JPH02221194A - 気相法透明ダイヤモンドの合成法 - Google Patents
気相法透明ダイヤモンドの合成法Info
- Publication number
- JPH02221194A JPH02221194A JP4091989A JP4091989A JPH02221194A JP H02221194 A JPH02221194 A JP H02221194A JP 4091989 A JP4091989 A JP 4091989A JP 4091989 A JP4091989 A JP 4091989A JP H02221194 A JPH02221194 A JP H02221194A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- vapor phase
- arc discharge
- arc
- case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 15
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 title abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims abstract description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 claims description 5
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001241 arc-discharge method Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- -1 ethylene, butylene Chemical group 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光学用、各種精密部材用あるいは研削、研磨用
として有用なダイヤモンドの低圧気相法透明ダイヤモン
ドの合成法に関し、特にアーク放電によるダイヤモンド
合成状態へのプラズマのコントロール手段に関する。
として有用なダイヤモンドの低圧気相法透明ダイヤモン
ドの合成法に関し、特にアーク放電によるダイヤモンド
合成状態へのプラズマのコントロール手段に関する。
低圧気相ダイヤモンドの合成法は、炭化水素または酸素
、窒素等を含む有機化合物と水素とを混合し、熱フィラ
メント、マイクロ波プラズマ、高周波プラズマ、直流ア
ーク放電等により励起して基材のとにダイヤモンドを析
出する方法である。
、窒素等を含む有機化合物と水素とを混合し、熱フィラ
メント、マイクロ波プラズマ、高周波プラズマ、直流ア
ーク放電等により励起して基材のとにダイヤモンドを析
出する方法である。
このうちアーク放電によるものはアーク放電は高温てあ
り、しかも放電自体の持続性を維持するためには基板と
アークとは直線的に平行で、かつアークと基板間はある
程度離れていることか必要とされていた。この場合ダイ
ヤモンドの析出はアークの中央直下及びその付近に限ら
れ、しかもダイヤモンドの析出コントロール、析出ダイ
ヤモンドの形態1組織、結晶性のコントロールか非常に
困難とされていた。
り、しかも放電自体の持続性を維持するためには基板と
アークとは直線的に平行で、かつアークと基板間はある
程度離れていることか必要とされていた。この場合ダイ
ヤモンドの析出はアークの中央直下及びその付近に限ら
れ、しかもダイヤモンドの析出コントロール、析出ダイ
ヤモンドの形態1組織、結晶性のコントロールか非常に
困難とされていた。
またアーク放電法とは別にDCプラズマ法、DCクロー
放電法かある。DCプラズマ法は!離発生した電子イオ
ンか子種近傍で陽光柱と呼ばれるプラズマ励起空間を形
成するものでダイヤモンドの合成圧力は数〜1OTor
r程度てありダイヤモンドの成長速度は数10〜100
kra /hr程度てある、またDCグロー放電法は
平行モ板形電極間で放電を行なわせるのが一般的で反応
圧力は数/10〜数Torrで生成物は水素を含んだ硬
質ガーボン膜からDLCと呼ばれるものでその成長速度
は数/10〜数ルー程度である。
放電法かある。DCプラズマ法は!離発生した電子イオ
ンか子種近傍で陽光柱と呼ばれるプラズマ励起空間を形
成するものでダイヤモンドの合成圧力は数〜1OTor
r程度てありダイヤモンドの成長速度は数10〜100
kra /hr程度てある、またDCグロー放電法は
平行モ板形電極間で放電を行なわせるのが一般的で反応
圧力は数/10〜数Torrで生成物は水素を含んだ硬
質ガーボン膜からDLCと呼ばれるものでその成長速度
は数/10〜数ルー程度である。
これに対してアーク放電法は対向する電極の間に主張か
発生し、これかダイヤモンドの発生の励起源となる0反
応圧力も50〜760 Torrでありダイヤモンドの
結晶速度も数10〜数1004s程度と速い (発明か解決しようとする課題) 上述のいずれのダイヤモンド合成法も高品位て透明なダ
イヤモンドを得ることか困難てあり、黒色又は灰色のダ
イヤモンド得るのみであった。
発生し、これかダイヤモンドの発生の励起源となる0反
応圧力も50〜760 Torrでありダイヤモンドの
結晶速度も数10〜数1004s程度と速い (発明か解決しようとする課題) 上述のいずれのダイヤモンド合成法も高品位て透明なダ
イヤモンドを得ることか困難てあり、黒色又は灰色のダ
イヤモンド得るのみであった。
又、対向アーク放電による低圧気相法ダイヤモンドの実
用化のためには析出速度の高速化、析出面積を増大する
ことが必要であるか、この目的のために基板とアーク間
の距離の短縮を行うと析出ダイヤモンドの結晶にエツチ
ングか生しがっ黒鉛相か混入する。従って上述の様な現
象を生しないのでダイヤモンド速度の高速化および析出
面積の増大化をはかり、なお且つ析出ダイヤモンドの形
態結晶性、すなわち高品位で透明な自形の発達したダイ
ヤモンド粒および膜状物の開発が実用面から強く要求さ
れている。
用化のためには析出速度の高速化、析出面積を増大する
ことが必要であるか、この目的のために基板とアーク間
の距離の短縮を行うと析出ダイヤモンドの結晶にエツチ
ングか生しがっ黒鉛相か混入する。従って上述の様な現
象を生しないのでダイヤモンド速度の高速化および析出
面積の増大化をはかり、なお且つ析出ダイヤモンドの形
態結晶性、すなわち高品位で透明な自形の発達したダイ
ヤモンド粒および膜状物の開発が実用面から強く要求さ
れている。
前記、要求に応する方法を開発する目的で、本件発明者
らはアーク放電の高温、高密度エネルギーの制御方法に
ついて種々研究の結果、プラズマ空間にタングステン等
の高融点炭化物を形成する金属の蒸気を導入して、この
金属のプラズマ化に伴なうイオン化密度の増加とプラズ
マ空間の広がりにより原料のラジカル化か促進されるこ
とを見出し、先に出願した(特願昭6:l−22508
4号)。
らはアーク放電の高温、高密度エネルギーの制御方法に
ついて種々研究の結果、プラズマ空間にタングステン等
の高融点炭化物を形成する金属の蒸気を導入して、この
金属のプラズマ化に伴なうイオン化密度の増加とプラズ
マ空間の広がりにより原料のラジカル化か促進されるこ
とを見出し、先に出願した(特願昭6:l−22508
4号)。
しかし問題は金属の蒸気のプラズマ内への定量的導入は
実際上、金属電極の溶融か起ったりして調節は困難であ
る。本発明者らはこの問題を解決すべく、さらに研究を
進めた結果、水、酸素、−酸化炭素、二酸化炭素を原料
に添加することにより、プラズマエネルギーをコントロ
ールして基体上に高品位の透明自形ダイヤモンドか効果
的に合成されることを発見し、本件発明を完成するに至
った。
実際上、金属電極の溶融か起ったりして調節は困難であ
る。本発明者らはこの問題を解決すべく、さらに研究を
進めた結果、水、酸素、−酸化炭素、二酸化炭素を原料
に添加することにより、プラズマエネルギーをコントロ
ールして基体上に高品位の透明自形ダイヤモンドか効果
的に合成されることを発見し、本件発明を完成するに至
った。
すなわち、本件発明の要旨は対向アーク放電によりダイ
ヤモンド合成可能状態に励起し、基体りにダイヤモンド
を析出させる気相法ダイヤモンドの合成方法において、
陰極が金属電極である対向する電極間にアーク放電柱を
生ぜしめ、該アーク放電柱内へ導入する原料ガスに水、
酸素、−二酸化炭素は二酸化炭素を添加することにより
透明ダイヤモンドを析出させることを特徴とする気相法
透明ダイヤモンドの合成法にある。
ヤモンド合成可能状態に励起し、基体りにダイヤモンド
を析出させる気相法ダイヤモンドの合成方法において、
陰極が金属電極である対向する電極間にアーク放電柱を
生ぜしめ、該アーク放電柱内へ導入する原料ガスに水、
酸素、−二酸化炭素は二酸化炭素を添加することにより
透明ダイヤモンドを析出させることを特徴とする気相法
透明ダイヤモンドの合成法にある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いられる原料ガスは炭化水素ガスや酸素、窒
素等を含む有機化合物等、気相法ダイヤモンドの合成に
用いられるすべての公知の原料ガスが用いられる。又、
ダイヤモンドの合成原料をアークに対して直交させ、ア
ークに平行におかれた基体の反対側より基体方向に吹き
付けることか望ましい。この場合、雰囲気ガスの水素濃
度は10〜80体積%か好ましく、より好ましくは40
〜60体積%である。例えば水素40体績%とはAr、
H2雰囲気で82/ (+12 + Ar) = 4
0/ 100のことである。
素等を含む有機化合物等、気相法ダイヤモンドの合成に
用いられるすべての公知の原料ガスが用いられる。又、
ダイヤモンドの合成原料をアークに対して直交させ、ア
ークに平行におかれた基体の反対側より基体方向に吹き
付けることか望ましい。この場合、雰囲気ガスの水素濃
度は10〜80体積%か好ましく、より好ましくは40
〜60体積%である。例えば水素40体績%とはAr、
H2雰囲気で82/ (+12 + Ar) = 4
0/ 100のことである。
アークは開始時、電極間電位により電離した気体部分を
通して、陰極から大量の電子の流れを生じ、これか気体
分子イオンと衝突しプラズマ化し、アークか持続する。
通して、陰極から大量の電子の流れを生じ、これか気体
分子イオンと衝突しプラズマ化し、アークか持続する。
この場合ダイヤモンド生成i+(能なプラズマエネルギ
ー領域はキャリアガス組成と原料からなる気体分子のイ
オン化に大きく依存する。
ー領域はキャリアガス組成と原料からなる気体分子のイ
オン化に大きく依存する。
さらにこのプラズマ中に高融点炭化物を形成する金属蒸
気を導入することにより、一定の金属原子のイオン化に
よりプラズマ内の電流密度の増加かはかられ炭素原子の
化合物である各種原料の解離、ラジカル化か促進される
。ただ実際上は電極特に陰極電極は消耗か激しいので電
極材料は金属電極か好ましい。このうち金属電極はW−
Thか最も好ましい。ただ陽極については通常のアーク
法に用いる電極材料で差し支えない。
気を導入することにより、一定の金属原子のイオン化に
よりプラズマ内の電流密度の増加かはかられ炭素原子の
化合物である各種原料の解離、ラジカル化か促進される
。ただ実際上は電極特に陰極電極は消耗か激しいので電
極材料は金属電極か好ましい。このうち金属電極はW−
Thか最も好ましい。ただ陽極については通常のアーク
法に用いる電極材料で差し支えない。
さらに本件発明はこれに加えて原料ガスに水酸素、−酸
化炭素、または二酸化炭素を添加することによりプラズ
マエネルギーをさらにコントロールする。これら添加物
の量は水の場合0.1〜2体積%、酸素の場合0.05
〜1.4体積%、−酸化炭素の場合0,1〜10体積%
、二酸化炭素の場合0.05〜5体積%が好ましい。
化炭素、または二酸化炭素を添加することによりプラズ
マエネルギーをさらにコントロールする。これら添加物
の量は水の場合0.1〜2体積%、酸素の場合0.05
〜1.4体積%、−酸化炭素の場合0,1〜10体積%
、二酸化炭素の場合0.05〜5体積%が好ましい。
本発明において、原料ガスの噴出はアーク発生帯域にお
いてガスの流出速度は0.O1〜600m/SeCか好
ましく、より好ましくは0.2〜100 m/secで
ある。又、混合ガスはアルゴンの代りにHe、 Ne、
にr、 Xeと水素との混合ガスも使用可能である。
いてガスの流出速度は0.O1〜600m/SeCか好
ましく、より好ましくは0.2〜100 m/secで
ある。又、混合ガスはアルゴンの代りにHe、 Ne、
にr、 Xeと水素との混合ガスも使用可能である。
ダイヤモンド合成用炭素源としては前記したようにメタ
ン、エタン、プロパン等の飽和炭化水素、エチレン、プ
ロと、レン、ブチレン、アセチレン等の不飽和炭化水素
、ベンゼン等の芳香族炭化水素、アルコール類、アセト
ン等のケトン基を含む化合物、その他C,H,O化合物
、含窒素化合物、およびこれらの複数混合物を用いるこ
とか可能である。
ン、エタン、プロパン等の飽和炭化水素、エチレン、プ
ロと、レン、ブチレン、アセチレン等の不飽和炭化水素
、ベンゼン等の芳香族炭化水素、アルコール類、アセト
ン等のケトン基を含む化合物、その他C,H,O化合物
、含窒素化合物、およびこれらの複数混合物を用いるこ
とか可能である。
本発明方法においては直流放電アーク内にタングステン
等の金属蒸気の導入によりプラズマ内のイオン化電流を
高めることができ、且つ析出基板に励起された化学種、
メチルラジカル等のカーボン含有ラジカルと原子状水素
がそれらの活性を失う前に、より多く基板に到達でき、
また水、酸素、−酸化炭素、または二酸化炭素が基板上
に析出するi−カーボンやグラファイト等を除去するこ
とにより高品位で透明な自形の発達したダイヤモンドの
高速成長と広域成長が実現したものと考えられる。
等の金属蒸気の導入によりプラズマ内のイオン化電流を
高めることができ、且つ析出基板に励起された化学種、
メチルラジカル等のカーボン含有ラジカルと原子状水素
がそれらの活性を失う前に、より多く基板に到達でき、
また水、酸素、−酸化炭素、または二酸化炭素が基板上
に析出するi−カーボンやグラファイト等を除去するこ
とにより高品位で透明な自形の発達したダイヤモンドの
高速成長と広域成長が実現したものと考えられる。
〔実施例および比較例)
内容積約5リツトルの装置内に10m@角のSi鏡面研
磨基板を水冷基板支持台にとり付けて水平に設置した。
磨基板を水冷基板支持台にとり付けて水平に設置した。
該Si基板上方3■謬に電極間5m重を保つように第1
表記載の材質の電極をとり付けて、さらに基板上10m
mの位置に極間中心の真上に下方向を向いている 17
16インチSO3製ダイヤモンド合成原料ノズルをとり
付けた。
表記載の材質の電極をとり付けて、さらに基板上10m
mの位置に極間中心の真上に下方向を向いている 17
16インチSO3製ダイヤモンド合成原料ノズルをとり
付けた。
装置内をAr=700 cc/分、12= 500 c
c/分の混合気体に第1表記載の原料ガスを2体積%に
なるように添加した。装置内圧力を200Torrとし
通電する前に電極間を2mmに近ずけその後、電極間距
離を徐々に広げ極間電力を35V、ISAに印加し、ア
ークを形成させた。又、原料ガスの他に種々のガス添加
物を第1表記載の割合で添加した。
c/分の混合気体に第1表記載の原料ガスを2体積%に
なるように添加した。装置内圧力を200Torrとし
通電する前に電極間を2mmに近ずけその後、電極間距
離を徐々に広げ極間電力を35V、ISAに印加し、ア
ークを形成させた。又、原料ガスの他に種々のガス添加
物を第1表記載の割合で添加した。
このようにして前記ノズルから組成か■242体積%、
Ar58体積%であるガスを1.2リットル/分の流速
で導入した。
Ar58体積%であるガスを1.2リットル/分の流速
で導入した。
15分間連続して反応させ基体析出物を観察した結果を
第1表に示す。
第1表に示す。
(以下余白)
(発明の効果)
アーク放電による気相法ダイヤモンド合成において、本
発明方法による原料ガスに水、酸素。
発明方法による原料ガスに水、酸素。
酸化炭素、二酸化炭素を添加してプラズマエネルギーを
コントロールすることにより粒状の透明な自形ダイヤモ
ンドを高速て広範囲に生成することかてきる。
コントロールすることにより粒状の透明な自形ダイヤモ
ンドを高速て広範囲に生成することかてきる。
Claims (1)
- 1、対向アーク放電によりダイヤモンド合成可能状態に
励起し、基体上にダイヤモンドを析出させる気相法ダイ
ヤモンドの合成方法において、陰極が金属電極である対
向する電極間にアーク放電柱を生ぜしめ、該アーク放電
柱内へ導入する原料ガスに水、酸素、一酸化炭素又は二
酸化炭素を添加することにより透明ダイヤモンドを析出
させることを特徴とする気相法透明ダイヤモンドの合成
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4091989A JPH02221194A (ja) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 気相法透明ダイヤモンドの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4091989A JPH02221194A (ja) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 気相法透明ダイヤモンドの合成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02221194A true JPH02221194A (ja) | 1990-09-04 |
Family
ID=12593910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4091989A Pending JPH02221194A (ja) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 気相法透明ダイヤモンドの合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02221194A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5227038A (en) * | 1991-10-04 | 1993-07-13 | William Marsh Rice University | Electric arc process for making fullerenes |
US7473410B1 (en) | 1990-08-30 | 2009-01-06 | Mitsubishi Corporation | Form of carbon |
-
1989
- 1989-02-21 JP JP4091989A patent/JPH02221194A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7473410B1 (en) | 1990-08-30 | 2009-01-06 | Mitsubishi Corporation | Form of carbon |
US7976813B1 (en) | 1990-08-30 | 2011-07-12 | Mitsubishi Corporation | Form of carbon |
US8101149B1 (en) | 1990-08-30 | 2012-01-24 | Mitsubishi Corporation | Form of carbon |
US5227038A (en) * | 1991-10-04 | 1993-07-13 | William Marsh Rice University | Electric arc process for making fullerenes |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR910006784B1 (ko) | 다이어몬드 증착장치와 방법 | |
US4984534A (en) | Method for synthesis of diamond | |
JPH0346436B2 (ja) | ||
EP0304201A1 (en) | Process for making diamond doped diamond and diamond-cubic boron nitride composite films | |
JPS58110494A (ja) | ダイヤモンドの合成法 | |
Rudder et al. | Chemical vapor deposition of diamond films from water vapor rf‐plasma discharges | |
JPS61158899A (ja) | ダイヤモンド膜の製法 | |
JPH04958B2 (ja) | ||
JPH02221194A (ja) | 気相法透明ダイヤモンドの合成法 | |
JPH0372038B2 (ja) | ||
US4981671A (en) | Method for preparing diamond or diamond-like carbon by combustion flame | |
JPH03240959A (ja) | 窒化炭素薄膜の合成方法 | |
JPH06144993A (ja) | 硼素ドープダイヤモンド | |
JPH01197391A (ja) | ダイヤモンドの合成方法 | |
JPS63277767A (ja) | 高圧相窒化ホウ素の気相合成法 | |
JP2585342B2 (ja) | ダイヤモンド気相合成法 | |
JPH0274590A (ja) | 気相法透明ダイヤモンドの合成法 | |
Zhang et al. | Diamond growth by hollow cathode arc chemical vapor deposition at low pressure range of 0.02–2 mbar | |
JPH0667797B2 (ja) | ダイヤモンドの合成方法 | |
JPH01188496A (ja) | 気相法ダイヤモンドの合成法 | |
JP2686970B2 (ja) | 膜状ダイヤモンドの製造方法 | |
JPS63117996A (ja) | ダイヤモンドの気相合成法 | |
JPH0674199B2 (ja) | ダイヤモンドの合成方法 | |
KR910008729B1 (ko) | 다이어몬드의 합성방법 | |
JPH06171910A (ja) | 気相法による窒化ホウ素の形成方法 |