JPH04143094A - はんだ付け用フラックス - Google Patents
はんだ付け用フラックスInfo
- Publication number
- JPH04143094A JPH04143094A JP2263767A JP26376790A JPH04143094A JP H04143094 A JPH04143094 A JP H04143094A JP 2263767 A JP2263767 A JP 2263767A JP 26376790 A JP26376790 A JP 26376790A JP H04143094 A JPH04143094 A JP H04143094A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- soldering
- flux
- solderability
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005476 soldering Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical class [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 13
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- -1 aliphatic carbonic acids Chemical class 0.000 description 7
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N hydroxymalonic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C(O)=O ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPGXRSRHYNQIFN-UHFFFAOYSA-N 2-oxoglutaric acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)C(O)=O KPGXRSRHYNQIFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000002529 flux (metallurgy) Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001502 inorganic halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000005556 structure-activity relationship Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
- B23K35/3612—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
- B23K35/3618—Carboxylic acids or salts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
- B23K35/362—Selection of compositions of fluxes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
- B23K35/3612—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、はんだ付け用フラックスに関するものである
。現在、はんだ付け後のプリント基板の洗浄はほとんど
フロンで行なってる。しがし、フロンはオゾン層破壊と
いう環境汚染問題をひきおこすために使用量か規制され
ており、近い将来まったく使用できなくなる。本発明は
、はんだ付け後のフランクス残渣かほとんど残らないの
で洗浄工程の必要かなく、従って、フロン規制に対応す
ることかでき、さらに、チエッカ−ピンによるはんた付
け不良の検査の際にも何ら支障なく不良を検査すること
かてきる、はんた付け用フラックスに関するものである
。
。現在、はんだ付け後のプリント基板の洗浄はほとんど
フロンで行なってる。しがし、フロンはオゾン層破壊と
いう環境汚染問題をひきおこすために使用量か規制され
ており、近い将来まったく使用できなくなる。本発明は
、はんだ付け後のフランクス残渣かほとんど残らないの
で洗浄工程の必要かなく、従って、フロン規制に対応す
ることかでき、さらに、チエッカ−ピンによるはんた付
け不良の検査の際にも何ら支障なく不良を検査すること
かてきる、はんた付け用フラックスに関するものである
。
(従来の技術)
ロジン等の天然樹脂や合成樹脂などにアミンのハロゲン
化水素酸塩や存機酸を数種添加したはんだ付け用フラッ
クスはよく知られている。しかし、現在使用されている
フラックスは樹脂成分を多く含むために、はんだ付け後
のプリント基板に多量の残渣か存在し、チエッカ−ビン
によるはんだ付け不良検査には洗浄工程なして使用する
ことはできない。しかも、現在はその洗浄剤であるフロ
ンにも環境問題に関して厳しい規制かなされており、フ
ロンによる洗浄か実施困難になってきている。
化水素酸塩や存機酸を数種添加したはんだ付け用フラッ
クスはよく知られている。しかし、現在使用されている
フラックスは樹脂成分を多く含むために、はんだ付け後
のプリント基板に多量の残渣か存在し、チエッカ−ビン
によるはんだ付け不良検査には洗浄工程なして使用する
ことはできない。しかも、現在はその洗浄剤であるフロ
ンにも環境問題に関して厳しい規制かなされており、フ
ロンによる洗浄か実施困難になってきている。
超低残渣タイプのはんだ付け用フラックスは、現在ても
数社で販売されているか、従来のロジンタイプのはんだ
付け用フラックスと比較すると、腐食や電気絶縁抵抗の
劣化を避けるためにははんだ付け性を犠牲にしているの
で、最近の表面実装技術における工程、たとえばリフロ
ーはんだ付けなとから受ける熱衝撃により劣化した銅面
や、はんだコート面に対して充分なはんだ付けか行えな
いのか現状である。
数社で販売されているか、従来のロジンタイプのはんだ
付け用フラックスと比較すると、腐食や電気絶縁抵抗の
劣化を避けるためにははんだ付け性を犠牲にしているの
で、最近の表面実装技術における工程、たとえばリフロ
ーはんだ付けなとから受ける熱衝撃により劣化した銅面
や、はんだコート面に対して充分なはんだ付けか行えな
いのか現状である。
(本発明か解決しようとする問題点)
本発明はこれらの問題点、すなわち優れたはんだ付け性
を損なうことなく、フロン規制に対応するための無洗浄
化、さらには無洗浄でもチエッカ−ビンによるはんだ付
け不良検査を支障なく行うことかできる超低残渣化され
たはんた付け用フラックスを提供しようとするものであ
る。
を損なうことなく、フロン規制に対応するための無洗浄
化、さらには無洗浄でもチエッカ−ビンによるはんだ付
け不良検査を支障なく行うことかできる超低残渣化され
たはんた付け用フラックスを提供しようとするものであ
る。
(問題点を解決するための手段)
一般に有機酸は無機ハロゲン化塩や、アミン類のハロゲ
ン化水素酸塩などとはんだ付け性について比較すると、
かなり低い能力しか持たない。有機酸のはんだ付け性の
強さに対する構造活性相関は分子量(炭素数)か小さく
なるにつれはんだ付け性は増すものの、現在のフローは
んだ付け装置を用いるとはんだ付け前の予備加熱でほと
んとの有機酸が揮散してしまい、はんだ付け時には活性
力かほとんど得られなくなるために充分なはんだ付けか
行なわれないようになってしまう。逆に分子量か大きく
なるにつれて融点や沸点か上昇するので活性剤か予備加
熱で消失することはないか、はんだ付け後に余剰分か残
渣として残るばかりか、はんだ付け性向体もかなり低い
ものである。そこて、はんた付け温度てほとんと消失し
てしまうか、はんだ付け性を適度に持ち合わせている特
殊な有機酸を大量に添加することにより、有機酸自身か
それ自体の揮散を妨げるよう設計することで解決できる
。
ン化水素酸塩などとはんだ付け性について比較すると、
かなり低い能力しか持たない。有機酸のはんだ付け性の
強さに対する構造活性相関は分子量(炭素数)か小さく
なるにつれはんだ付け性は増すものの、現在のフローは
んだ付け装置を用いるとはんだ付け前の予備加熱でほと
んとの有機酸が揮散してしまい、はんだ付け時には活性
力かほとんど得られなくなるために充分なはんだ付けか
行なわれないようになってしまう。逆に分子量か大きく
なるにつれて融点や沸点か上昇するので活性剤か予備加
熱で消失することはないか、はんだ付け後に余剰分か残
渣として残るばかりか、はんだ付け性向体もかなり低い
ものである。そこて、はんた付け温度てほとんと消失し
てしまうか、はんだ付け性を適度に持ち合わせている特
殊な有機酸を大量に添加することにより、有機酸自身か
それ自体の揮散を妨げるよう設計することで解決できる
。
有機酸としては脂肪族−級カルホン酸でも効果かあるか
、特にマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スペリン酸、アセライン酸、セバシン酸な
との二塩基性カルボン酸、またはグリコール酸、乳酸、
ヒドロアクリル酸、オキシ酪酸、グリセリン酸、タルト
ロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸その他なとのすキ
シ酸、さらにケトグルタル酸、ピルピン酸、ケ)・酪酸
、レブリン酸その他、なとのケトン酸か効果的であり、
このうちの一種または数種を組み合わせて、はんだ付け
用フラックスの0.1〜20重量%まで添加することか
できる。
、特にマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スペリン酸、アセライン酸、セバシン酸な
との二塩基性カルボン酸、またはグリコール酸、乳酸、
ヒドロアクリル酸、オキシ酪酸、グリセリン酸、タルト
ロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸その他なとのすキ
シ酸、さらにケトグルタル酸、ピルピン酸、ケ)・酪酸
、レブリン酸その他、なとのケトン酸か効果的であり、
このうちの一種または数種を組み合わせて、はんだ付け
用フラックスの0.1〜20重量%まで添加することか
できる。
しかし、有機酸は本来はんだ付け性か悪いうえに、流動
性も劣るため、フローはんだ付けに際してはんだとの置
き換わりか悪く、プリント基板のチップランドやスルー
ホールに対してはんだか濡れにくい状態となり、充分な
はんだ付けか行えない。そこて、我々は鋭意研究の結果
、前述の有機酸に正リン酸エステル、亜リン酸エステル
および次亜リン酸エステルのうちの一つまたはいくつか
の組み合わせを更に添加すると飛躍的にはんだ付け性か
向上することを見出して本発明を完成した。
性も劣るため、フローはんだ付けに際してはんだとの置
き換わりか悪く、プリント基板のチップランドやスルー
ホールに対してはんだか濡れにくい状態となり、充分な
はんだ付けか行えない。そこて、我々は鋭意研究の結果
、前述の有機酸に正リン酸エステル、亜リン酸エステル
および次亜リン酸エステルのうちの一つまたはいくつか
の組み合わせを更に添加すると飛躍的にはんだ付け性か
向上することを見出して本発明を完成した。
これらリン系のエステル類を添加すると有機酸とよく相
溶し、流動性かよくなるため、プリント基板のスルーホ
ールへの毛細管現象による吸い上げや、フローはんだ付
け時のはんだとの置き換わりかよくなり、大量に添加し
た有機酸の弱い活性ではあるか、持続的な働きにより、
充分なはんだ付け性が得られるようになる。エステルと
しては正リン酸エステル、亜リン酸エステル、次亜リン
酸エステルのうちの一つまたは複数の組み合わせて00
1%〜10重量%まて添カロすることかてきる。
溶し、流動性かよくなるため、プリント基板のスルーホ
ールへの毛細管現象による吸い上げや、フローはんだ付
け時のはんだとの置き換わりかよくなり、大量に添加し
た有機酸の弱い活性ではあるか、持続的な働きにより、
充分なはんだ付け性が得られるようになる。エステルと
しては正リン酸エステル、亜リン酸エステル、次亜リン
酸エステルのうちの一つまたは複数の組み合わせて00
1%〜10重量%まて添カロすることかてきる。
溶剤としてはイソプロピルアルコールか主に使用される
か、必要に応して、メタノール、エタノル、アセトン、
トルエン、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブその他なとの一般溶剤を適当量添加して使用する
こともてきる。このほか、これらの薬品類に適当な添加
剤たとえば、酸化防止剤、可塑剤、チクソ剤またはアミ
ンや四級アンモニウムなとのハロケン化水素酸塩その他
などを加えて使用することもてきる。
か、必要に応して、メタノール、エタノル、アセトン、
トルエン、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブその他なとの一般溶剤を適当量添加して使用する
こともてきる。このほか、これらの薬品類に適当な添加
剤たとえば、酸化防止剤、可塑剤、チクソ剤またはアミ
ンや四級アンモニウムなとのハロケン化水素酸塩その他
などを加えて使用することもてきる。
以上の条件を満足することにより、添加した薬品類は充
分なはんだ付け性を維持し、かつフローはんだ付け時の
熱やはんだのウェーブによってほとんとか分散、飛散、
流失し、はんだ付け後のプリント基板には残渣かはとん
と残らないのて、腐食性か無く、電気絶縁抵抗の低下を
伴わない。このような効果から、フロン洗浄を行なう必
要かないために、低コスト化につながるばかりか、フロ
ンによって引き起されるオゾン層の破壊も避けることが
できる。また、残渣かはとんと存在しないために、現在
はんだ付け不良検査の主流であるチエッカ−ピン検査に
おいてもピンの先端の接触を妨げないので、検査に支障
かなくなり、著しく生産性を向上することかできる。
分なはんだ付け性を維持し、かつフローはんだ付け時の
熱やはんだのウェーブによってほとんとか分散、飛散、
流失し、はんだ付け後のプリント基板には残渣かはとん
と残らないのて、腐食性か無く、電気絶縁抵抗の低下を
伴わない。このような効果から、フロン洗浄を行なう必
要かないために、低コスト化につながるばかりか、フロ
ンによって引き起されるオゾン層の破壊も避けることが
できる。また、残渣かはとんと存在しないために、現在
はんだ付け不良検査の主流であるチエッカ−ピン検査に
おいてもピンの先端の接触を妨げないので、検査に支障
かなくなり、著しく生産性を向上することかできる。
以下に、本発明によるはんだ付け用フラックスの効果を
比較例および実施例によってさらに具体的に説明する。
比較例および実施例によってさらに具体的に説明する。
その試験方法、試験基板および結果・第1表を以下に示
す。
す。
(試験方法)
以下に示す0゜8mm厚、76.0X76.0mmの試
験基板を用い、噴流はんだ付け装置(フローソルダー)
で、スルーホールに対するはんだ付け性の評価を行なっ
た。
験基板を用い、噴流はんだ付け装置(フローソルダー)
で、スルーホールに対するはんだ付け性の評価を行なっ
た。
(試験基板)
0.8mmスルーホール、600穴/1枚N=10
(600,0穴) ガラス・エポキシ(G−10)基板1. 6mm厚に銅
スルーホール(25X24個、計600個)を形成し、
スルーホールおよびスルーホールラント部以外に熱硬タ
イプのソルダーレジストを印刷した基板。
(600,0穴) ガラス・エポキシ(G−10)基板1. 6mm厚に銅
スルーホール(25X24個、計600個)を形成し、
スルーホールおよびスルーホールラント部以外に熱硬タ
イプのソルダーレジストを印刷した基板。
(基板処理条件)
アセトンで基板表面の油脂汚れをふきとり、硫酸−過酸
化水素水の混合水溶液て銅酸化物をエツチングした後、
150°C雰囲気の熱風炉で90m1n加熱して銅面に
均一な酸化銅皮膜を付けた基板を用いた。
化水素水の混合水溶液て銅酸化物をエツチングした後、
150°C雰囲気の熱風炉で90m1n加熱して銅面に
均一な酸化銅皮膜を付けた基板を用いた。
(スルーホールはんだ付けの合格基準)第1図に示す図
はフローソルダーによるスルーホールへのはんだ付けの
状態を示し、合否基準を定めたものである。試験基板の
600穴を各々判定基準に従い合否を決め、金穴の何%
か合格基準に達しているかを、それぞれのはんだ付け用
フラックスの性能評価とした。第1図において上段は合
格、下段は不合格であり、合格の%によりスルーホール
へのはんだ付け性を示した。
はフローソルダーによるスルーホールへのはんだ付けの
状態を示し、合否基準を定めたものである。試験基板の
600穴を各々判定基準に従い合否を決め、金穴の何%
か合格基準に達しているかを、それぞれのはんだ付け用
フラックスの性能評価とした。第1図において上段は合
格、下段は不合格であり、合格の%によりスルーホール
へのはんだ付け性を示した。
(はんだ付け装置条件)
・ブレヒート +30°C’ 60m1n
・コンヘアースピード 1m/min ・はんだ温度 235℃ ・シングルウェーブ式噴流はんだ付け装置を使用した。
・コンヘアースピード 1m/min ・はんだ温度 235℃ ・シングルウェーブ式噴流はんだ付け装置を使用した。
本発明によるはんた付け用フラックス(実施例1.2)
および従来タイプ(比較例1〜3)の組成および試験結
果を第1表に示す。比較例1.2では試験基板の条件が
厳しいにも関わらず、67または94%のはんだ付け率
であり、良好なはんだ付け性を示しているか、従来のロ
ジンタイプであるのて基板にはロジンか大量に存在して
おり、洗浄なしてはチエッカ−ピンによるはんだ付け不
良検査にまったく対応できない。残留イオン濃度も比較
例1,2では90.115 μgNa(J/5qinc
hと顕著に多いことかわかる。また比較例3ては本発明
に従った有機酸を配合しであるか、リン系のエステル類
を添加していないために、有機酸のはんだ付け能力だけ
では、はんだ付け状態かまったく合格基準値に達してい
ない。しかし、リン系のエステル類を添加した実施例1
および2てはハロゲンを含んでいないにも関わらずはん
だ付け率は従来のロジンタイプのものを上回り、飛躍的
な効果か現われ、はんだは100%揚かっている。
および従来タイプ(比較例1〜3)の組成および試験結
果を第1表に示す。比較例1.2では試験基板の条件が
厳しいにも関わらず、67または94%のはんだ付け率
であり、良好なはんだ付け性を示しているか、従来のロ
ジンタイプであるのて基板にはロジンか大量に存在して
おり、洗浄なしてはチエッカ−ピンによるはんだ付け不
良検査にまったく対応できない。残留イオン濃度も比較
例1,2では90.115 μgNa(J/5qinc
hと顕著に多いことかわかる。また比較例3ては本発明
に従った有機酸を配合しであるか、リン系のエステル類
を添加していないために、有機酸のはんだ付け能力だけ
では、はんだ付け状態かまったく合格基準値に達してい
ない。しかし、リン系のエステル類を添加した実施例1
および2てはハロゲンを含んでいないにも関わらずはん
だ付け率は従来のロジンタイプのものを上回り、飛躍的
な効果か現われ、はんだは100%揚かっている。
また、残留イオン濃度も実施例1.2は13および91
1 g / Na(J / sq i nchてあって
MIL規格の151t g /NaCf/sq 1nc
h以下を満足している。
1 g / Na(J / sq i nchてあって
MIL規格の151t g /NaCf/sq 1nc
h以下を満足している。
(発明の効果)
本発明のはんだ付け用フラックスを使用することにより
、はんだ付け性か飛躍的に向上するばかりか、残渣かほ
とんとないために、フロンで洗浄する必要かなく、チエ
ッカ−ビンでのはんだ付け不良検査において全く支障か
おこらない。本発明のフラックスはこれらから優れた特
徴を有するために、現在環境問題から生じてきているフ
ロン規制に対応でき、洗浄に関わるコストダウンにつな
がり、はんだ付け不良検査かすみやかに行なえることか
ら、著しく生産性を向上させることかできる。
、はんだ付け性か飛躍的に向上するばかりか、残渣かほ
とんとないために、フロンで洗浄する必要かなく、チエ
ッカ−ビンでのはんだ付け不良検査において全く支障か
おこらない。本発明のフラックスはこれらから優れた特
徴を有するために、現在環境問題から生じてきているフ
ロン規制に対応でき、洗浄に関わるコストダウンにつな
がり、はんだ付け不良検査かすみやかに行なえることか
ら、著しく生産性を向上させることかできる。
第1図ははんだ付け用フラックスの性能の合否基準を示
す図である。 (ほか3名) くロ ミ石 トζくロミ石 手続補正書 平成3年1月9日
す図である。 (ほか3名) くロ ミ石 トζくロミ石 手続補正書 平成3年1月9日
Claims (1)
- 二塩基性カルボン酸、オキシ酸、およびケトカルボン
酸のうちの一つまたはそれ以上と、リン酸エステル、亜
リン酸エステル、および次亜リン酸エステルのうちの一
つまたはそれ以上を含有することを特徴とするはんだ付
け用フラックス。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2263767A JPH07121468B2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | はんだ付け用フラックス |
US07/719,504 US5131962A (en) | 1990-10-03 | 1991-06-24 | Low-residual type soldering flux |
KR1019910011319A KR920007738A (ko) | 1990-10-03 | 1991-07-04 | 저잔사 타잎 납땜 플럭스 |
GB9119887A GB2250754B (en) | 1990-10-03 | 1991-09-18 | Low-residual type soldering flux |
DE4132545A DE4132545A1 (de) | 1990-10-03 | 1991-09-30 | Loet-flussmittel vom rueckstandsarmen typ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2263767A JPH07121468B2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | はんだ付け用フラックス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04143094A true JPH04143094A (ja) | 1992-05-18 |
JPH07121468B2 JPH07121468B2 (ja) | 1995-12-25 |
Family
ID=17394001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2263767A Expired - Lifetime JPH07121468B2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | はんだ付け用フラックス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5131962A (ja) |
JP (1) | JPH07121468B2 (ja) |
KR (1) | KR920007738A (ja) |
DE (1) | DE4132545A1 (ja) |
GB (1) | GB2250754B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009242716A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2020082106A (ja) * | 2018-11-19 | 2020-06-04 | 株式会社タムラ製作所 | 無残渣フラックス組成物及びソルダペースト |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5297721A (en) * | 1992-11-19 | 1994-03-29 | Fry's Metals, Inc. | No-clean soldering flux and method using the same |
EP0619162A3 (en) * | 1993-04-05 | 1995-12-27 | Takeda Chemical Industries Ltd | Soft soldering fluid. |
US5417771A (en) * | 1994-02-16 | 1995-05-23 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Soldering flux |
US5571340A (en) * | 1994-09-09 | 1996-11-05 | Fry's Metals, Inc. | Rosin-free, low VOC, no-clean soldering flux and method using the same |
US6059894A (en) * | 1998-04-08 | 2000-05-09 | Hewlett-Packard Company | High temperature flip chip joining flux that obviates the cleaning process |
US20070284412A1 (en) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Prakash Anna M | Solder flux composition |
US7780801B2 (en) * | 2006-07-26 | 2010-08-24 | International Business Machines Corporation | Flux composition and process for use thereof |
JP5411503B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2014-02-12 | パナソニック株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58179562A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-10-20 | アルフア・メタルズ・インコ−ポレイテツド | はんだ付方法とはんだ付用フラツクス組成物 |
JPS61242790A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-29 | Asahi Kagaku Kenkyusho:Kk | 半田付け用フラツクス |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2493372A (en) * | 1946-11-08 | 1950-01-03 | Harold R Williams | Brazing flux composition |
US2927049A (en) * | 1956-12-27 | 1960-03-01 | Eutectic Welding Alloys | Fluxing method and composition |
GB1458351A (en) * | 1972-12-06 | 1976-12-15 | Jacobs N L | Fluxes |
GB1550648A (en) * | 1976-06-11 | 1979-08-15 | Multicore Solders Ltd | Soft soldering |
GB1577519A (en) * | 1976-11-25 | 1980-10-22 | Multicore Solders Ltd | Soft soldering |
US4180419A (en) * | 1978-05-23 | 1979-12-25 | M. W. Dunton Company | Solder flux |
GB1594804A (en) * | 1978-05-23 | 1981-08-05 | Multicore Solders Ltd | Soft soldering |
US4342607A (en) * | 1981-01-05 | 1982-08-03 | Western Electric Company, Inc. | Solder flux |
US5011546A (en) * | 1990-04-12 | 1991-04-30 | International Business Machines Corporation | Water soluble solder flux and paste |
US5004509A (en) * | 1990-05-04 | 1991-04-02 | Delco Electronics Corporation | Low residue soldering flux |
-
1990
- 1990-10-03 JP JP2263767A patent/JPH07121468B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-06-24 US US07/719,504 patent/US5131962A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-04 KR KR1019910011319A patent/KR920007738A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-09-18 GB GB9119887A patent/GB2250754B/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-30 DE DE4132545A patent/DE4132545A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58179562A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-10-20 | アルフア・メタルズ・インコ−ポレイテツド | はんだ付方法とはんだ付用フラツクス組成物 |
JPS61242790A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-29 | Asahi Kagaku Kenkyusho:Kk | 半田付け用フラツクス |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009242716A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2020082106A (ja) * | 2018-11-19 | 2020-06-04 | 株式会社タムラ製作所 | 無残渣フラックス組成物及びソルダペースト |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2250754B (en) | 1994-06-15 |
US5131962A (en) | 1992-07-21 |
JPH07121468B2 (ja) | 1995-12-25 |
GB2250754A (en) | 1992-06-17 |
DE4132545A1 (de) | 1992-04-16 |
KR920007738A (ko) | 1992-05-27 |
GB9119887D0 (en) | 1991-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4854164B2 (ja) | カチオン性界面活性剤を含むろう接用フラックス | |
EP0668808B1 (en) | No-clean soldering flux and method using the same | |
JP6243792B2 (ja) | はんだが固化された回路基板の製造方法、電子部品が搭載された回路基板の製造方法、及び、フラックス用洗浄剤組成物 | |
CN101157168A (zh) | 无铅焊料丝用松香型无卤素免清洗助焊剂 | |
JP2008062252A (ja) | はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物 | |
KR960004341B1 (ko) | 유기산을 포함하는 저잔류물 납땜 페이스트 | |
US5443660A (en) | Water-based no-clean flux formulation | |
JPH04143094A (ja) | はんだ付け用フラックス | |
JPH04351288A (ja) | はんだ付け用フラックス及びクリームはんだ | |
US20070284412A1 (en) | Solder flux composition | |
JP5691598B2 (ja) | フラックスおよび電気的接続構造の形成方法 | |
JP3368502B2 (ja) | 洗浄不要かつ低残存性の、揮発性有機化合物を含まないハンダ付けフラツクス溶液および使用方法 | |
JP5209825B2 (ja) | はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物 | |
JP2008062242A (ja) | はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物 | |
JPH05212584A (ja) | ソルダーペースト | |
KR101947827B1 (ko) | 땜납용 플럭스 조성물 | |
CN116252014B (zh) | 一种喷锡助焊剂及其制备方法 | |
RU2463144C2 (ru) | Флюс для низкотемпературной пайки | |
JPH05318170A (ja) | 無洗浄クリーム半田 | |
Sorokina et al. | Influence of No-Clean Flux on The Corrosivity of Copper After Reflow | |
JPH07185882A (ja) | クリームはんだ用フラックス | |
JPH11179589A (ja) | フラックス | |
JP5604374B2 (ja) | はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物 | |
JPH05318169A (ja) | 無洗浄クリーム半田 | |
JP2009248189A (ja) | 半田コテ先チップ侵食防止剤 |