JPH04141838A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光記録媒体に関する。詳しくは集光したレーザ
ー光を照射することにより光学的に書き込み、読取り及
び／又は消去が可能である光記録媒体に関し、さらに詳
しくはレーザー光の入射表面が帯電防止性能と表面硬度
性能を合わせ持ち、静電気によるゴミの付着、傷等によ
る記録特性の劣化のない光記録媒体に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題］プラス
チック基板からなる光記録媒体であって、例えば光ディ
スクの場合、ディスクドライブを用いて３６００ｒｐｍ
で記録、再生、消去を行なうと光デイスク基板が空気と
の摩擦により静電気を発生、蓄積し、光デイスク基板表
面にごみ、はこりが付着する。これがレーザー光線を妨
げ光量が変化することにより記号エラーが生じる。

また基板表面に生じた傷も同様に記録特性に悪影響を及
ぼす。このため基板のレーザー光の入射表面を帯電防止
処理又はハードコート処理する検討が行なわれてきた。

一般にプラスチック成形品の帯電防止には、プラスチッ
ク中に帯電防止剤を練り込む方法、プラスチック成形品
の表面に帯電防止剤を塗イする方法がある。しかしなが
ら、これらの勇名て光ディスクに帯電防止処理した場合
、例えｔ：８０’Ｃ，８０％ＲＨの条件下で耐久テスト
を行なう２光デイスク基板の表面に帯電防止剤が凝集析
Ｈして斑点（ブリード）を住じ使用不能になっ７しまう
と言う欠点があった。この欠点を回避むせる方法として
光デイスク基板の外表面に透り導電体薄膜を設ける方法
が特開昭６３−１６００３周公報に提案されている。こ
の方法ではブリートの欠点は解決できるものの高真空中
で真空蒸名法又はスパッタリング法により薄膜を設ける
Ｃで生産性に劣ること、また薄膜が数１０００人と非常
に薄いので光デイスク基板表面に傷が付きゃすいという
欠点を有する。

またプラスチック成形品のハードコートは一般的に熱硬
化によるオルガノシロキサン系樹脂又はＵＶ硬化による
ＵＶ硬化系樹脂を用いて行なわれる。これらを用いて光
ディスクにハードコートした場合、確かに傷は付きにく
くなり傷にょる光ディスクの特性の低下は防止できるも
のの、静電気の発生、蓄積によるごみ、はこりの付着を
防ぐことは非常に困難である。

このため、帯電防止性と表面硬度性の両方の特性を満た
す材料が望まれる。さらに光ディスクに使用する場合、
厳しい条件の耐久試験（例えば８５℃、８５％ＲＨで２
０００時間）でもこの両方の特性が低下してはならない
という重要な課題がある。ところが、帯電防止性、表面
硬度性、及びその耐久性は相反するものであり、例えば
帯電防止性能を上げるために帯電防止剤を添加しすぎる
と、耐久試験で基板表面にブリードが生じ、また表面硬
度も低下してしまう。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究の結果、帯
電防止性と表面硬度性の両方の特性を満たし、基板表面
へのごみ、はこりの付着、傷付きをなくした光記録媒体
を見出し、本発明を完成するに到った。

即ち、本発明は、基板上に、レーザー光にょる情報の書
き込み、読取り及び／又は消去が可能な記録層を有する
光記録媒体において、基板のレーザー光の入射表面が帯
電防止性能と表面硬度性能を合わせもつことを特徴とす
る光記録媒体を提供するものである。

特に、本発明においては、基板のレーザー光の入射表面
が表面固有抵抗値ｉ　ｘｉｏ＋’Ω以下の帯電防止性能
、及びＡＳＴＭ　Ｄ　１０４４にて定めるヘイズ硬度１
０以下の表面硬度性能を有するものが好ましい。

このような特性を有する本発明の光記録媒体は、基板の
レーザー光の入射表面に透明導電剤を分散させたハード
コート剤をコーティングし、熱又は光で硬化させて薄膜
を形成することにより得られる。

本発明に用いられる透明導電剤としては、Ｉｎ。

Ｔｉ、　Ｓｎ、　Ｎｂ等の酸化物又は窒化物等が挙げら
れる。

また本発明に用いられるハードコート剤は、紫外線硬化
樹脂であり、その成分は、テトラヒドロフルフリ−ルア
クリレート、２−エチルへキシルアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート等のモノマー及び／
又はポリオールポリアクリレート、ポリエステルアクリ
レート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート
等のオリゴマー及び／又は２−ジメチルアミノエチルベ
ンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の光
増感剤及び１〜ヒドロキシシクロへキシル−フェニルケ
トン、ベンゾイン等の光開始剤からなる。

ハードコート剤中の透明導電剤の分散量は５〜４０重量
％が好ましい。

〔作　用〕

本発明では、光記録媒体のレーザー光の入射表面に上記
のような処理を施した結果、表面にごみ、はこりが付着
したり傷が付いたりすることがなく、光記録媒体の特性
が低下しな（なった、また耐久試験（例えば６ｏ″Ｃ，
９０％ＲＨテ２０００時間後）でも表面にブリードなど
の欠陥を生じることなく、表面固有抵抗値、ヘイズ硬度
が低下することもないため、長期安定性にも優れている
。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ 第１図は本発明の実施例における光記録媒体の断面図を
示すものである。第１図において、ｌはプラスチック基
板であり、ポリメチルメタクリレート（Ｐ？ＩＭＡ）や
ポリカーボネート（ＰＣ）からなる。この基板は片面に
凹凸のプレピットや案内溝２が同心円あるいはうず巻状
に形成されている０反対側のレーザー光照射面３上に透
明導電剤の入ったハードコート剤（触媒化成製Ｎ３００
）を塗布、硬化させ薄膜４を形成する。

次にプレピットや案内溝２の上に記録［５をスパッタリ
ング法で設け、保護膜６としてＵＶ硬化樹脂を塗布、硬
化させる。さらに接着層７を介して２枚を対向させて貼
合わせると本発明の光記録媒体ができあがる。

この光記録媒体の表面固有抵抗値は３Ｘ１０’Ωであり
、ＡＳＴＭ　Ｄ　１０４４に定めるヘイズ硬度は４．５
であった。

また、６０°Ｃ１９０％ＲＨの耐久試験２０００時間後
でも表面固有抵抗値は８×１０ｑΩであり、ヘイズ硬度
は８であった。さらに外観上変化はまったく認められな
かった。

実施例２ 透明導電剤の入ったハードコート剤として、触媒化成製
Ｎ　−４００を用いる以外は実施例１と同様にして光記
録媒体を作った。この光記録媒体の表面固有抵抗値は５
．Ｘｌ０９Ωであり、ＡＳＴＭＤ　１０４４に定めるヘ
イズ硬度は３であった。

また、６０°Ｃ１９０％ＲＨの耐久試験２０００時間後
でも表面固有抵抗値はｌＸｌ０”Ωであり、ヘイズ硬度
は６であった。さらに外観上変化はまったく認められな
かった。

比較例１ 透明導電剤の入ったハードコート剤の替わりに帯電防止
剤コルコート５１５（コルコート製）を用る以外は実施
例１と同様にして光記録媒体を作った。この光記録媒体
の表面固有抵抗値は１×１０９Ωであり、高い帯電防止
性能を示したがＡＳＴＭ　Ｄ　１０４４に定めるヘイズ
硬度は５５で基板に使用したポリカーボネートと同じ硬
さであり、ハードコートの性能は有していなかった。

比較例２ 透明導電剤の入ったハードコート剤の替わりにハードコ
ート剤ＲＣ−５１２０（大日本インキ化学製）を用いる
以外は実施例１と同様にして光記録媒体を作った。この
光記録媒体の表面のＡＳＴＭＤ　１０４４に定めるヘイ
ズ硬度は２で非常に硬いものであり傷は付きにくかった
が表面固有抵抗値はｌＸｌ０”Ωであり帯電防止性能は
示さなかった。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明により光記録媒体のレーザ
ー光の入射表面に静電気によるごみ、はこりの付着と傷
付の両方がなくなり、光記録媒体の記録特性の低下はな
くなった。また耐久性にも優れていることから、実用上
問題のない光記録媒体を提供することができるようにな
った。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体の一実施例を示す断面図で
ある。 １：光デイスク基板 ２：プレピットや案内溝 ３：反対側のレーザー光照射面 ４：透明導電剤を分散させた表面硬化薄膜５：記録膜ま
たは反射膜 ６：保護膜 ７：接着層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザー光による情報の書き込み、読取
   り及び／又は消去が可能な記録層を有する光記録媒体に
   おいて、基板のレーザー光の入射表面が帯電防止性能と
   表面硬度性能を合わせもつことを特徴とする光記録媒体
   。 ２、基板のレーザー光の入射表面が表面固有抵抗値１×
   １０＾１＾０Ω以下の帯電防止性能、及びＡＳＴＭＤ１
   ０４４にて定めるヘイズ硬度１０以下の表面硬度性能を
   有する請求項１記載の光記録媒体。 ３、基板のレーザー光の入射表面に透明導電剤を分散さ
   せたハードコート剤をコーティングし、熱又は光で硬化
   させて薄膜を形成せしめてなる請求項１又は２記載の光
   記録媒体。