁性材料とから成る磁気ヘッドの作
製に用いられる溶着用ガラスにつき鋭意研究を重ねた結
果、新たなガラス組成物を知見し、本発明をなすに至っ
た。
に、前記基板と合金磁性材料とから成る磁気ヘッドの作
製に用いられる溶着用ガラスにつき鋭意研究を重ねた結
果、新たなガラス組成物を知見し、本発明をなすに至っ
た。
本発明の請求項第１項に係る溶着用ガラス組成物は、
上記課題を解決するために、B2O317〜29重量％、ZnO10
〜27重量％、SrO2〜４重量％、Tl2O50〜65重量％から成
ることを特徴としている。
上記課題を解決するために、B2O317〜29重量％、ZnO10
〜27重量％、SrO2〜４重量％、Tl2O50〜65重量％から成
ることを特徴としている。
また、本発明の請求項第２項に係る溶着用ガラス組成
物は、上記課題を解決するために、B2O39〜21重量％、Z
nO22〜29重量％、SrO2〜４重量％、V2O546〜64重量％か
ら成ることを特徴としている。
物は、上記課題を解決するために、B2O39〜21重量％、Z
nO22〜29重量％、SrO2〜４重量％、V2O546〜64重量％か
ら成ることを特徴としている。
上記請求項第１項の構成にはTl2O、請求項第２項の構
成にはV2O5を比較的多く含んでいるため、500℃以下で
低粘度で濡れ性に富んだガラスとなり、500℃以下での
溶着が可能となっている。
成にはV2O5を比較的多く含んでいるため、500℃以下で
低粘度で濡れ性に富んだガラスとなり、500℃以下での
溶着が可能となっている。
また、上記請求項第１項および第２項の構成によれ
ば、SrOの働きにより核化が制御されることから、合金
磁性材料における磁性の損失する部分の発生が低減され
ると共に、上記ガラス組成物の割れ欠けを減少させる。
さらに、SrOの働きによりビッカース硬度は350以上とな
り、耐摩耗性に優れ、偏摩耗も少なくなる。
ば、SrOの働きにより核化が制御されることから、合金
磁性材料における磁性の損失する部分の発生が低減され
ると共に、上記ガラス組成物の割れ欠けを減少させる。
さらに、SrOの働きによりビッカース硬度は350以上とな
り、耐摩耗性に優れ、偏摩耗も少なくなる。
一方、500℃以下で溶着が可能なため、前記基板の熱
変形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止することが
できる。
変形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止することが
できる。
その上、線膨張係数が60〜80（×10-7/℃）と小さ
く、これまで使用できなかった結晶化ガラス（線膨張係
数約70×10-7/℃）等の素材から成る基板等に対しても
用いることができる。
く、これまで使用できなかった結晶化ガラス（線膨張係
数約70×10-7/℃）等の素材から成る基板等に対しても
用いることができる。
〔実施例１〕 本発明の請求項第１項の一実施例を以下に説明する。
B2O3、ZnO、SrOおよびTl2Oを第１表の組成比に従って
それぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中で1200℃の温
度にて約１時間溶融および混合することにより、試料１
を作製した。
それぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中で1200℃の温
度にて約１時間溶融および混合することにより、試料１
を作製した。
得られた試料１のガラス組成物に対し、その物性を測
定し、その結果を第１表に併せて示した。
定し、その結果を第１表に併せて示した。
このようにして得た上記ガラス組成物においては、第
１表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は400℃
以下となり、磁気ヘッド製造の溶着過程において、この
溶着作業温度を480℃に設定しても、上記ガラス組成物
は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れていた。
１表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は400℃
以下となり、磁気ヘッド製造の溶着過程において、この
溶着作業温度を480℃に設定しても、上記ガラス組成物
は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れていた。
また、500℃以下という比較的低温で溶着が可能なた
め、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合金
薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
め、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合金
薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
一方、上記ガラス組成物は、熱膨張係数が66×10-7/
℃と従来より低く、上記基板として使用される結晶化ガ
ラス等の熱膨張係数約70×10-7/℃とほぼ等しいことに
より、上記ガラス組成物を用いて溶着した際、膨張率の
差に起因する溶着不良等が低減された。
℃と従来より低く、上記基板として使用される結晶化ガ
ラス等の熱膨張係数約70×10-7/℃とほぼ等しいことに
より、上記ガラス組成物を用いて溶着した際、膨張率の
差に起因する溶着不良等が低減された。
このように500℃以下という比較的低温で溶着が可能
であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セラ
ミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余り
知られていない。
であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セラ
ミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余り
知られていない。
さらに、このガラス組成物を用いて作製された磁気ヘ
ッドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面で
の核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁
性を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上
記ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、
磁性特性の低下が従来より抑制された。
ッドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面で
の核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁
性を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上
記ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、
磁性特性の低下が従来より抑制された。
一方、ビッカース硬度が350以上であり、耐摩耗性に
優れ、偏摩耗も少なかった。
優れ、偏摩耗も少なかった。
このように、上記溶着用ガラス組成物は種々の優れた
特性を有したので、このガラス組成物を用いて作製され
た磁気ヘッドの歩留りが向上した。
特性を有したので、このガラス組成物を用いて作製され
た磁気ヘッドの歩留りが向上した。
〔実施例２〕 本発明の請求項第２項の一実施例を以下に説明する。
B2O3、ZnO、SrOおよびV2O5を第２表の組成比に従って
それぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中で1200℃の温
度にて約１時間溶融および混合することにより、試料２
を作製した。
それぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中で1200℃の温
度にて約１時間溶融および混合することにより、試料２
を作製した。
得られた試料２のガラス組成物に対し、その物性を測
定し、その結果を第２表に併せて示した。
定し、その結果を第２表に併せて示した。
このようにして得た上記ガラス組成物においては、第
２表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は350℃
以下となり、磁気ヘッド製造の溶着過程において、この
溶着作業温度を450℃に設定しても、上記ガラス組成物
は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れていた。
２表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は350℃
以下となり、磁気ヘッド製造の溶着過程において、この
溶着作業温度を450℃に設定しても、上記ガラス組成物
は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れていた。
また、500℃以下という比較的低温で溶着が可能なた
め、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合金
薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
め、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合金
薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
一方、上記ガラス組成物は、熱膨張係数が67×10-7/
℃と従来より低く、上記基板として使用される結晶化ガ
ラス等の熱膨張係数約70×10-7/℃とほぼ等しいことに
より、上記ガラス組成物を用いて溶着した際、膨張率の
差に起因する溶着不良等が低減された。
℃と従来より低く、上記基板として使用される結晶化ガ
ラス等の熱膨張係数約70×10-7/℃とほぼ等しいことに
より、上記ガラス組成物を用いて溶着した際、膨張率の
差に起因する溶着不良等が低減された。
このように500℃以下という比較的低温で溶着が可能
であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セラ
ミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余り
知られていない。
であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セラ
ミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余り
知られていない。
さらに、このガラス組成物を用いて作製された磁気ヘ
ッドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面で
の核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁
性を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上
記ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、
磁気特性の低下が従来より抑制された。
ッドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面で
の核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁
性を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上
記ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、
磁気特性の低下が従来より抑制された。
一方、ビッカース硬度が350以上であり、耐摩耗性に
優れ、偏摩耗も少なかった。
優れ、偏摩耗も少なかった。
このように、上記溶着用ガラス組成物は種々の優れた
特性を有したので、このガラス組成物を用いて作製され
た磁気ヘッドの歩留りが向上した。
特性を有したので、このガラス組成物を用いて作製され
た磁気ヘッドの歩留りが向上した。
請求項第１項および第２項記載の溶着用ガラス組成物
は、核化が抑制されることによる磁気特性の向上、ま
た、500℃以下という比較的低温において低粘度で濡れ
性の良い優れた溶着性、及び比較的低温での溶着が可能
なことにより熱応力の減少や熱変形の低減、さらに、耐
摩耗性および低膨張率の優れた特性を有している。
は、核化が抑制されることによる磁気特性の向上、ま
た、500℃以下という比較的低温において低粘度で濡れ
性の良い優れた溶着性、及び比較的低温での溶着が可能
なことにより熱応力の減少や熱変形の低減、さらに、耐
摩耗性および低膨張率の優れた特性を有している。
これらの結果、上記各溶着用ガラス組成物は、それぞ
れ磁気ヘッド製造における歩留りの向上を図ることがで
きるという効果を奏する。
れ磁気ヘッド製造における歩留りの向上を図ることがで
きるという効果を奏する。
Claims (2)
- 【請求項１】B2O317〜29重量％、ZnO10〜27重量％、SrO
2〜４重量％、Tl2O50〜65重量％から成る溶着用ガラス
組成物。 - 【請求項２】B2O39〜21重量％、ZnO22〜29重量％、SrO2
〜４重量％、V2O546〜64重量％から成る溶着用ガラス組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231562A JP2577128B2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 溶着用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231562A JP2577128B2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 溶着用ガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04114929A JPH04114929A (ja) | 1992-04-15 |
| JP2577128B2 true JP2577128B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=16925457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2231562A Expired - Lifetime JP2577128B2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 溶着用ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2577128B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3103296B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2000-10-30 | ティーディーケイ株式会社 | 誘電体磁器およびその製造方法ならびにこれを用いた電子部品 |
| JP4299021B2 (ja) | 2003-02-19 | 2009-07-22 | ヤマト電子株式会社 | 封着加工材及び封着加工用ペースト |
| EP1642871B1 (en) | 2003-06-27 | 2010-12-01 | Yamato Electronic Co., Ltd. | Lead-free glass material for use in sealing and, sealed article and method for sealing using the same |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP2231562A patent/JP2577128B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04114929A (ja) | 1992-04-15 |
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