JPH04128373A - 試料ホルダ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、粒径が、例えば、数μｍの粉末または１片が
例えば数−の小片の試料保持する試料ホルダ、及び、そ
の製造装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、スパッタリング等のＰＶＤ法により粒径が数μｍ
の粉末に被膜を形成する方法として、被コーテイング材
の粉末を載せた振動板を設け、振動板により粉末へ振動
を与え乍ら該粉末に真空装置で生成される微粒子の被膜
を形成される方法が知られている。なお、この種の技術
に関連するものには、例えば、特開平１−１４７０６５
号公報が挙げられる。

一方、イオンビームスパッタ法による成膜法が注目され
ている。イオンビームスパッタ法とは、イオン源より、
イオンビームをターゲットに照射し、ターゲット１から
原子サイズの微粒子を被コーテイング材に成膜するもの
であり、膜組成を箱密に制御できる。種の低温成長がで
きる。高真空中でのスパッタが行なえる、成長膜がプラ
ズマの影響を受けない、多元素スパッタが行なえる等の
特長により、光学膜、超電導膜等に使用され始めている
。この方法により、粒径が、例えば、数μｍの粉末、ま
たは、−片が散開の小片への被膜形成が可能となれば、
幅広い応用範囲が可能となる〔発明が解決しようとする
課題〕 上記従来技術の被コーテイング材等の試料（粒径が例え
ば数μｍの粉末または一片が例えば数−の小片）が、周
辺部分等により片寄ったり、重なったりするため、被膜
が均一にならないという問題があった。

本発明の目的は、粒径が、例えば、数μｍの粉末、また
は、−片が、例えば、数■の小片等の試料を均一に加工
するための試料ホルダ及び、イオンビーム加工機を提供
することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、試料ホルダが表面に凹凸をつ
け、かつ、回転及び傾斜機能をもつ試料ホルダとした。

〔作用〕

これにより、粉末及び小片の試料を、試料ホルダに保持
させ、傾斜機能によりある角度にし、回転させることに
より、試料は試料ホルダ全面を移動するが、凹凸部を移
動する場合には、ころがりが生じ試料全面に処理される
ようになる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図、及び第２図により説
明する。

第１図は、試料ホルダの側面図であり、第２図は、試料
ホルダの平面図である。

試料ホルダは、真空チャンバ壁２に取付けられ本図に記
載されていない真空排気ポンプにより、真空に排気され
る。試料ホルダは、試料を入れ保持するカップ１ａ、及
び、回転モータを搭載し、カップ１ａを、回転２さすイ
ンナーチャンバ１ｂ及び、傾斜４をおこなうギアｌｃ、
ｌｃｌ及び本図に記載されないモータにより構成される
。

カップ１ａの表面には、凹凸１ｅがある。

試料５は、カップ１ａに入れられ、本図に記載されてな
いイオン源よりのイオンビーム６を照射される。

第３図は、試料５と凹凸１ｅを拡大した図であり、試料
５は、凹凸１ｅによりななめに保持され、ある角度に傾
斜され、回転３をおこなうことによりこるげながら移動
する。

これにより、試料５は、カップ１ａの全面を、移動しな
がら、試料５の全面が、イオンビーム６に照射されるた
め、試料５全面が均一に処理される。

本実施例では、イオンビーム６を、直接、照射するイオ
ンビームシリングついて述べたが、イオン源よりのイオ
ンビームをターゲットに照射しターゲットからの原子サ
イズの微粒子を被膜するイオンビームスパッタ装置につ
いても可能である。

（イオンビーム６のかわりが、微粒子と考えれば良い。

）この様に、真空中での製造装置に使用できる。

また１本実施例では、凹凸１ｅをカップ１ａの表面につ
けたものについて説明したが、第４図を示す通り、上の
カップ１ｈ及び、凹凸１ｅとして使用される金網１ｆ、
下のカップ１ｊを止めねじ１ｇにより構成する等、凹凸
１ｅを容易に交換できる構造とする。

この場合、凹凸１ｅが、長時間の使用により磨耗した場
合、金網１ｆの交換だけですむという効果もある。

この様に、凹凸１ｅとして、針状のものをたてたり、金
網を使用する等の方法の他、粉末の試料５については、
デインプル形状のくぼみにより凹凸１ｅをつける方法が
考えられる。

また、本実施例では、ある−度角度に傾斜し、回転させ
る方法について述べたが、本発明はこれに限るものでは
ない。傾斜角度を変化させながら回転さす方法、一定時
間ごとに傾斜角度を変える方法がある。また、高下方向
の振動を与える方法を併用させても良い。

〔発明の効果〕

本発明は、以上説明した通り粒径が、例えば、数μｍの
粉末、または、−片が１例えば、数μｍの小片等の試料
を均一に加工することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の試料ホルダの側面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は、試料と凹凸の拡大図
、第４図はカップの組立斜視である。 １ａ・・・カップ、１ｂ・・・インナーチャンバ、１ｃ
・・ギヤ、１ｄ・・・ギヤ、１ｅ・・・凹凸、１ｆ・・
・金網、１ｇ・・・止めねじ、１ｈ・・・上カップ、ｌ
ｏ・・・下カップ。 廚シ 図 第 図 ｅ 第 図 第４図 埠

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. １．ＰＶＤ等の真空中で試料を保持する試料ホルダにお
   いて前記試料ホルダの表面に凹凸をもつ、かつ、回転及
   び傾斜機能をもつことを特徴とする試料ホルダ。
2. ２．請求項１において、前記凹凸をつけるため、針状の
   ものを立てた試料ホルダ。
3. ３．請求項１において、前記凹凸をつけるため、金鋼を
   もちいた試料ホルダ。
4. ４．請求項１において、前記凹凸部の取りはずしを可能
   とした試料ホルダ。
5. ５．請求項１の試料ホルダに、振動を回転及び傾斜と同
   時もしくは、単独におこなうため振動機能をもつ試料ホ
   ルダ。
6. ６．請求項１において、前記試料ホルダを搭載したこと
   を特徴とするイオンビーム加工機。
7. ７．請求項１に記載の試料ホルダを搭載したイオンビー
   ムスパッタ装置。
8. ８．請求項１の前記試料ホルダを搭載したことを特徴と
   するイオンビームミリング装置。