JPH04133367A - ZnSe青色発光素子の製造方法 - Google Patents
ZnSe青色発光素子の製造方法Info
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- JPH04133367A JPH04133367A JP2255923A JP25592390A JPH04133367A JP H04133367 A JPH04133367 A JP H04133367A JP 2255923 A JP2255923 A JP 2255923A JP 25592390 A JP25592390 A JP 25592390A JP H04133367 A JPH04133367 A JP H04133367A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 65
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 40
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 abstract description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 abstract description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000009298 Trigla lyra Species 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011686 zinc sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000009529 zinc sulphate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/024—Group 12/16 materials
- H01L21/02409—Selenides
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02551—Group 12/16 materials
- H01L21/0256—Selenides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02579—P-type
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02623—Liquid deposition
- H01L21/02628—Liquid deposition using solutions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
- H01L33/0083—Processes for devices with an active region comprising only II-VI compounds
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はZnSeを用いた青色発光素子ダイオードの製
造方法に関する。
造方法に関する。
【 従 来 の 技 術 】ダイオードと
して赤外、赤、橙、黄、緑などの色のものは既に製造、
使用実績がある。ところが青色のダイオードは未だに実
用化されていない。 これは主に材料的な制約による。青色LEDの材料とし
て求められる一般的な条件は、 (1)バンドギャップが2.5eV以上であること(2
)直接遷移型であること (3)pn接合が容易にできること (4)大型の基板が得易いこと (5)デバイスプロセスが簡単なこと などである。このような条件の何れかを満足するものと
して、GaN N SIC、ZnSet ZnS %
GaAIN NZnSSe等が挙がっている。 これ等のうちZnSeはバンドギャップが2.7eVで
あるし直接遷移型で有望な半導体である。しかし欠陥の
少ない大型のバルク単結晶を作ることが難しい、p型Z
nSeができない、などの難点がある。 バルク単結晶を製造する方法としては高圧ブリッジマン
法、昇華法、ヨウ素輸送法、溶液成長法、パイパー法な
ど数多くの方法が提案されている。ZnSe単結晶を作
るのが難しいのは、これが高温で激しく昇華するために
高い圧力を加えながら高温にしなければならないという
ところにある。50at−以上の圧力を加えて1520
℃以上に加熱しなければ融液とならない。 本発明者らは基板結晶としては昇華法でZnSeを作る
方法の改良を提案している。これは中間に細頚部をもつ
石英アンプルの一方の空間にZnSeを入れ温度勾配の
ある炉の中で少しずつZnSeを昇華させて細頚部を越
え低温部に再結晶させるものである。こうして得たZn
Se単結晶は高抵抗であるが、これを溶融亜鉛中で熱処
理することにより低抵抗のn型単結晶を得る事ができる
。これによりかなり大きいn型のZnSeのバルク単結
晶を作ることができる。 F 、Takeda 、A 、Masuda 、S 、
K ish lda 、に、Matsuura& I
、丁suruml:Report of the Fa
culty of Englneerlng、T。 ttorl 11nlverslty、vol、I3.
p5B(+982)しかしなお大きな困難がある。p型
ZnSeができないということである。この点に対して
は未だに有効な解決がなされていない。基板としてn型
ZnSeを使うとしてもこの上にp型のZnSeの単結
晶薄膜を作ることができなければpn接合ができないの
で青色発光ダイオードを作ることができない。 p型のZnSeを作るために、これまで種々の方法(溶
液成長法、気相成長法)などが試みられてきた。 蒸気圧制御温度変化法(TDM−CvP)によってp型
ZnSeのバルク単結晶を作ったと言う報告がある。 一定の亜鉛蒸気圧下にあるセレン溶液の上部にZnSe
原料を置きLlをp型ドーパントとして加え1050’
CN 7.2atI11で成長させる。これはHall
測定番こよりp型であることを確認したとある。 J、NIshlzawa & R,5uzukl:J、
Apl)1.Phys、5!l(&)、15(1986
)p225G しかしこの方法は現在までのところ再現性のある追試結
果の報告は得られていない。 引き続いて何らかの基板の上に薄膜のp型ZnSeを作
るという試みがなされる。特に最近はMOCVD法、M
BE法などといった気相成長法による研究が盛んである
。 K Aklmoto T、MIyajlma & Y、
Morj:J、Crystal Grovlol(19
9G)+009−1012に、Aklmoto T、M
Iyajlma & Y、Morl:Japan、J、
Appl、Phys 、vo I 、28 、No 、
4 、 (1989)L531−534これらはn型G
aAs基板の上に、GaドープZnSe (n型)、O
ドープZnSe (p型)をMBE法によって成長させ
たものである。バルクのZnSeに良いものが無いので
GaAsを基板に使っている。0はアクセプタとして機
能していると主張している。これは240℃での成長で
ある。 M、Miglta、A、Ta1ke、M、5hiIkl
& H,Yamamoto:J、Crystal G
rowth 101(1980)p835これはn型G
aAs基板の上に/ンドープZnSe、 NドープZn
SeとをMOCVD法により成長させたものである。成
長温度は250〜450℃である。ノンドープのものが
n型になるのは塩素が混入しているためであろうと推測
している。 これらの気相成長ではZnSeの融点よりもかなり低い
温度(300〜400℃)での成長が可能であり、欠陥
や不要な不純物の混入を少なくできるし、基板としてG
aAミを使うことができる。 しかしこれらの方法によっても未だ十分良好なp型Zn
Seが得られておらず、従って現在のところ室温で満足
に使えるZnSeを用いた青色発光ダイオードが得られ
ていない。 これらの手法と違って、電気化学的な方法でp型ZnS
e多結晶を成長させたという報告がある。 K、SIngh & J、P、Ral:Phys、5t
at、sol、(a)99,257(1987)p25
7 これはT I板(+、3 X 1.3cm2)の片面と
側面を絶縁物で覆い一面のみを露出し、 ZnSO4+5e02 の溶液に浸漬し、4時間電流を流して、TI板の上にZ
nSeの多結晶を厚さ5μm成長させたものである。こ
れはTI/ p型ZnSeであってダイオード構造をな
していない。これとPt電極を電極として、Zn5O,
+ K I + I 2 溶液中に漬けて、光起電力、容量等を諌I定しX線測定
もしている。これらの測定からこれはp型で多結晶のZ
nSeであること、かなりの光起電力のあることが分か
るとしているが、p型の生成原因については特に明らか
にされていない。これは受光素子としての応用を狙って
いる。これは電気化学的堆積法によるZnSeの成長で
あるが、基板にZnSeを使っていないのでpn接合が
できす、ダイオードになっていない。発光もしない。
して赤外、赤、橙、黄、緑などの色のものは既に製造、
使用実績がある。ところが青色のダイオードは未だに実
用化されていない。 これは主に材料的な制約による。青色LEDの材料とし
て求められる一般的な条件は、 (1)バンドギャップが2.5eV以上であること(2
)直接遷移型であること (3)pn接合が容易にできること (4)大型の基板が得易いこと (5)デバイスプロセスが簡単なこと などである。このような条件の何れかを満足するものと
して、GaN N SIC、ZnSet ZnS %
GaAIN NZnSSe等が挙がっている。 これ等のうちZnSeはバンドギャップが2.7eVで
あるし直接遷移型で有望な半導体である。しかし欠陥の
少ない大型のバルク単結晶を作ることが難しい、p型Z
nSeができない、などの難点がある。 バルク単結晶を製造する方法としては高圧ブリッジマン
法、昇華法、ヨウ素輸送法、溶液成長法、パイパー法な
ど数多くの方法が提案されている。ZnSe単結晶を作
るのが難しいのは、これが高温で激しく昇華するために
高い圧力を加えながら高温にしなければならないという
ところにある。50at−以上の圧力を加えて1520
℃以上に加熱しなければ融液とならない。 本発明者らは基板結晶としては昇華法でZnSeを作る
方法の改良を提案している。これは中間に細頚部をもつ
石英アンプルの一方の空間にZnSeを入れ温度勾配の
ある炉の中で少しずつZnSeを昇華させて細頚部を越
え低温部に再結晶させるものである。こうして得たZn
Se単結晶は高抵抗であるが、これを溶融亜鉛中で熱処
理することにより低抵抗のn型単結晶を得る事ができる
。これによりかなり大きいn型のZnSeのバルク単結
晶を作ることができる。 F 、Takeda 、A 、Masuda 、S 、
K ish lda 、に、Matsuura& I
、丁suruml:Report of the Fa
culty of Englneerlng、T。 ttorl 11nlverslty、vol、I3.
p5B(+982)しかしなお大きな困難がある。p型
ZnSeができないということである。この点に対して
は未だに有効な解決がなされていない。基板としてn型
ZnSeを使うとしてもこの上にp型のZnSeの単結
晶薄膜を作ることができなければpn接合ができないの
で青色発光ダイオードを作ることができない。 p型のZnSeを作るために、これまで種々の方法(溶
液成長法、気相成長法)などが試みられてきた。 蒸気圧制御温度変化法(TDM−CvP)によってp型
ZnSeのバルク単結晶を作ったと言う報告がある。 一定の亜鉛蒸気圧下にあるセレン溶液の上部にZnSe
原料を置きLlをp型ドーパントとして加え1050’
CN 7.2atI11で成長させる。これはHall
測定番こよりp型であることを確認したとある。 J、NIshlzawa & R,5uzukl:J、
Apl)1.Phys、5!l(&)、15(1986
)p225G しかしこの方法は現在までのところ再現性のある追試結
果の報告は得られていない。 引き続いて何らかの基板の上に薄膜のp型ZnSeを作
るという試みがなされる。特に最近はMOCVD法、M
BE法などといった気相成長法による研究が盛んである
。 K Aklmoto T、MIyajlma & Y、
Morj:J、Crystal Grovlol(19
9G)+009−1012に、Aklmoto T、M
Iyajlma & Y、Morl:Japan、J、
Appl、Phys 、vo I 、28 、No 、
4 、 (1989)L531−534これらはn型G
aAs基板の上に、GaドープZnSe (n型)、O
ドープZnSe (p型)をMBE法によって成長させ
たものである。バルクのZnSeに良いものが無いので
GaAsを基板に使っている。0はアクセプタとして機
能していると主張している。これは240℃での成長で
ある。 M、Miglta、A、Ta1ke、M、5hiIkl
& H,Yamamoto:J、Crystal G
rowth 101(1980)p835これはn型G
aAs基板の上に/ンドープZnSe、 NドープZn
SeとをMOCVD法により成長させたものである。成
長温度は250〜450℃である。ノンドープのものが
n型になるのは塩素が混入しているためであろうと推測
している。 これらの気相成長ではZnSeの融点よりもかなり低い
温度(300〜400℃)での成長が可能であり、欠陥
や不要な不純物の混入を少なくできるし、基板としてG
aAミを使うことができる。 しかしこれらの方法によっても未だ十分良好なp型Zn
Seが得られておらず、従って現在のところ室温で満足
に使えるZnSeを用いた青色発光ダイオードが得られ
ていない。 これらの手法と違って、電気化学的な方法でp型ZnS
e多結晶を成長させたという報告がある。 K、SIngh & J、P、Ral:Phys、5t
at、sol、(a)99,257(1987)p25
7 これはT I板(+、3 X 1.3cm2)の片面と
側面を絶縁物で覆い一面のみを露出し、 ZnSO4+5e02 の溶液に浸漬し、4時間電流を流して、TI板の上にZ
nSeの多結晶を厚さ5μm成長させたものである。こ
れはTI/ p型ZnSeであってダイオード構造をな
していない。これとPt電極を電極として、Zn5O,
+ K I + I 2 溶液中に漬けて、光起電力、容量等を諌I定しX線測定
もしている。これらの測定からこれはp型で多結晶のZ
nSeであること、かなりの光起電力のあることが分か
るとしているが、p型の生成原因については特に明らか
にされていない。これは受光素子としての応用を狙って
いる。これは電気化学的堆積法によるZnSeの成長で
あるが、基板にZnSeを使っていないのでpn接合が
できす、ダイオードになっていない。発光もしない。
MOCVD法、MBE法でn型ZnSeを成長させた場
合は成長温度が300〜400°Cであり融点よりかな
り低いがそれでもかなりの高温であるから欠陥が多く不
純物の混入も多い。さらに従来の方法では高圧、高真空
、高温といった条件が必要であり装置が大掛かりになる
という問題があった。 欠陥や不純物の少ないn型ZnSe薄膜単結晶を低温で
しかも簡単な装置によって成長させpn接合を持つ発光
素子を製造する方法を提供することが本発明の目的であ
る。
合は成長温度が300〜400°Cであり融点よりかな
り低いがそれでもかなりの高温であるから欠陥が多く不
純物の混入も多い。さらに従来の方法では高圧、高真空
、高温といった条件が必要であり装置が大掛かりになる
という問題があった。 欠陥や不純物の少ないn型ZnSe薄膜単結晶を低温で
しかも簡単な装置によって成長させpn接合を持つ発光
素子を製造する方法を提供することが本発明の目的であ
る。
本発明のZnSeの製造方法は、常温〜70℃のZnと
Seとアクセプタ元素を含む水溶液中で、低抵抗n型Z
nSe単結晶基板を陰極、Znを陽極とし、陽極と陰極
の間に電流を流すことによりn型ZnSe基板に上にn
型ZnSe薄膜を堆積するものである。つまり本発明は
電気化学的堆積法(Electrochemlcal
Deposltlon)によってn型ZnSe基板の上
にn型ZnSe層を形成するものである。この方法によ
ってpn接合ができるのでn型基板とp型層の上にそれ
ぞれ電極を形成して発光ダイオードとすることができる
。
Seとアクセプタ元素を含む水溶液中で、低抵抗n型Z
nSe単結晶基板を陰極、Znを陽極とし、陽極と陰極
の間に電流を流すことによりn型ZnSe基板に上にn
型ZnSe薄膜を堆積するものである。つまり本発明は
電気化学的堆積法(Electrochemlcal
Deposltlon)によってn型ZnSe基板の上
にn型ZnSe層を形成するものである。この方法によ
ってpn接合ができるのでn型基板とp型層の上にそれ
ぞれ電極を形成して発光ダイオードとすることができる
。
本発明はZnイオン、Seイオン、アクセプタ元素を含
む水溶液中に低抵抗ZnSe単結晶基板を浸しこれを陰
極、亜鉛を陽極として電流を流すことによって基板上に
n型ZnSeを積層するものである。 水溶液中に5eSO3が陽イオンとして、亜鉛が陽イオ
ンとして溶けている。p型ドーパントもイオンの形で存
在する。電極間に電圧が掛かっているので電界により5
eSOsイオンが陰極であるZnSeに接触し電子を受
は取って還元され、Seイオンが解離され溶液中のZn
イオンとSeイオンが電極上に結合堆積する。ZnSe
の結晶成長が水中で行われることになる。ドーパントも
微量であるが陰極の表面に到達しこれに付着する。この
ためにドーパントを含むZnSeが陰極の表面を覆うよ
うになる。 溶液の中での成長であるから、成長温度は数十℃で良い
。また高圧、高真空、高温などの条件が不要であるので
その装置も簡単である。
む水溶液中に低抵抗ZnSe単結晶基板を浸しこれを陰
極、亜鉛を陽極として電流を流すことによって基板上に
n型ZnSeを積層するものである。 水溶液中に5eSO3が陽イオンとして、亜鉛が陽イオ
ンとして溶けている。p型ドーパントもイオンの形で存
在する。電極間に電圧が掛かっているので電界により5
eSOsイオンが陰極であるZnSeに接触し電子を受
は取って還元され、Seイオンが解離され溶液中のZn
イオンとSeイオンが電極上に結合堆積する。ZnSe
の結晶成長が水中で行われることになる。ドーパントも
微量であるが陰極の表面に到達しこれに付着する。この
ためにドーパントを含むZnSeが陰極の表面を覆うよ
うになる。 溶液の中での成長であるから、成長温度は数十℃で良い
。また高圧、高真空、高温などの条件が不要であるので
その装置も簡単である。
第1図によって本発明の詳細な説明する。
この装置は、水溶液1を石英ビーカー2に入れ、亜鉛を
陽極3、n型ZnSeを陰極4として直流電源5によっ
て両極間に電流を流すようにしたものである。n型Zn
Se 4の上面にはガラス管8の下端がワニス7によっ
て接着しである。Pt線6がn型ZnSe 4に接続し
であるが、 Pt線はガラス管8によって囲まれている
ので溶液に接触しない。水溶液1は亜鉛、セレンとp型
不純物を含む水溶液である。 水溶液1の作製方法を説明する。まず Na2SO3” 7H20: Se: H2O=11.
3: 0.24: 60(vt)を混合し、50〜60
℃で約24時間攪拌して、5eS03を生成する。これ
は無色透明の液体である。そしてこの混合液の重量1に
対して、Na2−NTAを0.27、ZnCl2を0.
17、室温で混合した。 NTAというのはニトリロ三酢酸(nltrllotr
lacetie acid)でN(C112COOH)
+によって表される。■3ntaと書くこともある。N
a2−NTAは3つの水素の内二つをHaに置換したも
のである。N(CD2COONa)2(CH2COOH
)と書ける。これは亜鉛イオンZn”″が存在するとふ
たつのNaを置換して、N(C1(2COO)2Zn(
C12COOHI)となると考えられる。 このようにして得た水溶液1を石英ビーカー2に入れる
。亜鉛Znを陽極3、低抵抗n型ZnSe単結晶を陰極
4としてこの水溶液に浸し直流電源5をこれらの電極に
つないだ。 低抵抗n型ZnSe単結晶4の大きさは3■麿×3■履
×1腸■である。これは前述した昇華法及び溶融亜鉛処
理法で作ったものである。Pt線6とZnSe単結晶は
次のようにして接続した。先ずZnSe単結晶の一方の
面にInを付け、H2雰囲気中で400℃に保ち数分間
熱処理しオーミック接続電極であるIn電極16を得る
。これにPt線6をAgペースト17によって接続した
。 ワニス7、ガラス管8はこの接続点を水溶液がら保護す
るためのものである。水溶液はpH=11で強アルカリ
であるから接続点を腐蝕する惧れがあるのである。 水溶液の温度を室温〜70℃、好ましくは60℃に保ち
、電圧0.2〜0.5V、電流20μ八〜50μAを両
極間に2時間通電した。通電時間は1〜5時間であって
も良い。所望の膜厚によって加減すれば良い。 この際、電解液としては、Ll(OH)を0.1 g、
NH3(30vt%)を3cc程度追加するようにし
ても良い。 こういう電気化学的堆積法によりn型ZnSe基板4の
上にp型ZnSe層が堆積する。こうしてpn接合を有
するZnSeができる。p型ZnSeの上にAu電極1
oを0.9 l1taφ程度の大きさに真空蒸着により
形成し、第2図に示すような発光素子を作製した。 この発光素子は第3図に示すような整流特性を持つ。第
3図において横軸は電圧、縦軸は電流の対数である。n
全2で示す直線はダイオードに流れる電流をexp f
qV/nkT )であられした場合の係数nが2.15
である場合の電流−電圧特性線である。 n=2は理想的なダイオード特性を表す。このダイオー
ドは電圧が低いときn全2であるので良も1ダイオード
特性を示す事が分かる。 3θOKにおいて、電流60 mA、電圧4.8■を流
したところ第4図に示すような発光スペクトルが得られ
た。横軸は光のエネルギー、縦軸は発光強度である(任
意目盛り)。波長4G3 nll1付近(2,6Rev
)にピークを持つ青色発光である。全半値幅は52me
Yであった。 この青色発光の起源として、 ■バンド間直接遷移 ■自由励起子再結合 ■ドナー電子O自由正孔再結合 ■自由電子・アクセプタ正孔再結合 の4つの場合が考えられる。 エネルギーギャップE□= 2.713 evドナーレ
ベル Ed=0.02 eVアクセプタレベル
E、 =0.11 eVと仮定して発光スペクトルを
計算してこの結果と照らし合わせたが第4図の発光スペ
クトルは何れの計算結果とも合致しなかった。しかしこ
れは自己吸収により高エネルギー側のスペクトルが抑制
された自由励起子による発光ではないかと推量される。 p型ドーパントが一体何であるのかは未だ明らかでない
がNaあるいはLlが効いているものと推測される。 また電気化学的堆積法でできたZnSe薄膜は第3図の
ようなダイオード特性及び第5図のI−V特性があるの
でp型と推定される。
陽極3、n型ZnSeを陰極4として直流電源5によっ
て両極間に電流を流すようにしたものである。n型Zn
Se 4の上面にはガラス管8の下端がワニス7によっ
て接着しである。Pt線6がn型ZnSe 4に接続し
であるが、 Pt線はガラス管8によって囲まれている
ので溶液に接触しない。水溶液1は亜鉛、セレンとp型
不純物を含む水溶液である。 水溶液1の作製方法を説明する。まず Na2SO3” 7H20: Se: H2O=11.
3: 0.24: 60(vt)を混合し、50〜60
℃で約24時間攪拌して、5eS03を生成する。これ
は無色透明の液体である。そしてこの混合液の重量1に
対して、Na2−NTAを0.27、ZnCl2を0.
17、室温で混合した。 NTAというのはニトリロ三酢酸(nltrllotr
lacetie acid)でN(C112COOH)
+によって表される。■3ntaと書くこともある。N
a2−NTAは3つの水素の内二つをHaに置換したも
のである。N(CD2COONa)2(CH2COOH
)と書ける。これは亜鉛イオンZn”″が存在するとふ
たつのNaを置換して、N(C1(2COO)2Zn(
C12COOHI)となると考えられる。 このようにして得た水溶液1を石英ビーカー2に入れる
。亜鉛Znを陽極3、低抵抗n型ZnSe単結晶を陰極
4としてこの水溶液に浸し直流電源5をこれらの電極に
つないだ。 低抵抗n型ZnSe単結晶4の大きさは3■麿×3■履
×1腸■である。これは前述した昇華法及び溶融亜鉛処
理法で作ったものである。Pt線6とZnSe単結晶は
次のようにして接続した。先ずZnSe単結晶の一方の
面にInを付け、H2雰囲気中で400℃に保ち数分間
熱処理しオーミック接続電極であるIn電極16を得る
。これにPt線6をAgペースト17によって接続した
。 ワニス7、ガラス管8はこの接続点を水溶液がら保護す
るためのものである。水溶液はpH=11で強アルカリ
であるから接続点を腐蝕する惧れがあるのである。 水溶液の温度を室温〜70℃、好ましくは60℃に保ち
、電圧0.2〜0.5V、電流20μ八〜50μAを両
極間に2時間通電した。通電時間は1〜5時間であって
も良い。所望の膜厚によって加減すれば良い。 この際、電解液としては、Ll(OH)を0.1 g、
NH3(30vt%)を3cc程度追加するようにし
ても良い。 こういう電気化学的堆積法によりn型ZnSe基板4の
上にp型ZnSe層が堆積する。こうしてpn接合を有
するZnSeができる。p型ZnSeの上にAu電極1
oを0.9 l1taφ程度の大きさに真空蒸着により
形成し、第2図に示すような発光素子を作製した。 この発光素子は第3図に示すような整流特性を持つ。第
3図において横軸は電圧、縦軸は電流の対数である。n
全2で示す直線はダイオードに流れる電流をexp f
qV/nkT )であられした場合の係数nが2.15
である場合の電流−電圧特性線である。 n=2は理想的なダイオード特性を表す。このダイオー
ドは電圧が低いときn全2であるので良も1ダイオード
特性を示す事が分かる。 3θOKにおいて、電流60 mA、電圧4.8■を流
したところ第4図に示すような発光スペクトルが得られ
た。横軸は光のエネルギー、縦軸は発光強度である(任
意目盛り)。波長4G3 nll1付近(2,6Rev
)にピークを持つ青色発光である。全半値幅は52me
Yであった。 この青色発光の起源として、 ■バンド間直接遷移 ■自由励起子再結合 ■ドナー電子O自由正孔再結合 ■自由電子・アクセプタ正孔再結合 の4つの場合が考えられる。 エネルギーギャップE□= 2.713 evドナーレ
ベル Ed=0.02 eVアクセプタレベル
E、 =0.11 eVと仮定して発光スペクトルを
計算してこの結果と照らし合わせたが第4図の発光スペ
クトルは何れの計算結果とも合致しなかった。しかしこ
れは自己吸収により高エネルギー側のスペクトルが抑制
された自由励起子による発光ではないかと推量される。 p型ドーパントが一体何であるのかは未だ明らかでない
がNaあるいはLlが効いているものと推測される。 また電気化学的堆積法でできたZnSe薄膜は第3図の
ようなダイオード特性及び第5図のI−V特性があるの
でp型と推定される。
【 発 明 の 効 果 】本発明は、従
来良好なものが出来なかったp型ZnSeを電気化学的
堆積法によりn型ZnSeの上に数十℃という低温でし
かも簡略な装置で作ることができる。pn接合を有する
良好な青色発光素子が比較的容易に作製できる。
来良好なものが出来なかったp型ZnSeを電気化学的
堆積法によりn型ZnSeの上に数十℃という低温でし
かも簡略な装置で作ることができる。pn接合を有する
良好な青色発光素子が比較的容易に作製できる。
第1図は本発明の実施例にかかる方法を行うための装置
の概略断面図。 第2図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの断面図 第3図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの電圧−電流特性図。 第4図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの発光スペクトル図。 第S図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの電圧−電流特性図。横軸は電圧(V)、縦軸は電流
(mA)。 1・・・・・水溶液 211・・e・石英ビーカー 3・・・φ・亜鉛陽極 4@@Φ・・ZnSe単結晶陰極 5#拳・・・直流電源 6・Φ・・11Pt線 7・拳・・・ワニス 8・・・拳・ガラス管 8・・O・・In電極 10・・−・Au電極 第 図 直流電源5 第 図 第 3 ダイオード特性 図 1og(r偽)) J−J、 exp (ql//nkT)第 41
111 ダイオードの発光特性 1.50 1.70 1.90 2.10 2.30 2.507オトノエネ
ルギー 2.70 2.90 (eV)
の概略断面図。 第2図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの断面図 第3図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの電圧−電流特性図。 第4図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの発光スペクトル図。 第S図は本発明の方法によって作ったZnSeダイオー
ドの電圧−電流特性図。横軸は電圧(V)、縦軸は電流
(mA)。 1・・・・・水溶液 211・・e・石英ビーカー 3・・・φ・亜鉛陽極 4@@Φ・・ZnSe単結晶陰極 5#拳・・・直流電源 6・Φ・・11Pt線 7・拳・・・ワニス 8・・・拳・ガラス管 8・・O・・In電極 10・・−・Au電極 第 図 直流電源5 第 図 第 3 ダイオード特性 図 1og(r偽)) J−J、 exp (ql//nkT)第 41
111 ダイオードの発光特性 1.50 1.70 1.90 2.10 2.30 2.507オトノエネ
ルギー 2.70 2.90 (eV)
Claims (1)
- 常温〜70℃の亜鉛とセレンとアクセプタ元素を含む水
溶液中で、低抵抗n型ZnSe単結晶基板を陰極、Zn
を陽極とし、陽極と陰極の間に電流を流すことによりn
型ZnSe基板の上にp型ZnSe薄膜を堆積すること
を特徴とするZnSe青色発光素子の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25592390A JP2913808B2 (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | ZnSe青色発光素子の製造方法 |
DE69106646T DE69106646T2 (de) | 1990-09-25 | 1991-09-11 | Herstellungsverfahren für eine blaues Licht emittierende ZnSe-Vorrichtung. |
EP91308317A EP0478179B1 (en) | 1990-09-25 | 1991-09-11 | Method of producing a ZnSe blue light emitting device |
US07/765,425 US5192419A (en) | 1990-09-25 | 1991-09-25 | Method for producing a zinc selenide blue light emitting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25592390A JP2913808B2 (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | ZnSe青色発光素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04133367A true JPH04133367A (ja) | 1992-05-07 |
JP2913808B2 JP2913808B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=17285449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25592390A Expired - Lifetime JP2913808B2 (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | ZnSe青色発光素子の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5192419A (ja) |
EP (1) | EP0478179B1 (ja) |
JP (1) | JP2913808B2 (ja) |
DE (1) | DE69106646T2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7235819B2 (en) * | 1991-03-18 | 2007-06-26 | The Trustees Of Boston University | Semiconductor device having group III nitride buffer layer and growth layers |
DE69229265T2 (de) * | 1991-03-18 | 1999-09-23 | Univ Boston | Verfahren zur herstellung und dotierung hochisolierender dünner schichten aus monokristallinem galliumnitrid |
US5633192A (en) * | 1991-03-18 | 1997-05-27 | Boston University | Method for epitaxially growing gallium nitride layers |
US5804842A (en) * | 1995-06-20 | 1998-09-08 | Nec Research Institute, Inc. | Optically writing erasable conductive patterns at a bandgap-engineered heterojunction |
DE29511927U1 (de) * | 1995-07-24 | 1997-01-09 | Thera Ges Fuer Patente | Lichtpolymerisationsgerät |
US6503578B1 (en) | 2000-05-05 | 2003-01-07 | National Science Council | Method for preparing ZnSe thin films by ion-assisted continuous wave CO2 laser deposition |
HUE044106T2 (hu) | 2014-12-17 | 2019-09-30 | Novartis Ag | Újrahasználható lencseformázó szerszámok és eljárás azok használatára |
US10358739B2 (en) | 2016-12-15 | 2019-07-23 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Air Force | Heteroepitaxial hydrothermal crystal growth of zinc selenide |
CN114335447B (zh) * | 2021-12-28 | 2023-09-01 | 北京航空航天大学 | 一种提高锌负极性能的表面处理方法和应用 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4256544A (en) * | 1980-04-04 | 1981-03-17 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of making metal-chalcogenide photosensitive devices |
US4388483A (en) * | 1981-09-08 | 1983-06-14 | Monosolar, Inc. | Thin film heterojunction photovoltaic cells and methods of making the same |
US4626322A (en) * | 1983-08-01 | 1986-12-02 | Union Oil Company Of California | Photoelectrochemical preparation of a solid-state semiconductor photonic device |
US4536260A (en) * | 1984-05-14 | 1985-08-20 | University Of Guelph | Thin film cadmium selenide electrodeposited from selenosulphite solution |
FR2569427B1 (fr) * | 1984-08-23 | 1986-11-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de depot sur un substrat d'une couche mince d'un compose comportant au moins un constituant cationique et au moins un constituant anionique |
-
1990
- 1990-09-25 JP JP25592390A patent/JP2913808B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-09-11 DE DE69106646T patent/DE69106646T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-11 EP EP91308317A patent/EP0478179B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-25 US US07/765,425 patent/US5192419A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0478179A2 (en) | 1992-04-01 |
DE69106646D1 (de) | 1995-02-23 |
EP0478179A3 (en) | 1992-07-01 |
JP2913808B2 (ja) | 1999-06-28 |
DE69106646T2 (de) | 1995-08-03 |
US5192419A (en) | 1993-03-09 |
EP0478179B1 (en) | 1995-01-11 |
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