JPH04143948A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH04143948A JPH04143948A JP26760790A JP26760790A JPH04143948A JP H04143948 A JPH04143948 A JP H04143948A JP 26760790 A JP26760790 A JP 26760790A JP 26760790 A JP26760790 A JP 26760790A JP H04143948 A JPH04143948 A JP H04143948A
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は光を用いて情報の記録、再生または消去を行な
う光磁気記録媒体に関する。
う光磁気記録媒体に関する。
［従来の技術］
従来の光磁気記録媒体は紫外線硬化樹脂でハードコート
したポリカーボネートまたはガラスの基板に、第１の誘
電体層、記録層、第２の誘電体層、反射層の順に順次成
膜し、その後反射膜の上に紫外線硬化樹脂で保護コート
層を形成していた。そして、記録層を保護する第１及び
第２誘電体層として窒化シリコンまたは窒化アルミニウ
ムなどが用いられていた。
したポリカーボネートまたはガラスの基板に、第１の誘
電体層、記録層、第２の誘電体層、反射層の順に順次成
膜し、その後反射膜の上に紫外線硬化樹脂で保護コート
層を形成していた。そして、記録層を保護する第１及び
第２誘電体層として窒化シリコンまたは窒化アルミニウ
ムなどが用いられていた。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、従来技術のガラスの基板を用いた場合は、ガラ
スが加工しづらいためコスト高となり、重量が重いので
スピンドルに負担がかかってしまう。基板に紫外線硬化
樹脂でハードコートしたポリカーボネートを用いる場合
は保護層に窒化シリコンまたは窒化アルミニウムが用い
られているため、基板と保護層との密着力はあるが、ポ
リカーボネートの複屈折により再生信号に悪影響を及ぼ
したり、ポリカーボネートの吸湿性により高温高湿下に
おいて基板が変形して記録、再生できなくなるという課
題を有していた。また、非晶性ポリオレフィンの基板を
用いた場合は複屈折により信号に悪影響を及ぼすことは
少ないが、その上に窒化シリコンの保護層を成膜すると
、密着力が弱く基板から剥離しやすいし、窒化アルミニ
ウムの保護層を成膜すると保護層に亀裂が入りやすいと
いう課題を有していた。
スが加工しづらいためコスト高となり、重量が重いので
スピンドルに負担がかかってしまう。基板に紫外線硬化
樹脂でハードコートしたポリカーボネートを用いる場合
は保護層に窒化シリコンまたは窒化アルミニウムが用い
られているため、基板と保護層との密着力はあるが、ポ
リカーボネートの複屈折により再生信号に悪影響を及ぼ
したり、ポリカーボネートの吸湿性により高温高湿下に
おいて基板が変形して記録、再生できなくなるという課
題を有していた。また、非晶性ポリオレフィンの基板を
用いた場合は複屈折により信号に悪影響を及ぼすことは
少ないが、その上に窒化シリコンの保護層を成膜すると
、密着力が弱く基板から剥離しやすいし、窒化アルミニ
ウムの保護層を成膜すると保護層に亀裂が入りやすいと
いう課題を有していた。
そこで本発明はこのような課題を解決するもので、その
目的とするところは以下のようになる。
目的とするところは以下のようになる。
非晶性ポリオレフィンを用いているので複屈折により信
号に悪影響を及ぼすことは少ないし、基板が吸湿により
変形することが少ない。また第１の誘電体層に５ｉＡＩ
Ｎを用いているので、非晶性ポリオレフィンの基板を用
いても、東１の誘電体層と基板の密着力があり、高温高
湿下でも基板と保護層が剥離することもなく、第２誘電
体層にも５ｉＡＩＮ層を用いているので保護層に亀裂が
入ることも少ないので信頼性が高い。
号に悪影響を及ぼすことは少ないし、基板が吸湿により
変形することが少ない。また第１の誘電体層に５ｉＡＩ
Ｎを用いているので、非晶性ポリオレフィンの基板を用
いても、東１の誘電体層と基板の密着力があり、高温高
湿下でも基板と保護層が剥離することもなく、第２誘電
体層にも５ｉＡＩＮ層を用いているので保護層に亀裂が
入ることも少ないので信頼性が高い。
［課題を解決するための手段］
本発′明は光を用いて情報の記録、再生または消去を行
なう単板型光磁気記録媒体において、基板に非晶性ポリ
オレフィンを用い、その基板の片面に紫外線硬化樹脂か
らなるハードコート層を形成し、前述の基板の他方の片
面に第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層、反射層
の順に順次成膜し、その反射層の上に紫外線硬化樹脂よ
りなる保護コート層を形成したことを特徴とする。
なう単板型光磁気記録媒体において、基板に非晶性ポリ
オレフィンを用い、その基板の片面に紫外線硬化樹脂か
らなるハードコート層を形成し、前述の基板の他方の片
面に第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層、反射層
の順に順次成膜し、その反射層の上に紫外線硬化樹脂よ
りなる保護コート層を形成したことを特徴とする。
［実施例］
以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。第
１図は本発明の光磁気記録媒体の基本構成図である。ｌ
は非晶性ポリオレフィンの基板、２はＳ １ＡＩＮの第
１誘電体層、３はＮｄ Ｄｙ ＦｅＣｏの記録層、４は
Ｓ １ＡＩＮの第２誘電体層、５はＡｌＴｉの反射層、
６は紫外線硬化樹脂の保護コート層、７は紫外線硬化樹
脂のハードコート層である。
１図は本発明の光磁気記録媒体の基本構成図である。ｌ
は非晶性ポリオレフィンの基板、２はＳ １ＡＩＮの第
１誘電体層、３はＮｄ Ｄｙ ＦｅＣｏの記録層、４は
Ｓ １ＡＩＮの第２誘電体層、５はＡｌＴｉの反射層、
６は紫外線硬化樹脂の保護コート層、７は紫外線硬化樹
脂のハードコート層である。
１の非晶性ポリオレフィンの基板を射出圧縮成形し、紫
外線硬化樹脂を用いてハードコートした後、スパッタ装
置の真空チャンバー内に入れ、５ｉＡｌのターゲットを
用いて、窒素とアルゴンの混合ガスを導入することによ
るＲＦ反応マグネトロンスパッタ法により２の５ｉＡＩ
Ｎ層を成膜した。そして、その上にＮｄＤｙＦｅＣｏの
合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入することに
よるＤＣマグネトロンスパッタ法により３のＮｄＤｙＦ
ｅＣｏに記録層を成膜した。その上に５ｉＡｌのターゲ
ットを用いて、窒素とアルゴンの混合ガスを用いること
によるＲＦ反応マグネトロンスパッタ法によって４の第
２誘電体層を成膜した。
外線硬化樹脂を用いてハードコートした後、スパッタ装
置の真空チャンバー内に入れ、５ｉＡｌのターゲットを
用いて、窒素とアルゴンの混合ガスを導入することによ
るＲＦ反応マグネトロンスパッタ法により２の５ｉＡＩ
Ｎ層を成膜した。そして、その上にＮｄＤｙＦｅＣｏの
合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入することに
よるＤＣマグネトロンスパッタ法により３のＮｄＤｙＦ
ｅＣｏに記録層を成膜した。その上に５ｉＡｌのターゲ
ットを用いて、窒素とアルゴンの混合ガスを用いること
によるＲＦ反応マグネトロンスパッタ法によって４の第
２誘電体層を成膜した。
さらに、その上にＡｌＴｉの合金ターゲットを用いて、
アルゴンガスを導入することによるＤＣマグネトロンス
パッタ法によって、５のＡｌＴｉの反射層を成膜した。
アルゴンガスを導入することによるＤＣマグネトロンス
パッタ法によって、５のＡｌＴｉの反射層を成膜した。
そして、５のＡｌＴｉの反射層の上にスピンコード法に
よって紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射して７の
保護コート層を形成した。
よって紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射して７の
保護コート層を形成した。
次に、上述の本発明の光磁気記録媒体と比較のために第
１の誘電体層と第２の誘電体層を従来の保護層に変えた
光磁気記録媒体及び基板にポリカーボネートを用いたも
のについて８０°Ｃ８５％ＲＨで耐候性試験したときの
結果を表１に示す。
１の誘電体層と第２の誘電体層を従来の保護層に変えた
光磁気記録媒体及び基板にポリカーボネートを用いたも
のについて８０°Ｃ８５％ＲＨで耐候性試験したときの
結果を表１に示す。
表１
比較例の第１の誘電体層と第２の誘電体層にはＳｉＮ及
びＡＩＮを用いた。ポリカーボネートの基板は射呂圧縮
成形したものを用いた。他の条件は本発明の光磁気記録
媒体と同じ条件にした。耐候性試験は恒温層恒湿層で５
００時間放置したあと、取り出して１０分後に測定した
。
びＡＩＮを用いた。ポリカーボネートの基板は射呂圧縮
成形したものを用いた。他の条件は本発明の光磁気記録
媒体と同じ条件にした。耐候性試験は恒温層恒湿層で５
００時間放置したあと、取り出して１０分後に測定した
。
表１の結果をみると明らかなように、本発明になる光磁
気記録媒体は８０°Ｃ８５％ＲＨでも保護層の剥離や亀
裂、あるいは信号劣化を生じないことが分かる。また、
８０℃８５％ＲＨから取り出して１０分後でも信号劣化
がなく、機械特性もポリカーボネートの基板を用いるよ
り優れていて、偏心加速度、面振れ加速度、傾き角とも
に変化が小さかった。従って、高速対応が可能であり、
環境変化を気にしないでよいため使用環境や保存環境の
制限が少ない汎用性のある光磁気記録媒体になった。
気記録媒体は８０°Ｃ８５％ＲＨでも保護層の剥離や亀
裂、あるいは信号劣化を生じないことが分かる。また、
８０℃８５％ＲＨから取り出して１０分後でも信号劣化
がなく、機械特性もポリカーボネートの基板を用いるよ
り優れていて、偏心加速度、面振れ加速度、傾き角とも
に変化が小さかった。従って、高速対応が可能であり、
環境変化を気にしないでよいため使用環境や保存環境の
制限が少ない汎用性のある光磁気記録媒体になった。
尚、本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変更
は可能である。
べきではなく本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変更
は可能である。
［発明の効果］
本発明の光磁気記録媒体によれば、非晶性ポリオレフィ
ンを用いているので複屈折により信号に悪影響を及ぼす
ことは少ないし、基板が吸湿により変形することが少な
い。また第１の誘電体層にＳ １ＡＩＮを用いているの
で、非晶性ポリオレフィンの基板を用いても、第１の誘
電体層と基板の密着力があり、高温高湿下でも基板と保
護層が剥離することもなく、第２誘電体層にも５ｆＡＩ
Ｎ層を用いているので保護層に亀裂が入ることも少ない
ので信頼性が高いという効果を有する。
ンを用いているので複屈折により信号に悪影響を及ぼす
ことは少ないし、基板が吸湿により変形することが少な
い。また第１の誘電体層にＳ １ＡＩＮを用いているの
で、非晶性ポリオレフィンの基板を用いても、第１の誘
電体層と基板の密着力があり、高温高湿下でも基板と保
護層が剥離することもなく、第２誘電体層にも５ｆＡＩ
Ｎ層を用いているので保護層に亀裂が入ることも少ない
ので信頼性が高いという効果を有する。
第１図は本発明になる光磁気記録媒体の基本構成図であ
る。 ・非晶性ポリオレフィンの基板 ・５ｉＡＩＮの第１誘電体層 −ＮｄＤｙＦｅＣｏの記録層 ・５ｆＡＩＮの第２誘電体層 ・ＡＩＴ＋の反射層 紫外線硬化樹脂の保護コート層 ・紫外線硬化樹脂のハードコート層 以上
る。 ・非晶性ポリオレフィンの基板 ・５ｉＡＩＮの第１誘電体層 −ＮｄＤｙＦｅＣｏの記録層 ・５ｆＡＩＮの第２誘電体層 ・ＡＩＴ＋の反射層 紫外線硬化樹脂の保護コート層 ・紫外線硬化樹脂のハードコート層 以上
Claims (1)
- 光を用いて情報の記録、再生または消去を行なう単板型
光磁気記録媒体において、基板に非晶性ポリオレフィン
を用い、該基板の片面に紫外線硬化樹脂からなるハード
コート層を形成し、前記基板の他方の片面に第１の誘電
体層、記録層、第２の誘電体層、反射層の順に順次成膜
し、該反射層の上に紫外線硬化樹脂よりなる保護コート
層を形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26760790A JPH04143948A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26760790A JPH04143948A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04143948A true JPH04143948A (ja) | 1992-05-18 |
Family
ID=17447073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26760790A Pending JPH04143948A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04143948A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9301541B2 (en) | 2010-11-02 | 2016-04-05 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Process for production of protein-containing food employing continuous heating method by internal heating |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP26760790A patent/JPH04143948A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9301541B2 (en) | 2010-11-02 | 2016-04-05 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Process for production of protein-containing food employing continuous heating method by internal heating |
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