JPH0414673B2 - - Google Patents
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- JPH0414673B2 JPH0414673B2 JP25648784A JP25648784A JPH0414673B2 JP H0414673 B2 JPH0414673 B2 JP H0414673B2 JP 25648784 A JP25648784 A JP 25648784A JP 25648784 A JP25648784 A JP 25648784A JP H0414673 B2 JPH0414673 B2 JP H0414673B2
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はテアスピランの改良された製造方法に
関する。
関する。
さらに詳しくは、本発明はジヒドロ−β−ヨノ
ールを閉環せしめて1工程でテアスピランを得る
改良されたテアスピランの製造方法に関するもの
である。
ールを閉環せしめて1工程でテアスピランを得る
改良されたテアスピランの製造方法に関するもの
である。
テアスピランはラズベリー、紅茶、パツシヨン
フルーツ等の中に含まれる障脳様の香気を有する
化合物であり、食品香料として有用である。さら
に将来、香粧香料としての用途も大きく期待され
ている。
フルーツ等の中に含まれる障脳様の香気を有する
化合物であり、食品香料として有用である。さら
に将来、香粧香料としての用途も大きく期待され
ている。
従来の技術
天然物中に含まれるテアスピランは微量である
ため大量に得るには合成法によらなけれはならな
い。テアスピランの合成法として従来いくつかの
方法が報告されており、比較的大量生産に適した
方法として次に反応式で示すものが知られている
〔テトラヒドロン・レターズ(1969年)1995頁〕。
ため大量に得るには合成法によらなけれはならな
い。テアスピランの合成法として従来いくつかの
方法が報告されており、比較的大量生産に適した
方法として次に反応式で示すものが知られている
〔テトラヒドロン・レターズ(1969年)1995頁〕。
上記従来方法においては、−β−ヨノン〔〕
を水素化ホウ素ナトリウムで還元してジヒドロ−
β−ヨノール〔〕とし、これを過酸化物で酸化
してエポキシド〔〕とし、これを酸接触の存在
下で環化してスピロ体〔〕とし、次いでこれを
塩化チオニルで脱水してテアスピラン〔〕′を
製造している。
を水素化ホウ素ナトリウムで還元してジヒドロ−
β−ヨノール〔〕とし、これを過酸化物で酸化
してエポキシド〔〕とし、これを酸接触の存在
下で環化してスピロ体〔〕とし、次いでこれを
塩化チオニルで脱水してテアスピラン〔〕′を
製造している。
(発明が解決しようとする問題点)
上記従来法は、工業的に大量に得られるβ−ヨ
ノンを原料として使用する特長を有しているが工
程数が多く、また第1工程(〔〕→〔〕)およ
び第4工程(〔〕→〔〕′)での収率が低いた
め、総収率は極めて低いものとなるという欠点を
有している。
ノンを原料として使用する特長を有しているが工
程数が多く、また第1工程(〔〕→〔〕)およ
び第4工程(〔〕→〔〕′)での収率が低いた
め、総収率は極めて低いものとなるという欠点を
有している。
従つて本発明は上記β−ヨノンから少ない工程
数でしかも収率よくテアスピランを合成する方法
を提供することを目的とする。
数でしかも収率よくテアスピランを合成する方法
を提供することを目的とする。
(問題を解決するための手段)
本発明の上記目的は、下記反応式で示すように
ジヒドロ−β−ヨノールを不活性有機溶媒および
酸結合剤の存在下でハロゲン化第二銅または臭素
と接触せしめてテアスピランを得ることによつて
達成される。
ジヒドロ−β−ヨノールを不活性有機溶媒および
酸結合剤の存在下でハロゲン化第二銅または臭素
と接触せしめてテアスピランを得ることによつて
達成される。
本発明の方法は原料であるジヒドロ−β−ヨノ
ールを不活性有機溶媒に溶解し、得られる溶液に
酸結合剤およびハロゲン化第二銅または臭素を加
えて0℃乃至50℃の温度で1〜24時間反応させる
ことによつて容易に実施される。
ールを不活性有機溶媒に溶解し、得られる溶液に
酸結合剤およびハロゲン化第二銅または臭素を加
えて0℃乃至50℃の温度で1〜24時間反応させる
ことによつて容易に実施される。
本発明の方法で閉環触媒として使用されるハロ
ゲン化第二銅としては、臭化第二銅、塩化第二銅
等が好適に使用される。酸接合剤としてはアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または重
炭酸塩が好適であり、それらの例としてはカルシ
ウム、カリウム、ナトリウムの炭酸塩または重炭
酸塩があげられる。不活性有機溶媒の例として
は、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジグライ
ム、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメチルホ
ルムアミド、四塩化炭素、クロロホルム、酢酸エ
チル、アセトン等が好適に使用される。
ゲン化第二銅としては、臭化第二銅、塩化第二銅
等が好適に使用される。酸接合剤としてはアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または重
炭酸塩が好適であり、それらの例としてはカルシ
ウム、カリウム、ナトリウムの炭酸塩または重炭
酸塩があげられる。不活性有機溶媒の例として
は、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジグライ
ム、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメチルホ
ルムアミド、四塩化炭素、クロロホルム、酢酸エ
チル、アセトン等が好適に使用される。
反応終了後、所望のテアスピランは常法に従つ
て反応混合物中から採取される。例えば、反応混
合物から不溶物を去し、液から様媒を留去
し、残留物を常留することによつて所望の生成物
が得られる。生成物は必要により液体クロマトグ
ラフイー等によりさらに精製することができる。
て反応混合物中から採取される。例えば、反応混
合物から不溶物を去し、液から様媒を留去
し、残留物を常留することによつて所望の生成物
が得られる。生成物は必要により液体クロマトグ
ラフイー等によりさらに精製することができる。
従来法においては前記のように、ジヒドロ−β
−ヨノールから3工程を要してテアスピランを製
造していたのに対して本発明の方法によればわず
か1工程でしかも高収率でテアスピランを製造す
ることができる。
−ヨノールから3工程を要してテアスピランを製
造していたのに対して本発明の方法によればわず
か1工程でしかも高収率でテアスピランを製造す
ることができる。
本発明の方法において原料として使用されるジ
ヒドロ−β−ヨノールは前述したように、従来は
β−ヨノンを水素化ホウ素ナトリウムで還元して
製造されていたが収率が極めて低く、工業的製造
に適した還元法が要望されていた。本発明者等は
鋭意研修の結果、β−ヨノンをpKa値が19以下の
水素供与体例えばt−ブタノール、エタノール、
メタノール、水、塩化アンモニウム、塩酸等の存
在下で金属ナトリウムと液体アンモニアによりバ
ーチ還元すると意外にも高収率でジヒドロ−β−
ヨノールが得られることを知つた。従つてこの還
元方法と本発明の還元方法とを組合せることによ
り、少ない工程数で極めて高収率でβ−ヨノンか
らテアスピランを製造することができる。
ヒドロ−β−ヨノールは前述したように、従来は
β−ヨノンを水素化ホウ素ナトリウムで還元して
製造されていたが収率が極めて低く、工業的製造
に適した還元法が要望されていた。本発明者等は
鋭意研修の結果、β−ヨノンをpKa値が19以下の
水素供与体例えばt−ブタノール、エタノール、
メタノール、水、塩化アンモニウム、塩酸等の存
在下で金属ナトリウムと液体アンモニアによりバ
ーチ還元すると意外にも高収率でジヒドロ−β−
ヨノールが得られることを知つた。従つてこの還
元方法と本発明の還元方法とを組合せることによ
り、少ない工程数で極めて高収率でβ−ヨノンか
らテアスピランを製造することができる。
次に実施例および参考例を示して本発明の方法
をさらに具体的に説明する。
をさらに具体的に説明する。
実施例 1
ジヒドロ−β−ヨノール4gにトルエン40mlを
加え、次いで炭素カルシウム8.9gを加え、室温
で10分間撹拌する。この混合物に臭化第二銅15g
を加え、室温で1時間撹拌する。次に40℃に加温
し4時間撹拌した後、不溶物をろ過して除く、不
溶物をトルエンで十分に洗浄した後、ろ液を水洗
し、次いで飽和重曹水で洗浄する(水槽のPHは約
8)。無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、次いで減
圧濃縮して得られた粗油を液体クロマトグラフイ
ー(GPC、CHCl3)にて精製するとテアスピラ
ンが2.9g(収率72%)得られる。
加え、次いで炭素カルシウム8.9gを加え、室温
で10分間撹拌する。この混合物に臭化第二銅15g
を加え、室温で1時間撹拌する。次に40℃に加温
し4時間撹拌した後、不溶物をろ過して除く、不
溶物をトルエンで十分に洗浄した後、ろ液を水洗
し、次いで飽和重曹水で洗浄する(水槽のPHは約
8)。無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、次いで減
圧濃縮して得られた粗油を液体クロマトグラフイ
ー(GPC、CHCl3)にて精製するとテアスピラ
ンが2.9g(収率72%)得られる。
実施例 2
ジヒドロ−β−ヨノール2gに四塩化炭素20ml
を加え、次いで炭素カリウム5gを加え、室温で
10分間撹拌する。この混合物に臭化第二銅7.5g
を加え、室温で1時間撹拌する。次に50℃に加温
し6時間撹拌した後不溶物をろ過して除く。不溶
物を四塩化炭素で十分に洗浄した後、ろ液を水洗
し、次いで飽和重曹水で洗浄する(水槽のPHは約
8)。無水硫酸イナトリウムにて乾燥し、次いで
減圧濃縮して得られた粗油を液体クロマトグラフ
イー(GPC、CHCl3)にて精製するとテアスピ
ランが1.4g(収率67%)得られる。
を加え、次いで炭素カリウム5gを加え、室温で
10分間撹拌する。この混合物に臭化第二銅7.5g
を加え、室温で1時間撹拌する。次に50℃に加温
し6時間撹拌した後不溶物をろ過して除く。不溶
物を四塩化炭素で十分に洗浄した後、ろ液を水洗
し、次いで飽和重曹水で洗浄する(水槽のPHは約
8)。無水硫酸イナトリウムにて乾燥し、次いで
減圧濃縮して得られた粗油を液体クロマトグラフ
イー(GPC、CHCl3)にて精製するとテアスピ
ランが1.4g(収率67%)得られる。
実施例 3
ジヒドロ−β−ヨノール2gに四塩化炭素20ml
を加え、次いで炭素カルシウム9gを加え、氷冷
下で10分間撹拌する。この混合物に臭素2gを加
え、氷冷下10分間撹拌する。次に室温にして1時
間撹拌した後不溶物をろ過して除く。不溶物を四
塩化炭素で十分に洗浄した後、ろ液を水洗し、次
いで飽和重曹水で洗浄する(水槽のPHは約8)。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧濃縮し
て得られた粗油を液体クロマトグラフイー
(GPC,CHCl2)で精製すると、テアスピラン1
g(収率50%)が得られる。
を加え、次いで炭素カルシウム9gを加え、氷冷
下で10分間撹拌する。この混合物に臭素2gを加
え、氷冷下10分間撹拌する。次に室温にして1時
間撹拌した後不溶物をろ過して除く。不溶物を四
塩化炭素で十分に洗浄した後、ろ液を水洗し、次
いで飽和重曹水で洗浄する(水槽のPHは約8)。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧濃縮し
て得られた粗油を液体クロマトグラフイー
(GPC,CHCl2)で精製すると、テアスピラン1
g(収率50%)が得られる。
参考例 1
β−ヨンノ5gにテトラヒドロフラン0.5mlと
AlCl3・6H2O14gを加え、撹拌しつつ液体アン
モニア30mlを導入し、さらにう激しく撹拌する。
次いで金属ナトリウム7.2gを少しずつ加える。
約1時間後に固体塩化アンモニウム2gを加え約
10分間撹拌した後、室温にてアンモニアを除く。
さらに減圧濃縮して、できる限りアンモニアを除
く。乾燥した残渣にエーテルを加え、ろ過して不
溶物を十分にエーテルで洗浄する。ろ過を分液
し、エーテル層を得た後、飽和食塩水で洗浄、次
いで無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮する
と粗油5.1gが得られる。粗油をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフイーで精製するとジヒドロ−
β−ヨノール3.9g(収率77%)が得られる。
AlCl3・6H2O14gを加え、撹拌しつつ液体アン
モニア30mlを導入し、さらにう激しく撹拌する。
次いで金属ナトリウム7.2gを少しずつ加える。
約1時間後に固体塩化アンモニウム2gを加え約
10分間撹拌した後、室温にてアンモニアを除く。
さらに減圧濃縮して、できる限りアンモニアを除
く。乾燥した残渣にエーテルを加え、ろ過して不
溶物を十分にエーテルで洗浄する。ろ過を分液
し、エーテル層を得た後、飽和食塩水で洗浄、次
いで無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮する
と粗油5.1gが得られる。粗油をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフイーで精製するとジヒドロ−
β−ヨノール3.9g(収率77%)が得られる。
参考例 2
β−ヨノン5gにテトラヒドロフラン0.5mlと
水5.6gを加え撹拌しつつ液体アンモニア30mlを
導入し撹拌する。次いで金属ナトリウム7.2gを
少しずつ加える。約1時間後に固体塩化アンモニ
ウム2gを加え、約10分間撹拌した後、室温にて
アンモニアを除く。さらに減圧濃縮してできる限
りアンモニアを除く。乾固した残渣にトルエンを
加え、ろ過して不溶物を除いた後、不溶物を十分
にトルエンで洗浄する。ろ液を分液し、トルエン
層を得た後、飽和食塩水で洗浄、次いで無水硫酸
ナトリウムで乾燥し減圧濃縮すると粗油5.3gが
得られる。粗油をシリカゲルのカラムクロマトグ
ラフイーで精製するとジヒドロ−β−ヨノール
3.6g(収率71%)が得られる。
水5.6gを加え撹拌しつつ液体アンモニア30mlを
導入し撹拌する。次いで金属ナトリウム7.2gを
少しずつ加える。約1時間後に固体塩化アンモニ
ウム2gを加え、約10分間撹拌した後、室温にて
アンモニアを除く。さらに減圧濃縮してできる限
りアンモニアを除く。乾固した残渣にトルエンを
加え、ろ過して不溶物を除いた後、不溶物を十分
にトルエンで洗浄する。ろ液を分液し、トルエン
層を得た後、飽和食塩水で洗浄、次いで無水硫酸
ナトリウムで乾燥し減圧濃縮すると粗油5.3gが
得られる。粗油をシリカゲルのカラムクロマトグ
ラフイーで精製するとジヒドロ−β−ヨノール
3.6g(収率71%)が得られる。
参考例 3
β−ヨンノ7gにテトラヒドロフラン1mlと濃
塩酸2.8gを加え撹拌しつつ液体アンモニア45ml
を導入し撹拌する。次いで金属ナトリウム10gを
少しずつ加える。約1時間後に固体塩化アンモニ
ウム3gを加え、約10分間撹拌した後、室温にて
アンモニアを除く。さらに減圧濃縮してできる限
りアンモニアを除く。乾固した残渣にエーテルを
加え、ろ過して不溶物を除いた後、不溶物を十分
にエーテルで洗浄する。ろ液を分液しエーテル層
を得た後、飽和食塩水で洗浄、次いで無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧濃縮すると粗油7.2gが
得られる。粗油をシリカゲルのカラムクロマトグ
ラフイーで精製するとジヒドロ−β−ヨノール4
g(収率80%)が得られる。
塩酸2.8gを加え撹拌しつつ液体アンモニア45ml
を導入し撹拌する。次いで金属ナトリウム10gを
少しずつ加える。約1時間後に固体塩化アンモニ
ウム3gを加え、約10分間撹拌した後、室温にて
アンモニアを除く。さらに減圧濃縮してできる限
りアンモニアを除く。乾固した残渣にエーテルを
加え、ろ過して不溶物を除いた後、不溶物を十分
にエーテルで洗浄する。ろ液を分液しエーテル層
を得た後、飽和食塩水で洗浄、次いで無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧濃縮すると粗油7.2gが
得られる。粗油をシリカゲルのカラムクロマトグ
ラフイーで精製するとジヒドロ−β−ヨノール4
g(収率80%)が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ジヒドロ−β−ヨノールを不活性有機溶媒お
よび酸結合剤の存在下でハロゲン化第二銅または
臭素と接触せしめることを特徴とするテアスピラ
ンの製法。 2 ハロゲン化第二銅が臭化第二銅である特許請
求の範囲第1項記載のテアスピランの製法。 3 酸結合剤がアルカリまたはアルカリ土類金属
酸塩である特許請求の範囲第1項または第2項に
記載のテアスピランの製法。 4 アルカリ土類金属炭酸塩が炭酸カルシウムで
ある特許請求の範囲第3項記載のテアスピランの
製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25648784A JPS61134386A (ja) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | テアスピランの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25648784A JPS61134386A (ja) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | テアスピランの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61134386A JPS61134386A (ja) | 1986-06-21 |
JPH0414673B2 true JPH0414673B2 (ja) | 1992-03-13 |
Family
ID=17293319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25648784A Granted JPS61134386A (ja) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | テアスピランの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61134386A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7964637B2 (en) | 2005-09-13 | 2011-06-21 | Takasago International Corporation | Process for producing optically active theaspirane |
JP5745805B2 (ja) * | 2010-09-28 | 2015-07-08 | 株式会社 資生堂 | 鎮静効果付与剤及び鎮静剤並びに2r−テアスピランの使用 |
-
1984
- 1984-12-06 JP JP25648784A patent/JPS61134386A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61134386A (ja) | 1986-06-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |