JPH04129199A - Ｘ線光源装置 - Google Patents
Ｘ線光源装置Info
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- JPH04129199A JPH04129199A JP25089990A JP25089990A JPH04129199A JP H04129199 A JPH04129199 A JP H04129199A JP 25089990 A JP25089990 A JP 25089990A JP 25089990 A JP25089990 A JP 25089990A JP H04129199 A JPH04129199 A JP H04129199A
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- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 238000007667 floating Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 12
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｘ線光源装置に関するものである。
近年、研究室仕様の軟Ｘ線光源として、レーザプラズマ
光源の研究が行われている。
光源の研究が行われている。
このレーサプラズマ光源の原理は次の通りである。
まず、レーザ光を大気中から透明窓を通じて真空容器内
に入射し、該真空容器内に設置しであるターゲットに照
射する。すると、ターゲットから高温・高密度のプラズ
マが発生し、そこから軟Ｘ線が放射される。
に入射し、該真空容器内に設置しであるターゲットに照
射する。すると、ターゲットから高温・高密度のプラズ
マが発生し、そこから軟Ｘ線が放射される。
ところが、高温・高密度のプラズマが発生する際に、タ
ーゲットの破片等の汚染物質（デブリス）が飛び散り、
真空容器の内壁に付着しようとする。そして、この種装
置においては、比較的真空度の高い真空の測定のために
電離真空計等が、真空容器の壁面に設けた開口を介して
該真空容器の内部に連通するようにして設けられている
が、一般に真空計の多くはその検畠部が直径ｌＯ〜２０
ｍｍ程度の導管のついたガラス管球に内蔵されており、
汚染物質が該ガラス管球内に侵入して付着すると真空計
が正しく機能しなくなり、正確な真空の測定ができなく
なるという問題があった。
ーゲットの破片等の汚染物質（デブリス）が飛び散り、
真空容器の内壁に付着しようとする。そして、この種装
置においては、比較的真空度の高い真空の測定のために
電離真空計等が、真空容器の壁面に設けた開口を介して
該真空容器の内部に連通するようにして設けられている
が、一般に真空計の多くはその検畠部が直径ｌＯ〜２０
ｍｍ程度の導管のついたガラス管球に内蔵されており、
汚染物質が該ガラス管球内に侵入して付着すると真空計
が正しく機能しなくなり、正確な真空の測定ができなく
なるという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、ターゲットから飛んでき
た汚染物質が真空計内に付着するのを防ぎ、長時間に亘
って正確な真空測定が行えるようにしたＸ線光源装置を
提供することを目的としている。
た汚染物質が真空計内に付着するのを防ぎ、長時間に亘
って正確な真空測定が行えるようにしたＸ線光源装置を
提供することを目的としている。
本発明によるＸ線光源装置は、
真空容器の壁面に設けた開口を介して該真空容器の内部
に連通する真空計を設けると共に、該真空容器の内部に
配置したターゲットにレーザ光を照射することにより発
生するプラズマから発生するＸ線を取り出すようにした
Ｘ線光源装置において、 前記真空容器内の前記開口に近接する位置に、前記ター
ゲット上のレーザ光の照射位置から前記開口が直接見え
ない大きさの遮蔽部材を設けたことを特徴としている。
に連通する真空計を設けると共に、該真空容器の内部に
配置したターゲットにレーザ光を照射することにより発
生するプラズマから発生するＸ線を取り出すようにした
Ｘ線光源装置において、 前記真空容器内の前記開口に近接する位置に、前記ター
ゲット上のレーザ光の照射位置から前記開口が直接見え
ない大きさの遮蔽部材を設けたことを特徴としている。
又、本発明によるＸ線光源装置の他の一つは、前記開口
に連通路を介して前記真空計を接続すると共に、前記タ
ーゲット上のレーザ光の照射位置から前記真空計の入口
が直接見えないように前記連通路を湾曲させたことを特
徴としている。
に連通路を介して前記真空計を接続すると共に、前記タ
ーゲット上のレーザ光の照射位置から前記真空計の入口
が直接見えないように前記連通路を湾曲させたことを特
徴としている。
又、本発明によるＸ線光源装置の更に他の一つは、
前記ターゲット上のレーザ光の照射位置から直接見えな
い位置に前記開口を設けたことを特徴としている。
い位置に前記開口を設けたことを特徴としている。
上記何れの構成によっても、汚染物質の発生源となるタ
ーゲット上のレーザ光の照射位置から真空計の入口が直
接見えないようになっているので、ターゲット上のレー
ザ光の照射位置から真っ直ぐ飛んで来る汚染物質が真空
計の中に付着する量が大幅に減少する。
ーゲット上のレーザ光の照射位置から真空計の入口が直
接見えないようになっているので、ターゲット上のレー
ザ光の照射位置から真っ直ぐ飛んで来る汚染物質が真空
計の中に付着する量が大幅に減少する。
以下、図示した実施例に基づき本発明の詳細な説明する
。
。
第１図は本発明によるＸ線光源装置の第一実施例を含む
Ｘ線試料検査装置の概略図であって、ｌは構成部材を振
動を殺しながら支える除振台である。
Ｘ線試料検査装置の概略図であって、ｌは構成部材を振
動を殺しながら支える除振台である。
２は除振台１上に設置された円筒形の真空容器であって
、ガラス製の円形の透明窓３と開口４゜５を有している
と共に、内部に金等の金属材料で成るターゲット６が軸
７のまわりに回転できるように設けられ、更に内部の透
明窓３に近接する位置には該窓３とほぼ同じ大きさのガ
ラス製の円形の透明な遮蔽板８が設けられている。又、
真空容器２の壁面に設けられた開口３６を介して真空容
器２の内部に連通ずる真空計３７が真空容器２の外面に
取付けられている。９は除振台ｌ上に設置された主にＮ
ｄ：ＹＡＧ等の高出力パルスレーザ光源、ｌＯはレーザ
光集光用の集光レンズであって、パルスレーザ−光源９
からのレーザ光を集光レンズＩＯにより透明窓３及び遮
蔽板８を介してターゲット６に照射すると、ターゲット
６の一部が溶けて蒸発してプラズマ化し、この高温・高
密度のプラズマから軟Ｘ線が発生するようになっている
。この時、遮蔽板８は飛散する汚染物質が透明窓３に蒸
着するのを防ぐ。尚、透明窓３及び遮画板８は、それら
によるレーザ光の反射光かレーザ光源９に戻ってレーザ
光の発振を不安定にしないようにレーザ光源９及び集光
レンズＩＯの光軸に対して約３°傾けて設置され、更に
レーザ光を効率的にターゲット６に照射できるように反
射防止膜が施されている。そして、以上の部材がＸ線光
源装置１１を構成している。
、ガラス製の円形の透明窓３と開口４゜５を有している
と共に、内部に金等の金属材料で成るターゲット６が軸
７のまわりに回転できるように設けられ、更に内部の透
明窓３に近接する位置には該窓３とほぼ同じ大きさのガ
ラス製の円形の透明な遮蔽板８が設けられている。又、
真空容器２の壁面に設けられた開口３６を介して真空容
器２の内部に連通ずる真空計３７が真空容器２の外面に
取付けられている。９は除振台ｌ上に設置された主にＮ
ｄ：ＹＡＧ等の高出力パルスレーザ光源、ｌＯはレーザ
光集光用の集光レンズであって、パルスレーザ−光源９
からのレーザ光を集光レンズＩＯにより透明窓３及び遮
蔽板８を介してターゲット６に照射すると、ターゲット
６の一部が溶けて蒸発してプラズマ化し、この高温・高
密度のプラズマから軟Ｘ線が発生するようになっている
。この時、遮蔽板８は飛散する汚染物質が透明窓３に蒸
着するのを防ぐ。尚、透明窓３及び遮画板８は、それら
によるレーザ光の反射光かレーザ光源９に戻ってレーザ
光の発振を不安定にしないようにレーザ光源９及び集光
レンズＩＯの光軸に対して約３°傾けて設置され、更に
レーザ光を効率的にターゲット６に照射できるように反
射防止膜が施されている。そして、以上の部材がＸ線光
源装置１１を構成している。
１２は除振台１上に設置され且つ開口４を介して真空容
器２と接続された他の真空容器であって、開口１３．１
４を有していると共に、内部に入射スリット１５及び斜
入射型回折格子（凹面回折格子）１６が設置されている
。そして、以上の部材が分光器２１を構成している。
器２と接続された他の真空容器であって、開口１３．１
４を有していると共に、内部に入射スリット１５及び斜
入射型回折格子（凹面回折格子）１６が設置されている
。そして、以上の部材が分光器２１を構成している。
１７は一端が開口１３を介して真空容器１２に接続され
た伸縮自在のベローズ、１８はベローズ１７の他端に接
続された更に他の真空容器であって、真空容器１８は例
えばベローズ１７の長手方向と短手方向の両方向に移動
可能とすることにより回折格子Ｉ６のローランド円の円
周に沿って移動可能とした台座Ｉ９を介して除振台１上
に設置されている。２０は真空容器１８内であって台座
１９と一致する位置に設置されている即ち台座１９の移
動に伴って回折格子１６のローランド円上を移動するよ
うになっている射出スリットである。
た伸縮自在のベローズ、１８はベローズ１７の他端に接
続された更に他の真空容器であって、真空容器１８は例
えばベローズ１７の長手方向と短手方向の両方向に移動
可能とすることにより回折格子Ｉ６のローランド円の円
周に沿って移動可能とした台座Ｉ９を介して除振台１上
に設置されている。２０は真空容器１８内であって台座
１９と一致する位置に設置されている即ち台座１９の移
動に伴って回折格子１６のローランド円上を移動するよ
うになっている射出スリットである。
２２は真空容器１８内において回転可能に設置された試
料台、２３は真空容器１８内において試料台２２を中心
として回動可能に設置されたチャンネルトロン等の第１
の軟Ｘ線検出器であって、回折格子１６の中心と射出ス
リット２０と試料台２２の中心は常に一直線上に位置す
るようになっている。そして、以上の部材が測定部２７
を構成している。
料台、２３は真空容器１８内において試料台２２を中心
として回動可能に設置されたチャンネルトロン等の第１
の軟Ｘ線検出器であって、回折格子１６の中心と射出ス
リット２０と試料台２２の中心は常に一直線上に位置す
るようになっている。そして、以上の部材が測定部２７
を構成している。
２４は真空容器２内に設置されていてＸ線光源装置１１
での軟Ｘ線の強度をモニターする第２の軟Ｘ線検出器で
ある。２５は第１の軟Ｘ線検出器２３及び第２の軟Ｘ線
検出器２４からの出力信号に基づき所定の式に従って演
算処理を行ない、その結果を表示装置２６に表示するコ
ンピュータである。コンピュータ２５は、パルスレーザ
光源９の発振、ターゲットｌの回転７台座１９の移動。
での軟Ｘ線の強度をモニターする第２の軟Ｘ線検出器で
ある。２５は第１の軟Ｘ線検出器２３及び第２の軟Ｘ線
検出器２４からの出力信号に基づき所定の式に従って演
算処理を行ない、その結果を表示装置２６に表示するコ
ンピュータである。コンピュータ２５は、パルスレーザ
光源９の発振、ターゲットｌの回転７台座１９の移動。
試料台１１の回転、軟Ｘ線検出器２３の回転も制御する
ようになっている。
ようになっている。
２８は一端が開口５を介して真空容器２と接続され且つ
除振台１上に設置された振動の少ない磁気浮上型のター
ボ分子ポンプ、２９は振動を伝えにくいゴム製のチュー
ブ３０を介してターボ分子ポンプ２８の他端と接続され
且つ除振台１外に設置された振動の大きい荒引き用のロ
ータリーポンプであって、これらが真空容器２内の真空
引きを行う真空ポンプ部３１を構成している。
除振台１上に設置された振動の少ない磁気浮上型のター
ボ分子ポンプ、２９は振動を伝えにくいゴム製のチュー
ブ３０を介してターボ分子ポンプ２８の他端と接続され
且つ除振台１外に設置された振動の大きい荒引き用のロ
ータリーポンプであって、これらが真空容器２内の真空
引きを行う真空ポンプ部３１を構成している。
３２は一端が開口１４を介して真空容器１２と接続され
且つ除振台１上に設置された磁気浮上型のターボ分子ポ
ンプ、３３はゴム製のチューブ３４を介してターボ分子
ポンプ３２の他端と接続され且つ除振台ｌ外に設置され
た荒引き用のロータリーポンプであって、これらが真空
容器１２内。
且つ除振台１上に設置された磁気浮上型のターボ分子ポ
ンプ、３３はゴム製のチューブ３４を介してターボ分子
ポンプ３２の他端と接続され且つ除振台ｌ外に設置され
た荒引き用のロータリーポンプであって、これらが真空
容器１２内。
ベローズ１７内及び真空容器１８内の真空引きを行う真
空ポンプ部３５を構成している。
空ポンプ部３５を構成している。
第２図は本実施例の真空計３７の取付構造を示す概略斜
視図、第３図は第２図の要部拡大図である。
視図、第３図は第２図の要部拡大図である。
３８は真空容器２内の開口３６に近接する位置に設けら
れた遮蔽板であって、その大きさは、ターゲット６上の
レーザ光の照射位置Ｐから遮蔽板３８の縁に接するよう
に引いた直線Ｉが開口３６にかからない大きさ即ち遮蔽
板３８の影が開口３６を覆ってしまうために位置Ｐから
開口３６が見えない大きさに選定されている。
れた遮蔽板であって、その大きさは、ターゲット６上の
レーザ光の照射位置Ｐから遮蔽板３８の縁に接するよう
に引いた直線Ｉが開口３６にかからない大きさ即ち遮蔽
板３８の影が開口３６を覆ってしまうために位置Ｐから
開口３６が見えない大きさに選定されている。
本実施例は上述の如く構成されているから、パルスレー
ザ光源９を発振させてレーザ光をターゲット６に照射す
ると、ターゲット６の一部が溶けて蒸発してプラズマ化
し、このプラズマから軟Ｘ線３６が発生する。尚、ター
ゲット６の一部が蒸発して凹んだら、ターゲット６を回
転させて新しい面にレーザ光が当たるようにする。発生
した軟Ｘ線３６は、真空容器２の開口４を通って入射ス
リット１５に導かれ、入射スリット１５を通って回折格
子１６に入射し分光される。回折格子１６で分光された
軟Ｘ線３７は、射出スリット２０を通って試料台２２上
の試料Ｓに入射し、該試料Ｓで回折された軟Ｘ線３８が
軟Ｘ線検出器２３により検出される。この場合、対比ス
リット２０からは入射スリット１５と回折格子１６と射
出スリット２０との位置関係に応じて定まる特定波長の
軟Ｘ線３７のみが射出してくるので、台座１９の移動に
より射出スリット２０を移動せしめると射出スリット２
０を通過する軟Ｘ線３７の波長が変わる即ち波長走査が
行われる。従って、試料Ｓに入射する軟Ｘ線３７の波長
が変わるので、試料Ｓの分光反射率等を測定することが
できる。又、試料台２２を回動することにより試料Ｓに
対する軟Ｘ線３７の入射角を任意に設定できる。更に、
軟Ｘ線検出器２３を試料台２２の周りに回動することに
より任意の回折角で試料Ｓからの軟Ｘ線３８を検出する
ことができる。
ザ光源９を発振させてレーザ光をターゲット６に照射す
ると、ターゲット６の一部が溶けて蒸発してプラズマ化
し、このプラズマから軟Ｘ線３６が発生する。尚、ター
ゲット６の一部が蒸発して凹んだら、ターゲット６を回
転させて新しい面にレーザ光が当たるようにする。発生
した軟Ｘ線３６は、真空容器２の開口４を通って入射ス
リット１５に導かれ、入射スリット１５を通って回折格
子１６に入射し分光される。回折格子１６で分光された
軟Ｘ線３７は、射出スリット２０を通って試料台２２上
の試料Ｓに入射し、該試料Ｓで回折された軟Ｘ線３８が
軟Ｘ線検出器２３により検出される。この場合、対比ス
リット２０からは入射スリット１５と回折格子１６と射
出スリット２０との位置関係に応じて定まる特定波長の
軟Ｘ線３７のみが射出してくるので、台座１９の移動に
より射出スリット２０を移動せしめると射出スリット２
０を通過する軟Ｘ線３７の波長が変わる即ち波長走査が
行われる。従って、試料Ｓに入射する軟Ｘ線３７の波長
が変わるので、試料Ｓの分光反射率等を測定することが
できる。又、試料台２２を回動することにより試料Ｓに
対する軟Ｘ線３７の入射角を任意に設定できる。更に、
軟Ｘ線検出器２３を試料台２２の周りに回動することに
より任意の回折角で試料Ｓからの軟Ｘ線３８を検出する
ことができる。
かくして、Ｘ線による試料の検査が行われるが、軟Ｘ線
発生の際にターゲット６から汚染物質が飛び散り真空容
器２の内面に付着しようとする。しかし、開口３６が遮
蔽板３８で覆われているので、ターゲット６上のレーザ
光の照射位置Ｐがら真つ直ぐ飛んで来る汚染物質は真空
計３７の中に入り込まなくなる。従って、真空計３７内
の汚れが減るので、長時間に亘り正確な真空測定を行な
うことができる。
発生の際にターゲット６から汚染物質が飛び散り真空容
器２の内面に付着しようとする。しかし、開口３６が遮
蔽板３８で覆われているので、ターゲット６上のレーザ
光の照射位置Ｐがら真つ直ぐ飛んで来る汚染物質は真空
計３７の中に入り込まなくなる。従って、真空計３７内
の汚れが減るので、長時間に亘り正確な真空測定を行な
うことができる。
尚、蒸発した汚染物質の中には真空容器２中を浮遊する
ものもあるが、真空計３７内の汚れの原因となるものは
、真っ直ぐ飛んで来るもののウェイトが高いので、これ
を防げれば充分である。又、浮遊しているものによる汚
れを防ぐには、遮蔽板３８をなるべく開口３６に近づけ
るのが良いが、近づけ過ぎると真空計３７と真空容器２
の連通度が低下しすぎて測定精度が落ちるので、ある程
度以上の隙間をあけておく必要がある。
ものもあるが、真空計３７内の汚れの原因となるものは
、真っ直ぐ飛んで来るもののウェイトが高いので、これ
を防げれば充分である。又、浮遊しているものによる汚
れを防ぐには、遮蔽板３８をなるべく開口３６に近づけ
るのが良いが、近づけ過ぎると真空計３７と真空容器２
の連通度が低下しすぎて測定精度が落ちるので、ある程
度以上の隙間をあけておく必要がある。
第４図は第１実施例の変形例の要部拡大図であって、遮
蔽部材３９は、短冊状の板を複数板傾けて配置すること
により、汚染物質が飛んで来る方向に対しては隣接する
板と板との間に隙間ができないようにし、斜めに見ると
板と板との間に隙間ができるように構成されている。従
って、板と板との間の隙間により真空計への流通が良く
なるので好ましい。
蔽部材３９は、短冊状の板を複数板傾けて配置すること
により、汚染物質が飛んで来る方向に対しては隣接する
板と板との間に隙間ができないようにし、斜めに見ると
板と板との間に隙間ができるように構成されている。従
って、板と板との間の隙間により真空計への流通が良く
なるので好ましい。
第５図は第２実施例の要部拡大図であって、これは開口
３６に連通路４０を介して真空計３７を接続すると共に
、ターゲット６上のレーザ光の照射位置Ｐから連通路４
０の入口の縁を結んだ直線ｌが真空計３７の入口にかか
らないように即ち位置Ｐから真空計３７の入口が直接見
えないように連通路４０を湾曲させたものである。
３６に連通路４０を介して真空計３７を接続すると共に
、ターゲット６上のレーザ光の照射位置Ｐから連通路４
０の入口の縁を結んだ直線ｌが真空計３７の入口にかか
らないように即ち位置Ｐから真空計３７の入口が直接見
えないように連通路４０を湾曲させたものである。
本実施例の場合、真空計３７の真空容器２から外への出
張り度が小さくなるので、周りで作業する時に真空計に
衝突して壊す確率が減り、好ましい。
張り度が小さくなるので、周りで作業する時に真空計に
衝突して壊す確率が減り、好ましい。
第６図は第３実施例の要部拡大図であって、これはター
ゲット６上のレーザ光の照射位置Ｐからターゲット６又
はその支持部材のうちより出張りの大きいものに接する
ように引いた線ｌからターゲット６の裏側の方へ外れる
ような位置即ち点Ｐから直接見えない位置に開口３６を
設けたものである。尚、開口３６は汚染物質が飛ぶ領域
からなるべく離した方が良いので、線ｌから角度的にな
るべく遠い位置に開口３６が位置するようにするのが好
ましい。
ゲット６上のレーザ光の照射位置Ｐからターゲット６又
はその支持部材のうちより出張りの大きいものに接する
ように引いた線ｌからターゲット６の裏側の方へ外れる
ような位置即ち点Ｐから直接見えない位置に開口３６を
設けたものである。尚、開口３６は汚染物質が飛ぶ領域
からなるべく離した方が良いので、線ｌから角度的にな
るべく遠い位置に開口３６が位置するようにするのが好
ましい。
本実施例は、単に開口３６の位置を選定するだけなので
、構成が最も簡単になる。
、構成が最も簡単になる。
上述の如く、本発明によるＸ線光源装置は、ターゲット
から飛んできた汚染物質が真空計内に付着するのを防ぎ
、長時間に亘って正確な真空測定が行えるという実用上
重要な利点を有している。
から飛んできた汚染物質が真空計内に付着するのを防ぎ
、長時間に亘って正確な真空測定が行えるという実用上
重要な利点を有している。
第１図は本発明によるＸ線光源装置の第１実施例を含む
Ｘ線試料検査装置の概略図、第２図は上記第１実施例の
真空計の取付は構造を示す図、第３図は第２図の要部拡
大図、第４図は上記第１実施例の変形例の要部拡大図、
第５図及び第６図は夫々第２及び第３実施例の要部拡大
図である。 ２・・・・真空容器、３・・・・透明窓、４，５．３６
・・・・開口、６・・・・ターゲット、７・・・・軸、
８・・・・遮蔽板、９・・・・高出力パルスレーザ光源
、１０・・・・集光レンズ、１１・・・・Ｘ線光源装置
、３１・・・・真空ポンプ部、 ７真空計、 ８・・・・遮蔽板、 ９・・・・遮蔽部材、 ０・・・・連通路。
Ｘ線試料検査装置の概略図、第２図は上記第１実施例の
真空計の取付は構造を示す図、第３図は第２図の要部拡
大図、第４図は上記第１実施例の変形例の要部拡大図、
第５図及び第６図は夫々第２及び第３実施例の要部拡大
図である。 ２・・・・真空容器、３・・・・透明窓、４，５．３６
・・・・開口、６・・・・ターゲット、７・・・・軸、
８・・・・遮蔽板、９・・・・高出力パルスレーザ光源
、１０・・・・集光レンズ、１１・・・・Ｘ線光源装置
、３１・・・・真空ポンプ部、 ７真空計、 ８・・・・遮蔽板、 ９・・・・遮蔽部材、 ０・・・・連通路。
Claims (3)
- （１）真空容器の壁面に設けた開口を介して該真空容器
の内部に連通する真空計を設けると共に、該真空容器の
内部に配置したターゲットにレーザ光を照射することに
より発生するプラズマから発生するＸ線を取り出すよう
にしたＸ線光源装置において、 前記真空容器内の前記開口に近接する位置に、前記ター
ゲット上のレーザ光の照射位置から前記開口が直接見え
ない大きさの遮蔽部材を設けたことを特徴とするＸ線光
源装置。 - （２）真空容器の壁面に設けた開口を介して該真空容器
の内部に連通する真空計を設けると共に、該真空容器の
内部に配置したターゲットにレーザ光を照射することに
より発生するプラズマから発生するＸ線を取り出すよう
にしたＸ線光源装置において、 前記開口に連通路を介して前記真空計を接続すると共に
、前記ターゲット上のレーザ光の照射位置から前記真空
測定器の入口が直接見えないように前記連通路を湾曲さ
せたことを特徴とするＸ線光源装置。 - （３）真空容器の壁面に設けた開口を介して該真空容器
の内部に連通する真空計を設けると共に、該真空容器の
内部に配置したターゲットにレーザ光を照射することに
より発生するプラズマから発生するＸ線を取り出すよう
にしたＸ線光源装置において、 前記ターゲット上のレーザ光の照射位置から直接見えな
い位置に前記開口を設けたことを特徴とするＸ線光源装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25089990A JP2768545B2 (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | Ｘ線光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25089990A JP2768545B2 (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | Ｘ線光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04129199A true JPH04129199A (ja) | 1992-04-30 |
| JP2768545B2 JP2768545B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=17214687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25089990A Expired - Fee Related JP2768545B2 (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | Ｘ線光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2768545B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6208237B1 (en) | 1996-11-29 | 2001-03-27 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Electro-mechanical and acoustic transducer for portable terminal unit |
| JP2012147022A (ja) * | 2012-04-19 | 2012-08-02 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
-
1990
- 1990-09-20 JP JP25089990A patent/JP2768545B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6208237B1 (en) | 1996-11-29 | 2001-03-27 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Electro-mechanical and acoustic transducer for portable terminal unit |
| JP2012147022A (ja) * | 2012-04-19 | 2012-08-02 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2768545B2 (ja) | 1998-06-25 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |