JPH04124093A - 燃焼法によるダイヤモンド合成法 - Google Patents
燃焼法によるダイヤモンド合成法Info
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- JPH04124093A JPH04124093A JP24450390A JP24450390A JPH04124093A JP H04124093 A JPH04124093 A JP H04124093A JP 24450390 A JP24450390 A JP 24450390A JP 24450390 A JP24450390 A JP 24450390A JP H04124093 A JPH04124093 A JP H04124093A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、燃焼法によるダイヤモンド合成法に関し、詳
細には、炭化水素系燃料ガスと酸素とをバーナにて燃焼
させ、この燃焼火炎をバーナに対向させて設けた基板表
面に衝突させてダイヤモンドを合成する方法に関するも
のである。
細には、炭化水素系燃料ガスと酸素とをバーナにて燃焼
させ、この燃焼火炎をバーナに対向させて設けた基板表
面に衝突させてダイヤモンドを合成する方法に関するも
のである。
(従来の技術および:J題〕
ダイヤモンドの人工合成法には、高圧合成法と低圧気相
合成法の二つがある。最近になって低圧気相合成法の一
つとして燃焼火炎を利用する所謂燃焼法によるダイヤモ
ンド合成法が提案されている。この方法は、例えば第4
図に示すように、ダイヤモンド析出用の炭素源としての
炭化水素系燃料ガス(例えばアセチレン5エチレン、メ
タンプロパン、メタノール、エタノール等〕を、酸素を
用いて理論混合比よりもはるかに少ない酸素量でバーナ
11により燃焼させ、このような燃焼条件によって得ら
れた特定火炎12中の火口】3近傍に生成するフェザと
称する火炎14中−・基板15を置くと共に、この基板
15を基板ホルダー16の冷却手段により強制的に冷却
しその温度を600〜+200’cに保つことによって
、基板15表面乙こダイヤモンドを合成するものである
。
合成法の二つがある。最近になって低圧気相合成法の一
つとして燃焼火炎を利用する所謂燃焼法によるダイヤモ
ンド合成法が提案されている。この方法は、例えば第4
図に示すように、ダイヤモンド析出用の炭素源としての
炭化水素系燃料ガス(例えばアセチレン5エチレン、メ
タンプロパン、メタノール、エタノール等〕を、酸素を
用いて理論混合比よりもはるかに少ない酸素量でバーナ
11により燃焼させ、このような燃焼条件によって得ら
れた特定火炎12中の火口】3近傍に生成するフェザと
称する火炎14中−・基板15を置くと共に、この基板
15を基板ホルダー16の冷却手段により強制的に冷却
しその温度を600〜+200’cに保つことによって
、基板15表面乙こダイヤモンドを合成するものである
。
一方、本発明者等は、提案されている燃焼によるダイヤ
モンド合成法の多くは基礎実験的なものであることから
、燃焼に使用されるバーナや基板の冷却方法に問題の有
ることを知見し、先にそれらを改善した発明等(特願平
2−111263号、実願平2−43657号参照〕を
行っている。
モンド合成法の多くは基礎実験的なものであることから
、燃焼に使用されるバーナや基板の冷却方法に問題の有
ることを知見し、先にそれらを改善した発明等(特願平
2−111263号、実願平2−43657号参照〕を
行っている。
そしてその後、本発明者等は、この開発された燃焼によ
るダイヤモンド合成装置を用いて、さらに基板表面にダ
イヤモンドの合成を榎々試みてきた。その結果、燃焼に
よるダイヤモンド合成法は、低圧気相合成法の中でも経
済的な方法ではあるが、基板表面に結晶粒径の大きなダ
イヤモンドを合成することは非常に#しいことを知った
。即ち、結晶粒径が100〜300μ網程度まで成長し
たところで成長が飽和し、それ以上の時間をかけても、
その後は結晶表面にグラファイトやカーボンが析出し始
め、それ以上の大きさの結晶粒径のダイヤモンドの合成
ができなくなることを知った。
るダイヤモンド合成装置を用いて、さらに基板表面にダ
イヤモンドの合成を榎々試みてきた。その結果、燃焼に
よるダイヤモンド合成法は、低圧気相合成法の中でも経
済的な方法ではあるが、基板表面に結晶粒径の大きなダ
イヤモンドを合成することは非常に#しいことを知った
。即ち、結晶粒径が100〜300μ網程度まで成長し
たところで成長が飽和し、それ以上の時間をかけても、
その後は結晶表面にグラファイトやカーボンが析出し始
め、それ以上の大きさの結晶粒径のダイヤモンドの合成
ができなくなることを知った。
そこで、本発明者等は、燃焼によるダイヤモンド合成法
を改善し、経済的に、より大きい結晶粒径のダイヤモン
ドを合成することを目的として、さらに鋭意研究を重ね
、本発明をなしたものである。
を改善し、経済的に、より大きい結晶粒径のダイヤモン
ドを合成することを目的として、さらに鋭意研究を重ね
、本発明をなしたものである。
[課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、本発明二二係わる燃焼による
ダイヤモンド合成法は、炭化水素系燃料ガスに酸素を混
合しバーナにて燃焼させ、この燃焼火炎をバーナに対向
さセて設けた基板表面に衝突させてダイヤモンドを合成
する方法において、炭化水素系燃料ガスと酸素の混合容
積比(酸素/炭化水素系燃料)を、合成開始取量時間の
経過とともに増大させるものである。
ダイヤモンド合成法は、炭化水素系燃料ガスに酸素を混
合しバーナにて燃焼させ、この燃焼火炎をバーナに対向
さセて設けた基板表面に衝突させてダイヤモンドを合成
する方法において、炭化水素系燃料ガスと酸素の混合容
積比(酸素/炭化水素系燃料)を、合成開始取量時間の
経過とともに増大させるものである。
[作 用]
以下、本発明の燃焼によるダイヤモンド合成法について
説明する。
説明する。
第1図は、本発明に係わる燃焼乙こよるダイヤモンド合
成に使用される装置の概要図である。図において、 1
はバーナ、2は基板ホルダを示す。
成に使用される装置の概要図である。図において、 1
はバーナ、2は基板ホルダを示す。
バーナ】は、燃料と酸化剤とを予混合燃焼するタイプの
バーナであって、燃料と酸化剤は予混合され混合室3か
ら逆火防止板4を経て噴射孔5に供給される。尚、この
例の逆火防止板4は各噴射孔5への流量均等配分の機能
をも有するように形成されている。
バーナであって、燃料と酸化剤は予混合され混合室3か
ら逆火防止板4を経て噴射孔5に供給される。尚、この
例の逆火防止板4は各噴射孔5への流量均等配分の機能
をも有するように形成されている。
基板ホルダ2は、その土面がダイヤモンドを合成するた
めの基板6を置くだめの平面に形成され、且つ開示省略
するがその内部には冷却のだめのガスまたは液体流路が
形成されている。
めの基板6を置くだめの平面に形成され、且つ開示省略
するがその内部には冷却のだめのガスまたは液体流路が
形成されている。
尚、回申、7は燃焼火炎を、しはバーナ1の先端と基板
6の表面との間の距離を示す。
6の表面との間の距離を示す。
本発明者等は、上記第1図に示す装置を使用して、バー
ナの先端と基板表面との距Ml、とダイヤモンドの成長
速度との関係を調査した。この時の実験条件は、燃料と
してアセチレン、酸化剤として純酸素を使用し、純酸素
/アセチレンの容積比を0.9〜1.1とし、両者の総
流量をバーナの噴射孔当たり0.2?+3/hrとした
。また基板6の冷却として、基板ホルダ2に水を供給し
た場合と空気を供給した場合とを行った。また合成時間
は1時間とした。この実験結果を第2回に示す。
ナの先端と基板表面との距Ml、とダイヤモンドの成長
速度との関係を調査した。この時の実験条件は、燃料と
してアセチレン、酸化剤として純酸素を使用し、純酸素
/アセチレンの容積比を0.9〜1.1とし、両者の総
流量をバーナの噴射孔当たり0.2?+3/hrとした
。また基板6の冷却として、基板ホルダ2に水を供給し
た場合と空気を供給した場合とを行った。また合成時間
は1時間とした。この実験結果を第2回に示す。
第2図より明らかなように、ダイヤモンドの成長速度は
距1iiILが小さいほど大きく、 100μ11/h
r以上となり、従来のプラズマCVD法などに比較する
と数10〜数百倍となる。また基板6の冷却が空冷の方
が水冷よりもダイヤモンドの成長速度が大きい理由は、
基板6の表面温度をダイヤモンドを合成する場合の好適
温度600〜1200°Cの範囲の高い方で管理するこ
とができたためと考えられる。水冷の場合には、基板ホ
ルダ2内で水が沸騰する現象が見られ、基板6の表面温
度を高温域で管理することが難しかった。
距1iiILが小さいほど大きく、 100μ11/h
r以上となり、従来のプラズマCVD法などに比較する
と数10〜数百倍となる。また基板6の冷却が空冷の方
が水冷よりもダイヤモンドの成長速度が大きい理由は、
基板6の表面温度をダイヤモンドを合成する場合の好適
温度600〜1200°Cの範囲の高い方で管理するこ
とができたためと考えられる。水冷の場合には、基板ホ
ルダ2内で水が沸騰する現象が見られ、基板6の表面温
度を高温域で管理することが難しかった。
しかしながら、上述の如く距離りを小さくして一定に保
ちながら長時間にわたってダイヤモンドの合成をしてい
ても、得られる粒子の大きさには自ずと限界のあること
が明らかとなった。即ち、第3図に示すように、基板6
を、距離L= 1mg+に保持し水冷した場合には、基
@6の温度を高くできないためにダイヤモンドの成長速
度が遅く、またその成長は、1時間以上合成しても結晶
粒径が100μm程度で飽和し、2時間1時間以上合成
させると、結晶表面にグラファイトやカーボンが析出し
てダイヤモンドの合成が出来なくなった。一方、基板6
を、距HL= 2n+mに保持し空冷した場合には、基
板6の温度が高くでき、ダイヤモンドの成長速度が速く
なり、ダイヤモンド結晶粒径も約300//INの大き
さまで成長するが、1時間半以上合成させると水冷の場
合と同様に、結晶表面にゲラファイトやカーボンが析出
してダイヤモンドの合成が出来なくなった。
ちながら長時間にわたってダイヤモンドの合成をしてい
ても、得られる粒子の大きさには自ずと限界のあること
が明らかとなった。即ち、第3図に示すように、基板6
を、距離L= 1mg+に保持し水冷した場合には、基
@6の温度を高くできないためにダイヤモンドの成長速
度が遅く、またその成長は、1時間以上合成しても結晶
粒径が100μm程度で飽和し、2時間1時間以上合成
させると、結晶表面にグラファイトやカーボンが析出し
てダイヤモンドの合成が出来なくなった。一方、基板6
を、距HL= 2n+mに保持し空冷した場合には、基
板6の温度が高くでき、ダイヤモンドの成長速度が速く
なり、ダイヤモンド結晶粒径も約300//INの大き
さまで成長するが、1時間半以上合成させると水冷の場
合と同様に、結晶表面にゲラファイトやカーボンが析出
してダイヤモンドの合成が出来なくなった。
このようにダイヤモンドの合成が出来なくなる理由は、
ダイヤモンドの成長が基板表面近傍におけるCI(、C
a1l、 t、などの炭素中間生成物に関係しているた
めと考えられる。即ち、第2図に示したようにバーナの
先端と基板表面との距離が小さい場合には、基板表面近
傍に多くの炭素中間生成物が存在し、合成初期にはそれ
らがダイヤモンドに析出し、基板上へ積層できる合成能
力(一種の吸収能力)を有するが、時間の経過に連れダ
イヤモンドの粒子や膜厚が大きくなるに伴い、炭素中間
生成物が多量に基板上へ供給されても、上記合成能力が
低下しグラファイトやカーボンになるためと推論される
。
ダイヤモンドの成長が基板表面近傍におけるCI(、C
a1l、 t、などの炭素中間生成物に関係しているた
めと考えられる。即ち、第2図に示したようにバーナの
先端と基板表面との距離が小さい場合には、基板表面近
傍に多くの炭素中間生成物が存在し、合成初期にはそれ
らがダイヤモンドに析出し、基板上へ積層できる合成能
力(一種の吸収能力)を有するが、時間の経過に連れダ
イヤモンドの粒子や膜厚が大きくなるに伴い、炭素中間
生成物が多量に基板上へ供給されても、上記合成能力が
低下しグラファイトやカーボンになるためと推論される
。
そこで、本発明では、炭化水素系燃料ガスに酸素を混合
しバーナにて燃焼させ、この燃焼火炎をバーナに対向さ
せて設けた基板表面に衝突させてダイヤモンドを合成す
る際、炭化水素系燃料ガスと酸素の混合容積比(酸素/
炭化水素系燃料)を、合成開始以降時間の経過とともO
二増大させ、これにより、基板表面近傍ユこおける炭素
中間生成物の量を合成開始時より少なくしてグラファイ
トやカーボンの発生を抑制し、ダイヤモンlを安定シて
析出させ、より大きい結晶粒径のダイヤモンドを合成す
るものである。
しバーナにて燃焼させ、この燃焼火炎をバーナに対向さ
せて設けた基板表面に衝突させてダイヤモンドを合成す
る際、炭化水素系燃料ガスと酸素の混合容積比(酸素/
炭化水素系燃料)を、合成開始以降時間の経過とともO
二増大させ、これにより、基板表面近傍ユこおける炭素
中間生成物の量を合成開始時より少なくしてグラファイ
トやカーボンの発生を抑制し、ダイヤモンlを安定シて
析出させ、より大きい結晶粒径のダイヤモンドを合成す
るものである。
尚、本発明者等は、本発明と同し、より大きい結晶粒径
のダイヤモン1を合成することを目的として、先に、2
件の燃焼法によるダイヤエンド合成法を開発し出願して
いる(特願平2−205412−号特願平2−2054
12号)。本発明は、これらの方法を絹み合わせて行う
ことにより、細かな制御が可能となり、より結晶性の良
い大粒径のダイヤ上21合成が可能となる。
のダイヤモン1を合成することを目的として、先に、2
件の燃焼法によるダイヤエンド合成法を開発し出願して
いる(特願平2−205412−号特願平2−2054
12号)。本発明は、これらの方法を絹み合わせて行う
ことにより、細かな制御が可能となり、より結晶性の良
い大粒径のダイヤ上21合成が可能となる。
[実 施 例]
前述した第1図に示ず装置を使用し、炭化水素系燃料ガ
スとしてアセチレンを使用するとともに酸素との総流量
をバーナの噴射孔当たり0.2Nm3/hrとし、また
基板の冷却として基板ホルダに空気を供給し、またバー
ナの先端と基板表面との距翻りをL= 2mmに設定し
、この条件の元で、酸素/アセチレン(0□/C2tl
□)の容積比を、下記の如く変化させて基板上にダイヤ
モンドを合成した。
スとしてアセチレンを使用するとともに酸素との総流量
をバーナの噴射孔当たり0.2Nm3/hrとし、また
基板の冷却として基板ホルダに空気を供給し、またバー
ナの先端と基板表面との距翻りをL= 2mmに設定し
、この条件の元で、酸素/アセチレン(0□/C2tl
□)の容積比を、下記の如く変化させて基板上にダイヤ
モンドを合成した。
すなわち、実施例】は、合成初期の約30分はダイヤモ
ンドの成長速度が比較的大きいOz/CzHz=1.0
5で合成し、その後、酸素の量を増して0□/C211
z=1.08で2時間30分合成した。
ンドの成長速度が比較的大きいOz/CzHz=1.0
5で合成し、その後、酸素の量を増して0□/C211
z=1.08で2時間30分合成した。
実施例2は、前記実施例同様に合成初期の約30分は0
□/CJz=1.05で合成し、その後、酸素の量を増
してox/ C2+12 = 1.09で2時間30分
合成した。
□/CJz=1.05で合成し、その後、酸素の量を増
してox/ C2+12 = 1.09で2時間30分
合成した。
実施例3は、前記実施例同様に合成初期の約30分は0
2/C2112=1.05で合成し、その後、酸素の量
を増して02/C2H2=1.]0で2時間30分合成
した。
2/C2112=1.05で合成し、その後、酸素の量
を増して02/C2H2=1.]0で2時間30分合成
した。
これらの実施例を第3関に比較し、て示す。
これらの実施例においては、酸素/アセチレンの容積比
を0□/ CzHz = 1.05で合成し続けた場合
に約1時間30分経過後に結晶表面にグラファイトやカ
ーボンが析出してダイヤモンドの合成が出来なくなった
のに対して、3時間経過してもグラファイトやカーボン
の析出も無く結晶粒径の大きなダイヤモンドが合成でき
た。因みに、合成時間が3時間では、実施例1で約50
0〃m、実施例2で約450μ餠、実施例3で約350
1Jv、の大きさのダイヤモンドがそれぞれ合成できた
。
を0□/ CzHz = 1.05で合成し続けた場合
に約1時間30分経過後に結晶表面にグラファイトやカ
ーボンが析出してダイヤモンドの合成が出来なくなった
のに対して、3時間経過してもグラファイトやカーボン
の析出も無く結晶粒径の大きなダイヤモンドが合成でき
た。因みに、合成時間が3時間では、実施例1で約50
0〃m、実施例2で約450μ餠、実施例3で約350
1Jv、の大きさのダイヤモンドがそれぞれ合成できた
。
尚、上記実施例では、酸素/アセチレンの容積比を合成
初期の約30分後に一度変えた例のみを説明したが、こ
の結果より明らかなように、合成初期の酸素/アセチレ
ンの容積比に対し、その後の容積比を大きく変化させる
と、同時間で合成されるダイヤモンドの大きさが小さく
なる傾向があることから、ダイヤモンドが合成可能と言
われている酸素/炭化水素系燃料の容積比0.9〜1.
1の距囲内で、酸素/炭化水素系燃料の容積比を合成初
期のそれより、よりこまめに増大させることにより、よ
り大きなダイヤモンドが合成されるものと考える。
初期の約30分後に一度変えた例のみを説明したが、こ
の結果より明らかなように、合成初期の酸素/アセチレ
ンの容積比に対し、その後の容積比を大きく変化させる
と、同時間で合成されるダイヤモンドの大きさが小さく
なる傾向があることから、ダイヤモンドが合成可能と言
われている酸素/炭化水素系燃料の容積比0.9〜1.
1の距囲内で、酸素/炭化水素系燃料の容積比を合成初
期のそれより、よりこまめに増大させることにより、よ
り大きなダイヤモンドが合成されるものと考える。
上述したように、本発明に係わる燃焼法によるダイヤモ
ンド合成方法乙こよれば、経済約6こ、より大きな結晶
粒径のダイヤモンドが合成できる。
ンド合成方法乙こよれば、経済約6こ、より大きな結晶
粒径のダイヤモンドが合成できる。
第1図は、本発明に係わる燃焼法によるダイヤモンド合
成方法に適用される装置の概要図、第2図は、バーナの
先端と基板表面との距atとダイヤモンドの成長速度と
の関係を示す図、第3図は、ダイヤモンドの合成時間と
結晶粒径との関係を示す閲、第4図は、従来技術の説明
図である。 1 バーナ 2 基板ホルダ6 基板 特許出願人 株式会社神戸製鋼所
成方法に適用される装置の概要図、第2図は、バーナの
先端と基板表面との距atとダイヤモンドの成長速度と
の関係を示す図、第3図は、ダイヤモンドの合成時間と
結晶粒径との関係を示す閲、第4図は、従来技術の説明
図である。 1 バーナ 2 基板ホルダ6 基板 特許出願人 株式会社神戸製鋼所
Claims (1)
- 炭化水素系燃料ガスに酸素を混合しバーナにて燃焼さ
せ、この燃焼火炎をバーナに対向させて設けた基板表面
に衝突させてダイヤモンドを合成する方法において、炭
化水素系燃料ガスと酸素の混合容積比(酸素/炭化水素
系燃料)を、合成開始以降時間の経過とともに増大させ
ることを特徴とする燃焼法によるダイヤモンド合成法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24450390A JPH04124093A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 燃焼法によるダイヤモンド合成法 |
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GB9106521A GB2243150B (en) | 1990-03-28 | 1991-03-27 | Method for synthesizing diamond by combustion |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP24450390A JPH04124093A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 燃焼法によるダイヤモンド合成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04124093A true JPH04124093A (ja) | 1992-04-24 |
Family
ID=17119647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP24450390A Pending JPH04124093A (ja) | 1990-03-28 | 1990-09-13 | 燃焼法によるダイヤモンド合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH04124093A (ja) |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP24450390A patent/JPH04124093A/ja active Pending
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