JPH04130634A - バンプ電極の形成方法 - Google Patents

バンプ電極の形成方法

Info

Publication number
JPH04130634A
JPH04130634A JP2252316A JP25231690A JPH04130634A JP H04130634 A JPH04130634 A JP H04130634A JP 2252316 A JP2252316 A JP 2252316A JP 25231690 A JP25231690 A JP 25231690A JP H04130634 A JPH04130634 A JP H04130634A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capillary
wire
ball
horizontal direction
bump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2252316A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2567512B2 (ja
Inventor
Hidekazu Konishi
小西 英一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP2252316A priority Critical patent/JP2567512B2/ja
Priority to US07/761,717 priority patent/US5172851A/en
Publication of JPH04130634A publication Critical patent/JPH04130634A/ja
Priority to US07/937,466 priority patent/US5299729A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2567512B2 publication Critical patent/JP2567512B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/113Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1133Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
    • H01L2224/1134Stud bumping, i.e. using a wire-bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ICチップなどに適用されるバンプ電極の
形成方法に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、半導体装置の実装方法において、多ビン化、薄型
化および微細化が進んでいる。これに対応する技術とし
て、メツキ処理によりバンプ電極を形成する方法がある
。しかし、メツキ処理によりバンプ電極を形成するため
には複雑なメツキ工程が必要であり、また形成できるバ
ンプ電極の高さに限界がある。そこで、このメツキ処理
によるバンプ電極の形成方法に代わるものとして、スタ
ッドバンプ法によるバンプ電極の形成方法がある(特開
昭63−304587 )。
以下、このスタッドバンプ法によるバンプ電極の形成方
法を説明する。
第3図(a)〜(elは従来のバンプ電極の形成方法を
示す工程順断面図である。
第3図(a)〜telにおいて、lはキャピラリ、2は
ワイヤ、3はボール、4はICチップ、5は電極パッド
、6は底部、7は頭頂部を示す。
第3図fatに示すように、キャピラリlの先端に導出
されたワイヤ2の先端を電気トーチなとて溶融すること
により、ボール3か形成される。
次に第3図(b)に示すように、ICチップ4上の電極
バッド5にキャピラリ1によりボール3を圧着し、底部
6を形成する。この際、形成した底部6とキャピラリ1
から導出されたワイヤ2とは繋がった状態となっている
次に第3図fc)および第3図(d)に示すように、底
部6とワイヤ2とが繋がった状態で、キャピラリ1をル
ープ状(矢印入方向)に移動させることにより、キャピ
ラリlの先端が底部6の上部近傍に移動される。
そして第3図telに示すように、キャピラリ1の先端
が底部6に押し当てられることにより、底部6から延び
たワイヤ2か切断され、ワイヤ2の切断部は底部6に圧
着されることにより、バンプ電極が形成される。底部6
上には、ワイヤ2による折り返し部分すなわち頭頂部7
か形成される。
このように形成された従来のバンプ電極を第4図fa1
. (b)に示す。
第4図(alに示すように、従来のバンプ電極は、キャ
ピラリlによりICチップ4の電極パッド5上にボール
3を圧着させ形成した底部6上に、頭頂部7が形成され
る。この頭頂部7はワイヤ2を折り返した形状であり、
また頭頂部7の先端部すなわち頭頂部7とワイヤ2の切
断部とは、底部6に圧着される。また第4図(blに示
すバンプ電極は第4図(a)に示すバンプ電極の頭頂部
7を平坦化したものである。
このような従来のバンプ電極は、第4図(alに示す形
状または、第4図(blに示す形状で電極間の接続接点
として用いられる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような従来のバンプ電極の形成方法
は、電極パット5上にボール3を圧着した後、キャピラ
リIをループ状(矢印A方向)に移動させ、その後キャ
ピラリlの先端を底部に押し当てることにより、底部6
から延びたワイヤ2を切断するため、底部6上に形状の
不安定な頭頂部7すなわち底部6から延びたワイヤ2に
よる折り返し部分が形成される。その結果、形成したバ
ンプ電極の高さが不均一となり、また折り返したワイヤ
の先端すなわちワイヤの切断部と底部とか圧着不良を起
こすという問題があった。
この発明の目的は上記問題点に鑑み、バンプ電極の形状
を安定させることができ、ワイヤの切断部と底部との圧
着不良を防止することのできるバンプ電極の形成方法を
提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
この発明のバンプ電極の形成方法は、キャピラリにより
電極パットにボールを圧着した後、この圧着位置からキ
ャピラリを垂直上方向、水平方向。
垂直下方向および上記水平方向と逆の水平方向に移動さ
せることによりキャピラリの位置を圧着位置から水平方
向にわずかに移動させた後、キャピラリの先端を圧着し
たボールに押し当てることにより、圧着したボールから
延びたワイヤを圧潰切断する。
〔作用〕
この発明の構成によれば、キャピラリにより電極パット
にボールを圧着した後、この圧着位置からキャピラリを
垂直上方向、水平方向、垂直下方向および上記水平方向
と逆の水平方向に移動させることによりキャピラリの位
置を圧着位置から水平方向にわずかに移動させた後、キ
ャピラリの先端を圧着したボールに押し当てることによ
り圧着したボールから延びたワイヤを圧潰切断する。し
たがって、圧着したボール上にワイヤをほとんど残さず
にワイヤを切断することができ、従来のような圧着した
ボール上のワイヤの折り返し部分を形成することがない
〔実施例〕
この発明の一実施例を第1図(al〜(d)ないし第2
図(al、 (blに基づいて説明する。
第1図(a)〜(d)はこの発明の一実施例のバンプ電
極の形成方法を示す工程順断面図である。
第1図(a)〜(d)において、lはキャピラリである
このキャピラリlは例えばセラミック製または人エルビ
ー製のものであり、通常のワイヤボンディングに用いる
ものであれば特に限定されない。2はワイヤであり、こ
のワイヤ2の材料としては、例えば直径20〔μm〕〜
30〔μm〕の金線を用いる。3はボール、4はICチ
ップ、5は電極パッド、6は圧着されたボール3からな
る底部である。
第1図(alに示すように、キャピラリlの先端に導出
したワイヤ2の先端を電気トーチにより溶融することに
より、ボール3を形成する。
次に第1図(blに示すように、ICチップ4の電極パ
ッド5上に、キャピラリ1によりボール3を圧着させ、
底部6を形成する。この際のキャピラリlの位置を圧着
位置とする。また形成した底部6とワイヤ2とは繋がっ
た状態となっている。
次に第1図(C)に示すように、キャピラリlを圧着位
置から垂直上方向aに移動させ、次に水平方向すに移動
させ、続いて垂直下方向Cに移動させた後、水平方向す
と逆の水平方向dに移動させることにより、キャピラリ
lの位置を圧着位置かられずかに水平方向に移動させる
そして第1図Fdlに示すように、キャピラリ1をさら
に垂直下方向に移動させ、キャピラリ1の先端を底部6
に押し当てることにより、底部6から延びたワイヤ2を
圧潰切断する。
このように形成したバンプ電極の形状を第2図(al、
 (b)に示す。
第2図(al、 (b)はこの発明の一実施例のバンプ
電極の形成方法により形成したバンプ電極の形状を示す
断面図である。
第2図(a)に示すように、バンプ電極Xは、ICチッ
プ4の電極パッド5上に形成した底部6に、僅かにワイ
ヤ2が残置した形状となる。また第2図(alに示すバ
ンプ電極Xに、従来と同様にして平坦化を施すと、第2
図(blに示すように、底部6のみで構成されるバンプ
電極Yを得ることかできる。
このように、キャピラリ1により電極パッド5にボール
3を圧着した後、キャピラリlを圧着位置から垂直上方
向a、水平方向す、垂直下方向すおよび水平方向dの順
に移動させることにより、キャピラリ1の位置を圧着位
置から水平方向にわずかに移動させた後、キャピラリl
の先端を底部6に押し当てることにより、底部6がら延
びるワイヤ2を切断する。したがって、従来のように、
底部6上にワイヤ2による折り返し部分すなわち頭頂部
7が形成されることなく、底部6上にはワイヤ2が殆ど
残置することがない。したがって、形状の安定したバン
プ電極を得ることができ、底部6とワイヤ2の切断部と
が圧着不良を起こすこともなくなる。
なおバンプ電極の高さが不足する場合には、太いワイヤ
を用いて、ボールの直径を大きくすることにより、底部
の高さを高くするか、またはボールを電極パッドに圧着
させる際のキャピラリの加重を小さくすることにより、
底部の高さを高くすれば良い。
〔発明の効果〕
この発明のバンプ電極の形成方法によれば、キャピラリ
により電極パットにボールを圧着した後、この圧着位置
からキャピラリを垂直上方向、水平方向、垂直下方向お
よび上記水平方向と逆の水平方向に移動させることによ
りキャピラリの位置を圧着位置から水平方向にわずかに
移動させた後、キャピラリの先端を圧着したボールに押
し当てることにより、圧着したボールから延びたワイヤ
を圧潰切断する。したがって、圧着したボール上にワイ
ヤを殆ど残置させることなく、ワイヤを切断することが
できる。その結果、形成したバンプ電極の形状を安定さ
せることができ、圧着したボールとワイヤの切断部との
圧着不良も防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(dlはこの発明の一実施例のバンプ電
極の形成方法を示す工程順断面図、第2図(al、 (
blは同バンプ電極の形成方法により形成したバンプ電
極を示す断面図、第3図(a)〜fe)は従来のバンプ
電極の形成方法を示す工程順断面図、第4図(a)。 (b)は従来のバンプ電極の形成方法により形成したバ
ンプ電極を示す断面図である。 1・・・キャピラリ、2・・・ワイヤ、3・・・ボール
、5・・・電極パッド

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 キャピラリの先端に導出したワイヤの先端にボールを形
    成する工程と、このボールを電極パッドに圧着する工程
    と、この圧着したボールから延びたワイヤを切断する工
    程とを含むバンプ電極の形成方法であって、 前記キャピラリにより前記電極パットに前記ボールを圧
    着した後、この圧着位置から前記キャピラリを垂直上方
    向、水平方向、垂直下方向および前記水平方向と逆の水
    平方向に移動させることにより前記キャピラリの位置を
    前記圧着位置から水平方向にわずかに移動させた後、前
    記キャピラリの先端を前記圧着したボールに押し当てる
    ことにより前記圧着したボールから延びたワイヤを圧潰
    切断することを特徴とするバンプ電極の形成方法。
JP2252316A 1990-09-20 1990-09-20 バンプ電極の形成方法 Expired - Lifetime JP2567512B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2252316A JP2567512B2 (ja) 1990-09-20 1990-09-20 バンプ電極の形成方法
US07/761,717 US5172851A (en) 1990-09-20 1991-09-17 Method of forming a bump electrode and manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device
US07/937,466 US5299729A (en) 1990-09-20 1992-08-28 Method of forming a bump electrode and manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2252316A JP2567512B2 (ja) 1990-09-20 1990-09-20 バンプ電極の形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04130634A true JPH04130634A (ja) 1992-05-01
JP2567512B2 JP2567512B2 (ja) 1996-12-25

Family

ID=17235559

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2252316A Expired - Lifetime JP2567512B2 (ja) 1990-09-20 1990-09-20 バンプ電極の形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2567512B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2567512B2 (ja) 1996-12-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5299729A (en) Method of forming a bump electrode and manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device
US6774494B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US6495773B1 (en) Wire bonded device with ball-shaped bonds
EP0402756A2 (en) Process of forming bump on electrode of semiconductor chip and apparatus used therefor
JP2005039192A (ja) 半導体装置及びワイヤボンディング方法
JP4021378B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JPH04294552A (ja) ワイヤーボンディング方法
JP4105996B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JPH04130634A (ja) バンプ電極の形成方法
JP3455126B2 (ja) ワイヤボンデイング方法
JP3144383B2 (ja) 半導体装置
JPH0256942A (ja) 半導体装置
JP3322642B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2733418B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3202193B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JP2574531B2 (ja) バンプ電極の形成方法
JP2004221264A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH0536697A (ja) バンプ電極形成装置
JPH0525236Y2 (ja)
JPH04130633A (ja) 半導体装置とその製造方法およびそれに用いるキャピラリ
JPH0684993A (ja) 半導体装置
JPH04277642A (ja) ワイヤーボンディング方法
JP3388056B2 (ja) 半導体装置
JPS63215058A (ja) 絶縁物封止型半導体装置
JPH08186117A (ja) ワイヤボンディング装置用キャピラリーとバンプの形成方法