JPH04117360A - N,n’−ヒドロカルビレンビス(n−hals置換アミド酸ヒドラジド)及びその誘導体 - Google Patents
N,n’−ヒドロカルビレンビス(n−hals置換アミド酸ヒドラジド)及びその誘導体Info
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- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
この発明は、N、 N’−’ヒドロカルビレンビス[N
−(2,2,6,6−テトラアルキル−4−ピペリジニ
ル)アミド酸ヒドラジド]及びその誘導体に関する。 これらの化合物は、熱及び(又は)光にさらした際に分
解及び(又は)変色を生じゃすいポリマー系を安定化さ
せるのに有用である。これらの化合物は少なくとも2個
の立体障害アミン系光安定化基(HALS基)及び2個
のヒドラジド(又はヒドラジド誘導体)系熱酸化安定化
基を有する。 これらの化合物中のアミド酸ヒドラジド官能基は、立体
障害アミン基の光酸化安定化特性を強化し、そして該化
合物に熱酸化安定化特性及び金属錯化特性を付与する。 誘導体化されていないビスヒドラジド先駆体は、酸無水
物又はカルボン酸基を含有する化合物と結合することの
できる反応性安定剤である。反応性ビスヒドラジド基の
ために、これらは重合工程の際にポリエステル、ポリア
ミド、ポリイミド又はそれらの組合せ物中に配合して、
永久に結合した安定化基を形成することができる。 この新規のヒドラジド誘導体は低揮発性を有し、揮発、
移動又は抽出によってポリマー系から容易に損失される
ことがない。 [0002]
−(2,2,6,6−テトラアルキル−4−ピペリジニ
ル)アミド酸ヒドラジド]及びその誘導体に関する。 これらの化合物は、熱及び(又は)光にさらした際に分
解及び(又は)変色を生じゃすいポリマー系を安定化さ
せるのに有用である。これらの化合物は少なくとも2個
の立体障害アミン系光安定化基(HALS基)及び2個
のヒドラジド(又はヒドラジド誘導体)系熱酸化安定化
基を有する。 これらの化合物中のアミド酸ヒドラジド官能基は、立体
障害アミン基の光酸化安定化特性を強化し、そして該化
合物に熱酸化安定化特性及び金属錯化特性を付与する。 誘導体化されていないビスヒドラジド先駆体は、酸無水
物又はカルボン酸基を含有する化合物と結合することの
できる反応性安定剤である。反応性ビスヒドラジド基の
ために、これらは重合工程の際にポリエステル、ポリア
ミド、ポリイミド又はそれらの組合せ物中に配合して、
永久に結合した安定化基を形成することができる。 この新規のヒドラジド誘導体は低揮発性を有し、揮発、
移動又は抽出によってポリマー系から容易に損失される
ことがない。 [0002]
合成ポリマーに対する紫外線の有害作用を抑制するため
に立体障害アミン化合物を使用することは、当技術分野
においてよく知られている。ヒドラジド及びヒドラジド
誘導体は、ポリオレフィンを安定化させるために商業的
に用いられている([ポリマー科学及び工学百科事典(
Encyclopedia of Polymer 5
cience andEngineering)J第2
版、第2巻、第83〜84頁(1985年)を参照され
たい)。しかしながら、この文献には、立体障害アミン
部分及びヒドラジド部分(−R−C(=○) −NH−
NH2、ここで、Rは0. N又はSではない)が同一
分子中に存在する例は4つしかない。これらの例のいず
れも、分子中に1個より多い立体障害アミン部分を持た
ない。これらの従来技術の化合物はいずれも、アミド酸
のヒドラジドではない。 [0003] 従来知られていたHALSヒドラジドには次のものがあ
る:
に立体障害アミン化合物を使用することは、当技術分野
においてよく知られている。ヒドラジド及びヒドラジド
誘導体は、ポリオレフィンを安定化させるために商業的
に用いられている([ポリマー科学及び工学百科事典(
Encyclopedia of Polymer 5
cience andEngineering)J第2
版、第2巻、第83〜84頁(1985年)を参照され
たい)。しかしながら、この文献には、立体障害アミン
部分及びヒドラジド部分(−R−C(=○) −NH−
NH2、ここで、Rは0. N又はSではない)が同一
分子中に存在する例は4つしかない。これらの例のいず
れも、分子中に1個より多い立体障害アミン部分を持た
ない。これらの従来技術の化合物はいずれも、アミド酸
のヒドラジドではない。 [0003] 従来知られていたHALSヒドラジドには次のものがあ
る:
【化4】
CA登録番号66641−22−7
米国特許第4153596号及び同第4223147号
【化5】
Me
Me
\/
CA登録番号66651−23−8
米国特許第4153596号及び同第4223147号
【化6】
Me
Me
CA登録番号72436−11−4
特開昭54−103461号;
CA92.
59703コ
特開昭54−95649号;CA92、284J
【化7】
CA登録番号77246−76−5
米国特許第4336183号: CA97.21736
9gヨーロッパ特許出願第22997号;CA94.1
76176s[0004] 米国特許第4145512号及び同第4178279号
には、光安定化されたポリウレタンを得るためにカルボ
ン酸ヒドラジド基含有立体障害アミン系光安定剤をポリ
イソシアネート又はイソシアネートプレポリマーのイソ
シアネート基と反応させることが教示されている。しが
しながら、用いられるHALS−ヒドラジドは従来のタ
イプのものだった。これらは、本発明の新規の化合物の
光安定化特性を高めるアミド酸ヒドラジド構造を持って
ぃなかった。 これらは「従来技術」ではない力板係属中の1989年
2月13日付けの米国特許出願第310408号及び放
棄された1987年8月12日付けの米国特許出願第8
4602号(これらは共に、本出願人に譲渡された)に
は、次の一般式(8):
9gヨーロッパ特許出願第22997号;CA94.1
76176s[0004] 米国特許第4145512号及び同第4178279号
には、光安定化されたポリウレタンを得るためにカルボ
ン酸ヒドラジド基含有立体障害アミン系光安定剤をポリ
イソシアネート又はイソシアネートプレポリマーのイソ
シアネート基と反応させることが教示されている。しが
しながら、用いられるHALS−ヒドラジドは従来のタ
イプのものだった。これらは、本発明の新規の化合物の
光安定化特性を高めるアミド酸ヒドラジド構造を持って
ぃなかった。 これらは「従来技術」ではない力板係属中の1989年
2月13日付けの米国特許出願第310408号及び放
棄された1987年8月12日付けの米国特許出願第8
4602号(これらは共に、本出願人に譲渡された)に
は、次の一般式(8):
【8】
を有するN−(2,2,6,6−テトラアルキル−4−
ピペリジニル)アミド酸ヒドラジドが開示されている。 これらのアミド酸ヒドラジドは有効な光安定剤であり、
コノヒドラジド基はこの光安定剤を酸無水物含有コポリ
マーに結合させる手段を提供する。 本出願人に譲渡された米国特許第4857595号には
、無水マレイン酸コポリマーに結合したHALSヒドラ
ジドが開示されている。 これもまた本出願人に譲渡された米国特許第48575
96号には、HALSヒドラジド及び紫外線吸収剤又は
酸化防止剤が酸無水物含有ポリマー又はコポリマーに結
合した多官能化ポリマー又はコポリマーが開示されてい
る。 [0005]
ピペリジニル)アミド酸ヒドラジドが開示されている。 これらのアミド酸ヒドラジドは有効な光安定剤であり、
コノヒドラジド基はこの光安定剤を酸無水物含有コポリ
マーに結合させる手段を提供する。 本出願人に譲渡された米国特許第4857595号には
、無水マレイン酸コポリマーに結合したHALSヒドラ
ジドが開示されている。 これもまた本出願人に譲渡された米国特許第48575
96号には、HALSヒドラジド及び紫外線吸収剤又は
酸化防止剤が酸無水物含有ポリマー又はコポリマーに結
合した多官能化ポリマー又はコポリマーが開示されてい
る。 [0005]
従来技術の立体障害アミン系光安定化基で置換されたヒ
ドラジドは全て、比較的低分子量である。これらの安定
剤は、ポリオレフィン又はエンジニアリングサーモプラ
スチック中に配合された場合に加工の際に揮発によって
認め得る程度の量で損失されてしまう。従来技術のヒド
ラジドはいずれも、本発明の一般構造■に包含されない
。従来技術のヒドラジドはいずれも、その構造中に1個
より多い反応性ヒドラジド基を含有しない。 さらに、従来技術のHALSヒドラジドは、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド又は
ポリイミドに末端キャッピング基として結合することが
できるのみである。従来技術のHALSヒドラジドは、
ポリマーの主鎖中に組み込むことができない。 [0006] 定義 本明細書において、「2,2,6.6−チトラアルキル
ピペリジン」又は「22.6.6−テトラアルキル−4
−ピペリジニル基」と言った場合、随意にピペリジン基
の3位置を1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル基
で置換されたピペリジニル基、即ち次式(化9):
ドラジドは全て、比較的低分子量である。これらの安定
剤は、ポリオレフィン又はエンジニアリングサーモプラ
スチック中に配合された場合に加工の際に揮発によって
認め得る程度の量で損失されてしまう。従来技術のヒド
ラジドはいずれも、本発明の一般構造■に包含されない
。従来技術のヒドラジドはいずれも、その構造中に1個
より多い反応性ヒドラジド基を含有しない。 さらに、従来技術のHALSヒドラジドは、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド又は
ポリイミドに末端キャッピング基として結合することが
できるのみである。従来技術のHALSヒドラジドは、
ポリマーの主鎖中に組み込むことができない。 [0006] 定義 本明細書において、「2,2,6.6−チトラアルキル
ピペリジン」又は「22.6.6−テトラアルキル−4
−ピペリジニル基」と言った場合、随意にピペリジン基
の3位置を1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル基
で置換されたピペリジニル基、即ち次式(化9):
【9】
%式%
(式中、
R及びR1は下記に定義される通りである)の構造もま
た包含される。 用語「アシル」とは、カルボン酸からそのOH基を除去
してC(=○)基土に遊離の原子価を提供することによ
って生じる基を意味し、例えばDC(=○)OHはDC
(=○)置換基になり、これは一般的にDアシル基と称
される。 用語「ポリマー」又は「ポリマー組成物」には、ホモポ
リマー又は任意のタイプのコポリマーが包含される。 ある種の記号が1つの式中に1個より多く存在する場合
、それぞれの場合におけるその意味は互いに独立してい
るものとする。 [0007]
た包含される。 用語「アシル」とは、カルボン酸からそのOH基を除去
してC(=○)基土に遊離の原子価を提供することによ
って生じる基を意味し、例えばDC(=○)OHはDC
(=○)置換基になり、これは一般的にDアシル基と称
される。 用語「ポリマー」又は「ポリマー組成物」には、ホモポ
リマー又は任意のタイプのコポリマーが包含される。 ある種の記号が1つの式中に1個より多く存在する場合
、それぞれの場合におけるその意味は互いに独立してい
るものとする。 [0007]
本発明は、下記の式■ (化1)を有するN、 N“
−ヒドロカルビレンビス[N−(2,2,6,6−テト
ラアルキル−4−ピペリジニル)アミド酸ヒドラジド]
及びその誘導体に関する。
−ヒドロカルビレンビス[N−(2,2,6,6−テト
ラアルキル−4−ピペリジニル)アミド酸ヒドラジド]
及びその誘導体に関する。
【化1】
[式中、Rは
・水素、
・オキシル、
・ヒドロキシ、
1〜20個の炭素原子を有する置換若しくよ非置換脂肪
族、7〜22個の炭素原子を有する置換若しくよ非置換
アリール脂肪族、2〜20個の炭素原子を有する置換若
しくよ非置換脂肪族アシル、6〜13個の炭素原子を有
する置換若しくよ非置換脂環式アシル、・7〜20個の
炭素原子を有する置換若しくよ非置換芳香族アシル、・
8〜16個の炭素原子を有する置換若しくよ非置換アリ
ール脂肪族アシル(ここで、上記の置換された基の全て
についての置換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原子
を有するアルキル、1〜8個の炭素原子を有するアルコ
キシ、フェノキシ、シアノ、ヒドロキシ又はエポキシの
少なくとも1種である)°2〜9個の炭素原子を有する
アルコキシカルボニル、6〜13個の炭素原子を有する
シクロアルコキシカルボニル、・7〜15個の炭素原子
を有するアリールオキシカルボニル・−置換カルバモイ
ル (ここで、置換基は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル、5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル、
7、〜15個の炭素原子を有するアフレアルキル又(よ
6〜14個の炭素原子を有するアリールである)二置換
カルバモイル (ここで、置換基はそれぞれ1〜20個の炭素原子を有
するアルキレン5〜12個の炭素原子を有するシクロア
ルキル又は7〜15個の炭素原子を有するアルアルキル
である) ・2−シアノエチル、 ・2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル、・
3〜10個の炭素原子を有するエポキシアルキル又は ・4〜30個の炭素原子を有するポリアルキレンオキシ
ドであり、 R1は水素又は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキ
ルであり、R2は ・2〜18個の炭素原子を有するアルキレン、・4〜1
8個の炭素原子を有し且つ1〜2個の一〇− −S一又
は−NH−複素原子を含有するアルキレン(但し、複数
の複素原子は少なくとも1個の炭素原子によって互いに
隔離され且つ該アルキレン基の末端から隔離されていな
ければならない) 5〜18個の炭素原子を有するシクロアルキレン、14
〜18個の炭素原子を有するアルキリデンジシクロアル
キレン、14〜18個の炭素原子を有するシクロアルキ
レンジアルキレン、14〜18個の炭素原子を有するア
ルキレン−ジシクロアルキレン、°6〜12個の炭素原
子を有するアリーレン、13〜18個の炭素原子を有す
るアルキレンジアリーレン、14〜18個の炭素原子を
有するアルキリデンジアリーレン又は ・8〜18個の炭素原子を有するアルアルキレンであり
、 R3は ・直接結合、 1〜14個の炭素原子を有するアルキレン、・2〜10
個の炭素原子を有するアルケニレン、・4〜10個の炭
素原子を有するオキシジアルキレン、・4〜10個の炭
素原子を有するチオジアルキレン又は ・置換若しくは非置換o −m−若しくはp−フェニレ
ン(ここで、置換基は1〜6個の炭素原子を有する低級
アルキル、ヒドロキシ、臭素、塩素、メルカプト又は1
〜6個の炭素原子を有する低級アルキルメルカプトであ
る) であり、 R4は ・水素、 1〜8個の炭素原子を有するアルキル、・7〜12個の
炭素原子を有するアルアルキル又は ・5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキルであり
、 (=O) −N (R)一又は次の基(化2)であり、
族、7〜22個の炭素原子を有する置換若しくよ非置換
アリール脂肪族、2〜20個の炭素原子を有する置換若
しくよ非置換脂肪族アシル、6〜13個の炭素原子を有
する置換若しくよ非置換脂環式アシル、・7〜20個の
炭素原子を有する置換若しくよ非置換芳香族アシル、・
8〜16個の炭素原子を有する置換若しくよ非置換アリ
ール脂肪族アシル(ここで、上記の置換された基の全て
についての置換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原子
を有するアルキル、1〜8個の炭素原子を有するアルコ
キシ、フェノキシ、シアノ、ヒドロキシ又はエポキシの
少なくとも1種である)°2〜9個の炭素原子を有する
アルコキシカルボニル、6〜13個の炭素原子を有する
シクロアルコキシカルボニル、・7〜15個の炭素原子
を有するアリールオキシカルボニル・−置換カルバモイ
ル (ここで、置換基は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル、5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル、
7、〜15個の炭素原子を有するアフレアルキル又(よ
6〜14個の炭素原子を有するアリールである)二置換
カルバモイル (ここで、置換基はそれぞれ1〜20個の炭素原子を有
するアルキレン5〜12個の炭素原子を有するシクロア
ルキル又は7〜15個の炭素原子を有するアルアルキル
である) ・2−シアノエチル、 ・2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル、・
3〜10個の炭素原子を有するエポキシアルキル又は ・4〜30個の炭素原子を有するポリアルキレンオキシ
ドであり、 R1は水素又は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキ
ルであり、R2は ・2〜18個の炭素原子を有するアルキレン、・4〜1
8個の炭素原子を有し且つ1〜2個の一〇− −S一又
は−NH−複素原子を含有するアルキレン(但し、複数
の複素原子は少なくとも1個の炭素原子によって互いに
隔離され且つ該アルキレン基の末端から隔離されていな
ければならない) 5〜18個の炭素原子を有するシクロアルキレン、14
〜18個の炭素原子を有するアルキリデンジシクロアル
キレン、14〜18個の炭素原子を有するシクロアルキ
レンジアルキレン、14〜18個の炭素原子を有するア
ルキレン−ジシクロアルキレン、°6〜12個の炭素原
子を有するアリーレン、13〜18個の炭素原子を有す
るアルキレンジアリーレン、14〜18個の炭素原子を
有するアルキリデンジアリーレン又は ・8〜18個の炭素原子を有するアルアルキレンであり
、 R3は ・直接結合、 1〜14個の炭素原子を有するアルキレン、・2〜10
個の炭素原子を有するアルケニレン、・4〜10個の炭
素原子を有するオキシジアルキレン、・4〜10個の炭
素原子を有するチオジアルキレン又は ・置換若しくは非置換o −m−若しくはp−フェニレ
ン(ここで、置換基は1〜6個の炭素原子を有する低級
アルキル、ヒドロキシ、臭素、塩素、メルカプト又は1
〜6個の炭素原子を有する低級アルキルメルカプトであ
る) であり、 R4は ・水素、 1〜8個の炭素原子を有するアルキル、・7〜12個の
炭素原子を有するアルアルキル又は ・5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキルであり
、 (=O) −N (R)一又は次の基(化2)であり、
【化2】
ここで、R6は
・水素、
1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜12個の
炭素原子を有するシクロアルキル、・7〜12個の炭素
原子を有するアルアルキル又は 6〜14個の炭素原子を有するアリールであり、 R7は ・水素、 1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル、・2〜20
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂肪族アシル
、6〜13個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂
環式アシル、・8〜16個の炭素原子を有する置換若し
くは非置換アリール脂肪族アシル、・7〜20個の炭素
原子を有する置換若しくは非置換芳香族アシル(ここで
、置換されたアシル基についての置換基は、塩素、臭素
、1〜8個の炭素原子を有するアルキル、1〜8個の炭
素原子を有するアルコキシ、フェノキシシアノ、ヒドロ
キシ又はエポキシの少なくとも1種である)・2〜13
個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、6〜13
個の炭素原子を有するシクロアルコキシカルボニル、・
7〜15個の炭素原子を有するアリールオキシカルボニ
ル、・2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル
、・カルバモイル、 ・チオカルバモイル、 ・−置換カルバモイル若しくは一置換チオカルバモイル
(ここで、置換基は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル、3〜12個の炭素原子を有するアルケニル、5〜
12個の炭素原子を有するシクロアルキル、7〜15個
の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルアルキル又
は6〜14個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ア
リールである)又は 二置換カルバモイル若しくは二置換チオカルバモイル(
ここで、置換基はそれぞれ1〜20個の炭素原子を有す
るアルキル、5〜12個の炭素原子を有するシクロアル
キル、7〜15個の炭素原子を有する置換若しくは非置
換アルアルキル又は6〜14個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換アリールである) であり、 ここで、−置換及び二置換カルバモイル基の両方につい
ての置換されたアルアルキル基及び置換されたアリール
基についての置換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原
子を有するアルキル、3〜8個の炭素原子を有するアル
ケニル又は1〜8個の炭素原子を有するアルコキシの少
なくとも1種であり、R8及びR9はそれぞれ ・水素、 1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜12個の
炭素原子を有するシクロアルキル又は 6〜18個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリ
ール(ここで、置換基は1〜8個の炭素原子を有する低
級アルキル、1〜8個の炭素原子を有する低級アルコキ
シ、ヒドロキシ、臭素又は塩素である)であるか、或い
はR8及びR9が互いに結合して5〜12個の炭素原子
を有する置換若しくは非置換脂環式環(ここで、置換基
は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキルである)を
形成するか、又はR8及びR9が一緒になって5〜15
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ピペリジン環
(ここで、置換基は1〜4個の炭素原子を有する低級ア
ルキルである)を形成するかであり、R10(よ 6〜12個の炭素原子を有する置換若しくは非置換1,
2−アリーレン、10〜14個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換1.8−ナフチレン、・7〜13個の炭
素原子を有する置換若しくは非置換アルアルキレン、°
2〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換1.
2−アルキレン、°3〜10個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換1,3−アルキレン、・2〜10個の炭
素原子を有する置換若しくは非置換アルケン−1,2−
ジイル6〜10個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽
和の置換若しくは非置換シクロアルキレン 又は ・7〜8個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の置
換若しくは非置換ビシクロアルキレン であり、 ここで、R10についての置換基は ・塩素、 ・臭素、 1〜180個の炭素原子を有するアルキル、1〜180
個の炭素原子を有するアルキルチオ、・7〜20個の炭
素原子を有するアルアルキルチオ、6〜20個の炭素原
子を有するアリールチオ、・2〜180個の炭素原子を
有するアルケニル、6〜16個の炭素原子を有するアリ
ール、・7〜17個の炭素原子を有するアルアルキル、
・カルボキシル、 1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ、・6〜16個
の炭素原子を有するアリールオキシ、2〜10個の炭素
原子を有するアルコキシカルボニル又は ・3〜30個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル
アルキルチオであり、 Mは水素又はナトリウム、カリウム若しくはアンモニウ
ムイオンである。][0008] Rは好ましくは水素、1〜4個の炭素原子を有するアル
キル、3〜4個の炭素原子を有するアルケニル、ベンジ
ル、2−シアノエチル、アセチル又はベンゾイルである
。 Rはより好ましくは水素、メチル、アセチル又はベンゾ
イルである。 R1は好ましくは水素又はメチル、より好ましくは水素
である。 R2は好ましくは2〜12個の炭素原子を有するアルキ
レン、4〜12個の炭素原子を有し且つ1〜2個の一〇
−若しくは−NH−複素原子を含有するアルキレン(但
し、複数の複素原子は少なくとも1個の炭素原子によっ
て互いに隔離され且つ該アルキレン基の末端から隔離さ
れていなければならない) 5〜12個の炭素原子を
有するシクロアルキレン、6〜12個の炭素原子を有す
るアリーレン又は8〜12個の炭素原子を有するアルア
ルキレンである。 R2はより好ましくは2〜6個の炭素原子を有するアル
キレン又は4〜8個の炭素原子を有するオキシジアルキ
レンである。 R3は好ましくは直接結合、1〜8個の炭素原子を有す
るアルキレン又は0−m−若しくはp−フェニレンであ
る。 R3はより好ましくは直接結合又は1〜7個の炭素原子
を有するアルキレンである。 R4は好ましくは水素、1〜4個の炭素原子を有する第
1アルキル、3〜8個の炭素原子を有する第2アルキル
、ベンジル又はシクロヘキシルである。 R4はより好ましくは水素又はメチルである。 R6は好ましくは水素、1〜4個の炭素原子を有する低
級アルキル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルで
ある。 R6はより好ましくは水素である。 R7は好ましくは水素、メチル、エチル、シクロヘキシ
ル、2〜10個の炭素原子を有する脂肪族アシル、7〜
22個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリール
脂肪族アシル1.7〜15個の炭素原子を有する置換若
しくは非置換芳香族アシル(ここで、置換基は1〜5個
の炭素原子を有するアルキル、1〜5個の炭素原子を有
するアルコキシ又はヒドロキシの少なくとも1種である
) 2〜9個の炭素原子を有するアルコキシカルボニ
ル、7〜10個の炭素原子を有するアリールオキシカル
ボニル、2〜19個の炭素原子を有するアルキルカルバ
モイル6〜13個の炭素原子を有するシクロアルキルカ
ルバモイル、7〜10個の炭素原子を有するアリールカ
ルバモイル又は8〜14個の炭素原子を有するアルアル
キルカルバモイルである。 R7はより好ましくは水素、メチル、メチルカルバモイ
ル、プチルカルバモイル、オクタデシルカルバモイル、
フェニルカルバモイル、アセチル、プロピオニル、ベン
ゾイル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル又は
2−エチルヘキシルオキシカルボニルである。 R8及びR9は好ましくはそれぞれ水素、1〜8個の炭
素原子を有するアルキル、5〜6個の炭素原子を有する
シクロアルキル、6〜14個の炭素原子を有する置換若
しくは非置換アリール(ここで、置換基はヒドロキシ又
は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキルである)で
あるか、或いはR8及びR9が互いに結合して5〜8個
の炭素原子を有する脂環式環を形成するか又はR8及び
R9が一緒になってテトラアルキル置換ピペリジン環(
ここで、置換基はピペリジン環の2及び6位置における
メチル又はエチルである)を形成するかである。 R8及びR9はより好ましくはそれぞれ1〜4個の炭素
原子を有する低級アルキルであるか、或いはR8及びR
9が互いに結合して五若しくは六員脂肪族環を形成する
か又はR8及びR9が一緒になって2.2,6.6−テ
トラメチル−4−ピペリジニル環を形成するかである。 R10は好ましくは置換若しくは非置換1.2−エタン
ジイル、置換若しくは非置換1,2−エタンジイル、置
換若しくは非置換1,2−プロパンジイル、置換若しく
は非置換1,3−プロパンジイル、置換若しくは非置換
1,2−シクロヘキサンジイル、置換若しくは非置換4
−シクロヘキセン−1,2−ジイル、置換若しくは非置
換5−ノルボルネン−2,3−ジイル、置換若しくは非
置換2,3−ノルボルナンジイル1.置換若しくは非置
換ビシクロ[2,2,2]オクタ−5−エン−2,3−
ジイル又は置換若しくは非置換O−フェニレンであり、
ここで置換基は塩素、臭素、1〜36個の炭素原子を有
するアルキル、2〜36個の炭素原子を有するアルケニ
ル、6〜10個の炭素原子を有するアリール、7〜13
個の炭素原子を有するアルアルキル、1〜36個の炭素
原子を有するアルキルチオ、7〜14個の炭素原子を有
するアルアルキルチオ、6〜12個の炭素原子を有する
アリールチオ、カルボキシル、1〜8個の炭素原子を有
するアルコキシ6〜12個の炭素原子を有するアリール
オキシ又は2〜5個の炭素原子を有するアルコキシカル
ボニルである。 R10はより好ましくは1〜18個の炭素原子を有する
アルキルで若しくは2〜18個の炭素原子を有するアル
ケニルで置換された1、2−エタンジイル、1゜2−シ
クロヘキサンジイル、4−メチルシクロヘキサン−1,
2−ジイル、4−シクロヘキセン−1,2−ジイル、2
,3−ノルボルナンジイル、5−ノルボルネン−2,3
−ジイル、0−フェニレン又は4−メトキシカルボニル
−〇−フェニレンである。 Mは好ましくは水素又はナトリウムイオンであり、より
好ましくはMば水素である。 [0009] 本発明はまた、有効量の式■の化合物をポリマー系に含
有させることによって熱及び(又は)光の分解作用に対
してポリマー系を安定化させることをも包含する。 本発明はまた、式■の化合物の製造方法をも包含する。 [0010] 好ましい豆 例の詳細な言゛明 本発明の式■の化合物は、光安定化基及び熱安定化基を
同一分子中に含有する新規のポリマー添加剤である。 本発明はまた、2個の立体障害アミン系光安定化基と2
個のヒドラジド系熱安定化基とを同一分子中に含有する
新規のポリマー添加剤を提供する。 本発明はさらに、これら新規の添加剤を含有する安定化
されたポリマー組成物を提供する。 [0011] 前記の各種の成分R、、、R10基の代表的で非限定的
な例は下記の通りである:Rについて:水素、酸素、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル
、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル
、オクタデシル、アリル、2−メタリル、2−ブテニル
、2−へキセニル、10−ウンデセニル、2−ドデセニ
ル、プロパルギル、ベンジル、メチルベンジル、4−t
−ブチルベンジル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、カプロイル、カプリロイル、ラウロイル、ア
クリロイル、メタクリロイル、クロトニル、ベンゾイル
、0−メチルベンゾイル、35−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシ
カルボニル、シクロドデシルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル、0−メチルフェノキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、N、N−ジメチルカルバモイ
ル、N−ブチルカルバモイル、N−メチルカルバモイル
、N−オクタデシルカルバモイル、N−シクロヘキシル
カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−ベンジ
ルカルバモイル、2−シアノエチル、2−ヒドロキシエ
チル、2−ヒドロキシプロピル、2,3−エポキシプロ
ビル、ポリ(エチレンオキシ)又はポリ(プロピレンオ
キシ)。 R1について:水素、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル。 R2について:1,2−エタンジイル、1,2−プロパ
ンジイル、1,3−プロパンジイル、1,4−ブタンジ
イル、1,5−ペンタンジイル、1,6−ヘキサンジイ
ル、1.18−オクタデカンジイル、2,2−ジメチル
プロパン−1゜3−ジイル、2−メチルペンタン−2,
4−ジイル、1,10−デカンジイル、1.12−ドデ
カンジイル、3−オキサペンタン−1,5−ジイル、4
−オキサへブタン−1,7−ジイル、3,6−シオキサ
オクタンー1,8−ジイル、4゜9−ジオキサドデカン
−1,12−ジイル、4−メチルアザへブタン−1,4
−ジイル、3,6−ジアザ−3,6−シメチルー1,8
−オクタンジイル、3−メチル−3−アザペンタン−1
,5−ジイル、1,2−シクロヘキサンジイル、14−
シクロヘキサンジイル。 R3について:直接結合、メチレン、1,2−エタンジ
イル、1,2−プロパンジイル、1.3−プロパンジイ
ル、1,4−ブタンジイル、1,5−ペンタンジイル、
1.6−ヘキサンジイル、1,7−ヘプタンジイル、1
,8−オクタンジイル、1.10−デカンジイル、1,
12−ドデカンジイル、1.14−テトラデカンジイル
、エテニレン、2−ブテン−1,4−ジイル、3−ヘキ
セン−16−ジイル、5−デセン−1,10−ジイル、
4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル、5−オキサ−1
,9−ノナンジイル、3−チア−1,5−ペンタンジイ
ル、o−m−若しくはp−フェニレン、4−メチル−〇
−フェニレン、4−りロルーO−フェニレン又は4−メ
チルメルカプト−〇−フ二二レし。 R4について:水素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、ペン
チル、オクチル、2−エチルヘキシル、ベンジル、α−
メチルベンジル、4−sec−ブチル−α−メチルベン
ジル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチ
ル又はシクロドデシル。 R6について:水素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、t−
オクチル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、シクロヘプチル、シクロドデシル、ベンジル、α−メ
チルベンジル、4−t−ブチル−α−メチルベンジル、
α、α−ジメチルベンジル、フェニル、ナフチル、ビフ
ェニル又はフエナントリル。 R7について:水素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、t−
ブチル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、カプロイ
ル、ピバロイル、カプリロイル、ラウロイル、エイコサ
ノイル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニル、シクロドデカンカルボニル、ベンゾイル、0
−メチルベンゾイル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾイル、3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル、アクリロイル
、メタクリロイル、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、2−エチルヘキシ
ルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、シク
ロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカ
ルボニル、シクロドデシルオキシカルボニル、フェノキ
シカルボニル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシ
−2−メチルエチル、2−ヒドロキシへキシルカルバモ
イル、メチルカルバモイル、N、N−ジメチルカルバモ
イル、N、N−ジエチルカルバモイル、ブチルカルバモ
イル、オクチルカルバモイル、アリルカルバモイル、オ
クタデシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル
、シクロドデシルカルバモイル、フェニルカルバモイル
、ビフェニルカルバモイル、ナフチルカルバモイル、ベ
ンジルカルバモイル、α、α−ジメチルベンジルカルバ
モイル、α、α−ジメチルーm−イソプロペニルベンジ
ルカルバモイル、α、α−ジメチルーp−イソプロピル
ベンジルカルバモイル、メチルチオカルバモイル、ブチ
ルチオカルバモイル、オクタデシルチオカルバモイル、
シクロヘキシルチオカルバモイル、α、α−ジメチルベ
ンジルチオカルノ〈モイル、フェニルチオカルバモイル
、ナフチルチオカルバモイル又はフエナントリルチオカ
ルノくモイル。 R及びRそれぞれについて:水素、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、5ec−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシリレ、へブチルオクチル、2
−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロドデシル、フェニル、m−メ
トキシフェニル、p−クロルフェニル、0−ブロムフェ
ニル、p−ヒドロキシフェニル又は3,5−ジ−t−ブ
チクレー4−ヒドロキシフェニル。R8及びR9が互い
に結合する場合、これらはシクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロドデシ
ル、ピペリジニル又は2,2,6.6−テトラメチル−
4−ピペリジニル環を形成することができる。 R について:1,2−エテンジイル、1−クロル−1
.2−エテンジイル、1−フェニル−1,2−エテンジ
イル、1,2−エタンジイル、1,2−ブロンくンジイ
ル、1,3−プロパンジイル、1,2−シクロヘキサン
ジイル、4−シクロヘキセン−1,2−ジイル、4−メ
チルシクロヘキサン−1,2−ジイル、23−ノルボル
ナンジイル、5−ノルボルネン−2,3−ジイル、ビシ
クロ[22、2]オクタ−5−エン−2,3−ジイル、
O−フェニレン、4−カルボキシ−〇ーフェニレン、4
−メトキシカルボキシ−〇ーフェニレン、1−置換−1
2−エタンジイルにこて、置換基はアルキル又はアルケ
ニル、例えばメチルエチル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
ヘキセニル、イソへキセニル、ジイソブテニル、デセニ
ル、ドデセニル、イソドデセニル、オクテニル、ノネニ
ル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル
、イソオクタデセニル、ドリアコンテニル又はポリイソ
ブテニルである) 1−置換−1,2−エタンジイル
、5−置換−2,3−ノルボルナンジイル、5−置換−
ビシクロ[2,2.2]オクタン−2,3−ジイジレ又
(よ4−置換−1,2−シクロヘキサンジイル(ここで
、置換基はアルキルチオ、アルアルキルチオ又はアリー
ルチオ、例えばメチルチオ、エチルチオ、ブチルチオへ
キシルチオ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ、オクタ
デシルチオ、2−ヒドロキシエチルチオ、フェニルチオ
、ベンジルチオ、3,5−ジーt−ブチフレー4−ヒド
ロキシフェニルチオ又は3−t−ブチル−5−メチル−
4−ヒドロキシベンジルチオである)。 [0012] 式■においてR5がH2N−であり且つR4が水素であ
るものに相当する、式IIIで示される新規のN、 N
’−ヒドロカルビレンビス[N−(2,2,6,6テト
ラアルキルー4−ピペリジニル)アミド酸ヒドラジド]
は、対応するN、N−ヒドロカルビレンビス[N−(2
,2,6,6−テトラアルキル−4−ピペリジニル)ア
ミド酸]の低級アルキルジエステル(以下においては「
ビス(半エステル−半アミド)」と称する)(式II)
のヒドラジン又はヒドラジン水和物によるヒドラジツリ
シスすることによって製造される。 式I王の中間体ビス(半エステル−半アミド)は周知で
あり、その製造方法は英国特許出願GB2174093
号に対応する米国特許及び米国特許第4348524号
に記載されている。 ビス(半エステル−半アミド)の置換されていない立体
障害アミン官能基(式IIにおいてRがHであるもの)
′は、該非置換アミンとハロゲン化アルキル、硫酸ジメ
チル、脂肪族、脂環式及び芳香族酸のクロリド、クロル
蟻酸の脂肪族、脂環式及び芳香族エステル、ジアルキル
カルバモイルクロリド、脂肪族、脂環式及び芳香族イン
シアネート、アクリロニトリル、脂肪族エポキシド、エ
ピクロルヒドリン類並びにアルキレンオキシドと反応す
ることによって誘導体化させることができる。これらの
技術は、米国特許第4348524号、同第41916
83号及び1987年4月22日付はヨーロッパ特許出
願公開第219333号に開示されている。オキシル置
換基は、非置換アミンをタングステン触媒の存在下で過
酸又は過酸化水素と反応させることによって立体障害を
受けた窒素原子上に導入スルコトができる(米国特許第
4348524号)。このオキシル基は、水素基供与体
の存在下でヒドロキシル基に転化させることができる。 上記の一般的製造方法は、下記の反応式(化10)によ
って示される。
炭素原子を有するシクロアルキル、・7〜12個の炭素
原子を有するアルアルキル又は 6〜14個の炭素原子を有するアリールであり、 R7は ・水素、 1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル、・2〜20
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂肪族アシル
、6〜13個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂
環式アシル、・8〜16個の炭素原子を有する置換若し
くは非置換アリール脂肪族アシル、・7〜20個の炭素
原子を有する置換若しくは非置換芳香族アシル(ここで
、置換されたアシル基についての置換基は、塩素、臭素
、1〜8個の炭素原子を有するアルキル、1〜8個の炭
素原子を有するアルコキシ、フェノキシシアノ、ヒドロ
キシ又はエポキシの少なくとも1種である)・2〜13
個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、6〜13
個の炭素原子を有するシクロアルコキシカルボニル、・
7〜15個の炭素原子を有するアリールオキシカルボニ
ル、・2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル
、・カルバモイル、 ・チオカルバモイル、 ・−置換カルバモイル若しくは一置換チオカルバモイル
(ここで、置換基は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル、3〜12個の炭素原子を有するアルケニル、5〜
12個の炭素原子を有するシクロアルキル、7〜15個
の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルアルキル又
は6〜14個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ア
リールである)又は 二置換カルバモイル若しくは二置換チオカルバモイル(
ここで、置換基はそれぞれ1〜20個の炭素原子を有す
るアルキル、5〜12個の炭素原子を有するシクロアル
キル、7〜15個の炭素原子を有する置換若しくは非置
換アルアルキル又は6〜14個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換アリールである) であり、 ここで、−置換及び二置換カルバモイル基の両方につい
ての置換されたアルアルキル基及び置換されたアリール
基についての置換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原
子を有するアルキル、3〜8個の炭素原子を有するアル
ケニル又は1〜8個の炭素原子を有するアルコキシの少
なくとも1種であり、R8及びR9はそれぞれ ・水素、 1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜12個の
炭素原子を有するシクロアルキル又は 6〜18個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリ
ール(ここで、置換基は1〜8個の炭素原子を有する低
級アルキル、1〜8個の炭素原子を有する低級アルコキ
シ、ヒドロキシ、臭素又は塩素である)であるか、或い
はR8及びR9が互いに結合して5〜12個の炭素原子
を有する置換若しくは非置換脂環式環(ここで、置換基
は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキルである)を
形成するか、又はR8及びR9が一緒になって5〜15
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ピペリジン環
(ここで、置換基は1〜4個の炭素原子を有する低級ア
ルキルである)を形成するかであり、R10(よ 6〜12個の炭素原子を有する置換若しくは非置換1,
2−アリーレン、10〜14個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換1.8−ナフチレン、・7〜13個の炭
素原子を有する置換若しくは非置換アルアルキレン、°
2〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換1.
2−アルキレン、°3〜10個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換1,3−アルキレン、・2〜10個の炭
素原子を有する置換若しくは非置換アルケン−1,2−
ジイル6〜10個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽
和の置換若しくは非置換シクロアルキレン 又は ・7〜8個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の置
換若しくは非置換ビシクロアルキレン であり、 ここで、R10についての置換基は ・塩素、 ・臭素、 1〜180個の炭素原子を有するアルキル、1〜180
個の炭素原子を有するアルキルチオ、・7〜20個の炭
素原子を有するアルアルキルチオ、6〜20個の炭素原
子を有するアリールチオ、・2〜180個の炭素原子を
有するアルケニル、6〜16個の炭素原子を有するアリ
ール、・7〜17個の炭素原子を有するアルアルキル、
・カルボキシル、 1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ、・6〜16個
の炭素原子を有するアリールオキシ、2〜10個の炭素
原子を有するアルコキシカルボニル又は ・3〜30個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル
アルキルチオであり、 Mは水素又はナトリウム、カリウム若しくはアンモニウ
ムイオンである。][0008] Rは好ましくは水素、1〜4個の炭素原子を有するアル
キル、3〜4個の炭素原子を有するアルケニル、ベンジ
ル、2−シアノエチル、アセチル又はベンゾイルである
。 Rはより好ましくは水素、メチル、アセチル又はベンゾ
イルである。 R1は好ましくは水素又はメチル、より好ましくは水素
である。 R2は好ましくは2〜12個の炭素原子を有するアルキ
レン、4〜12個の炭素原子を有し且つ1〜2個の一〇
−若しくは−NH−複素原子を含有するアルキレン(但
し、複数の複素原子は少なくとも1個の炭素原子によっ
て互いに隔離され且つ該アルキレン基の末端から隔離さ
れていなければならない) 5〜12個の炭素原子を
有するシクロアルキレン、6〜12個の炭素原子を有す
るアリーレン又は8〜12個の炭素原子を有するアルア
ルキレンである。 R2はより好ましくは2〜6個の炭素原子を有するアル
キレン又は4〜8個の炭素原子を有するオキシジアルキ
レンである。 R3は好ましくは直接結合、1〜8個の炭素原子を有す
るアルキレン又は0−m−若しくはp−フェニレンであ
る。 R3はより好ましくは直接結合又は1〜7個の炭素原子
を有するアルキレンである。 R4は好ましくは水素、1〜4個の炭素原子を有する第
1アルキル、3〜8個の炭素原子を有する第2アルキル
、ベンジル又はシクロヘキシルである。 R4はより好ましくは水素又はメチルである。 R6は好ましくは水素、1〜4個の炭素原子を有する低
級アルキル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルで
ある。 R6はより好ましくは水素である。 R7は好ましくは水素、メチル、エチル、シクロヘキシ
ル、2〜10個の炭素原子を有する脂肪族アシル、7〜
22個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリール
脂肪族アシル1.7〜15個の炭素原子を有する置換若
しくは非置換芳香族アシル(ここで、置換基は1〜5個
の炭素原子を有するアルキル、1〜5個の炭素原子を有
するアルコキシ又はヒドロキシの少なくとも1種である
) 2〜9個の炭素原子を有するアルコキシカルボニ
ル、7〜10個の炭素原子を有するアリールオキシカル
ボニル、2〜19個の炭素原子を有するアルキルカルバ
モイル6〜13個の炭素原子を有するシクロアルキルカ
ルバモイル、7〜10個の炭素原子を有するアリールカ
ルバモイル又は8〜14個の炭素原子を有するアルアル
キルカルバモイルである。 R7はより好ましくは水素、メチル、メチルカルバモイ
ル、プチルカルバモイル、オクタデシルカルバモイル、
フェニルカルバモイル、アセチル、プロピオニル、ベン
ゾイル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル又は
2−エチルヘキシルオキシカルボニルである。 R8及びR9は好ましくはそれぞれ水素、1〜8個の炭
素原子を有するアルキル、5〜6個の炭素原子を有する
シクロアルキル、6〜14個の炭素原子を有する置換若
しくは非置換アリール(ここで、置換基はヒドロキシ又
は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキルである)で
あるか、或いはR8及びR9が互いに結合して5〜8個
の炭素原子を有する脂環式環を形成するか又はR8及び
R9が一緒になってテトラアルキル置換ピペリジン環(
ここで、置換基はピペリジン環の2及び6位置における
メチル又はエチルである)を形成するかである。 R8及びR9はより好ましくはそれぞれ1〜4個の炭素
原子を有する低級アルキルであるか、或いはR8及びR
9が互いに結合して五若しくは六員脂肪族環を形成する
か又はR8及びR9が一緒になって2.2,6.6−テ
トラメチル−4−ピペリジニル環を形成するかである。 R10は好ましくは置換若しくは非置換1.2−エタン
ジイル、置換若しくは非置換1,2−エタンジイル、置
換若しくは非置換1,2−プロパンジイル、置換若しく
は非置換1,3−プロパンジイル、置換若しくは非置換
1,2−シクロヘキサンジイル、置換若しくは非置換4
−シクロヘキセン−1,2−ジイル、置換若しくは非置
換5−ノルボルネン−2,3−ジイル、置換若しくは非
置換2,3−ノルボルナンジイル1.置換若しくは非置
換ビシクロ[2,2,2]オクタ−5−エン−2,3−
ジイル又は置換若しくは非置換O−フェニレンであり、
ここで置換基は塩素、臭素、1〜36個の炭素原子を有
するアルキル、2〜36個の炭素原子を有するアルケニ
ル、6〜10個の炭素原子を有するアリール、7〜13
個の炭素原子を有するアルアルキル、1〜36個の炭素
原子を有するアルキルチオ、7〜14個の炭素原子を有
するアルアルキルチオ、6〜12個の炭素原子を有する
アリールチオ、カルボキシル、1〜8個の炭素原子を有
するアルコキシ6〜12個の炭素原子を有するアリール
オキシ又は2〜5個の炭素原子を有するアルコキシカル
ボニルである。 R10はより好ましくは1〜18個の炭素原子を有する
アルキルで若しくは2〜18個の炭素原子を有するアル
ケニルで置換された1、2−エタンジイル、1゜2−シ
クロヘキサンジイル、4−メチルシクロヘキサン−1,
2−ジイル、4−シクロヘキセン−1,2−ジイル、2
,3−ノルボルナンジイル、5−ノルボルネン−2,3
−ジイル、0−フェニレン又は4−メトキシカルボニル
−〇−フェニレンである。 Mは好ましくは水素又はナトリウムイオンであり、より
好ましくはMば水素である。 [0009] 本発明はまた、有効量の式■の化合物をポリマー系に含
有させることによって熱及び(又は)光の分解作用に対
してポリマー系を安定化させることをも包含する。 本発明はまた、式■の化合物の製造方法をも包含する。 [0010] 好ましい豆 例の詳細な言゛明 本発明の式■の化合物は、光安定化基及び熱安定化基を
同一分子中に含有する新規のポリマー添加剤である。 本発明はまた、2個の立体障害アミン系光安定化基と2
個のヒドラジド系熱安定化基とを同一分子中に含有する
新規のポリマー添加剤を提供する。 本発明はさらに、これら新規の添加剤を含有する安定化
されたポリマー組成物を提供する。 [0011] 前記の各種の成分R、、、R10基の代表的で非限定的
な例は下記の通りである:Rについて:水素、酸素、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル
、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル
、オクタデシル、アリル、2−メタリル、2−ブテニル
、2−へキセニル、10−ウンデセニル、2−ドデセニ
ル、プロパルギル、ベンジル、メチルベンジル、4−t
−ブチルベンジル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、カプロイル、カプリロイル、ラウロイル、ア
クリロイル、メタクリロイル、クロトニル、ベンゾイル
、0−メチルベンゾイル、35−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシ
カルボニル、シクロドデシルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル、0−メチルフェノキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、N、N−ジメチルカルバモイ
ル、N−ブチルカルバモイル、N−メチルカルバモイル
、N−オクタデシルカルバモイル、N−シクロヘキシル
カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−ベンジ
ルカルバモイル、2−シアノエチル、2−ヒドロキシエ
チル、2−ヒドロキシプロピル、2,3−エポキシプロ
ビル、ポリ(エチレンオキシ)又はポリ(プロピレンオ
キシ)。 R1について:水素、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル。 R2について:1,2−エタンジイル、1,2−プロパ
ンジイル、1,3−プロパンジイル、1,4−ブタンジ
イル、1,5−ペンタンジイル、1,6−ヘキサンジイ
ル、1.18−オクタデカンジイル、2,2−ジメチル
プロパン−1゜3−ジイル、2−メチルペンタン−2,
4−ジイル、1,10−デカンジイル、1.12−ドデ
カンジイル、3−オキサペンタン−1,5−ジイル、4
−オキサへブタン−1,7−ジイル、3,6−シオキサ
オクタンー1,8−ジイル、4゜9−ジオキサドデカン
−1,12−ジイル、4−メチルアザへブタン−1,4
−ジイル、3,6−ジアザ−3,6−シメチルー1,8
−オクタンジイル、3−メチル−3−アザペンタン−1
,5−ジイル、1,2−シクロヘキサンジイル、14−
シクロヘキサンジイル。 R3について:直接結合、メチレン、1,2−エタンジ
イル、1,2−プロパンジイル、1.3−プロパンジイ
ル、1,4−ブタンジイル、1,5−ペンタンジイル、
1.6−ヘキサンジイル、1,7−ヘプタンジイル、1
,8−オクタンジイル、1.10−デカンジイル、1,
12−ドデカンジイル、1.14−テトラデカンジイル
、エテニレン、2−ブテン−1,4−ジイル、3−ヘキ
セン−16−ジイル、5−デセン−1,10−ジイル、
4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル、5−オキサ−1
,9−ノナンジイル、3−チア−1,5−ペンタンジイ
ル、o−m−若しくはp−フェニレン、4−メチル−〇
−フェニレン、4−りロルーO−フェニレン又は4−メ
チルメルカプト−〇−フ二二レし。 R4について:水素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、ペン
チル、オクチル、2−エチルヘキシル、ベンジル、α−
メチルベンジル、4−sec−ブチル−α−メチルベン
ジル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチ
ル又はシクロドデシル。 R6について:水素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、t−
オクチル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、シクロヘプチル、シクロドデシル、ベンジル、α−メ
チルベンジル、4−t−ブチル−α−メチルベンジル、
α、α−ジメチルベンジル、フェニル、ナフチル、ビフ
ェニル又はフエナントリル。 R7について:水素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、t−
ブチル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、カプロイ
ル、ピバロイル、カプリロイル、ラウロイル、エイコサ
ノイル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニル、シクロドデカンカルボニル、ベンゾイル、0
−メチルベンゾイル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾイル、3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル、アクリロイル
、メタクリロイル、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、2−エチルヘキシ
ルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、シク
ロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカ
ルボニル、シクロドデシルオキシカルボニル、フェノキ
シカルボニル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシ
−2−メチルエチル、2−ヒドロキシへキシルカルバモ
イル、メチルカルバモイル、N、N−ジメチルカルバモ
イル、N、N−ジエチルカルバモイル、ブチルカルバモ
イル、オクチルカルバモイル、アリルカルバモイル、オ
クタデシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル
、シクロドデシルカルバモイル、フェニルカルバモイル
、ビフェニルカルバモイル、ナフチルカルバモイル、ベ
ンジルカルバモイル、α、α−ジメチルベンジルカルバ
モイル、α、α−ジメチルーm−イソプロペニルベンジ
ルカルバモイル、α、α−ジメチルーp−イソプロピル
ベンジルカルバモイル、メチルチオカルバモイル、ブチ
ルチオカルバモイル、オクタデシルチオカルバモイル、
シクロヘキシルチオカルバモイル、α、α−ジメチルベ
ンジルチオカルノ〈モイル、フェニルチオカルバモイル
、ナフチルチオカルバモイル又はフエナントリルチオカ
ルノくモイル。 R及びRそれぞれについて:水素、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、5ec−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシリレ、へブチルオクチル、2
−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロドデシル、フェニル、m−メ
トキシフェニル、p−クロルフェニル、0−ブロムフェ
ニル、p−ヒドロキシフェニル又は3,5−ジ−t−ブ
チクレー4−ヒドロキシフェニル。R8及びR9が互い
に結合する場合、これらはシクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロドデシ
ル、ピペリジニル又は2,2,6.6−テトラメチル−
4−ピペリジニル環を形成することができる。 R について:1,2−エテンジイル、1−クロル−1
.2−エテンジイル、1−フェニル−1,2−エテンジ
イル、1,2−エタンジイル、1,2−ブロンくンジイ
ル、1,3−プロパンジイル、1,2−シクロヘキサン
ジイル、4−シクロヘキセン−1,2−ジイル、4−メ
チルシクロヘキサン−1,2−ジイル、23−ノルボル
ナンジイル、5−ノルボルネン−2,3−ジイル、ビシ
クロ[22、2]オクタ−5−エン−2,3−ジイル、
O−フェニレン、4−カルボキシ−〇ーフェニレン、4
−メトキシカルボキシ−〇ーフェニレン、1−置換−1
2−エタンジイルにこて、置換基はアルキル又はアルケ
ニル、例えばメチルエチル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
ヘキセニル、イソへキセニル、ジイソブテニル、デセニ
ル、ドデセニル、イソドデセニル、オクテニル、ノネニ
ル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル
、イソオクタデセニル、ドリアコンテニル又はポリイソ
ブテニルである) 1−置換−1,2−エタンジイル
、5−置換−2,3−ノルボルナンジイル、5−置換−
ビシクロ[2,2.2]オクタン−2,3−ジイジレ又
(よ4−置換−1,2−シクロヘキサンジイル(ここで
、置換基はアルキルチオ、アルアルキルチオ又はアリー
ルチオ、例えばメチルチオ、エチルチオ、ブチルチオへ
キシルチオ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ、オクタ
デシルチオ、2−ヒドロキシエチルチオ、フェニルチオ
、ベンジルチオ、3,5−ジーt−ブチフレー4−ヒド
ロキシフェニルチオ又は3−t−ブチル−5−メチル−
4−ヒドロキシベンジルチオである)。 [0012] 式■においてR5がH2N−であり且つR4が水素であ
るものに相当する、式IIIで示される新規のN、 N
’−ヒドロカルビレンビス[N−(2,2,6,6テト
ラアルキルー4−ピペリジニル)アミド酸ヒドラジド]
は、対応するN、N−ヒドロカルビレンビス[N−(2
,2,6,6−テトラアルキル−4−ピペリジニル)ア
ミド酸]の低級アルキルジエステル(以下においては「
ビス(半エステル−半アミド)」と称する)(式II)
のヒドラジン又はヒドラジン水和物によるヒドラジツリ
シスすることによって製造される。 式I王の中間体ビス(半エステル−半アミド)は周知で
あり、その製造方法は英国特許出願GB2174093
号に対応する米国特許及び米国特許第4348524号
に記載されている。 ビス(半エステル−半アミド)の置換されていない立体
障害アミン官能基(式IIにおいてRがHであるもの)
′は、該非置換アミンとハロゲン化アルキル、硫酸ジメ
チル、脂肪族、脂環式及び芳香族酸のクロリド、クロル
蟻酸の脂肪族、脂環式及び芳香族エステル、ジアルキル
カルバモイルクロリド、脂肪族、脂環式及び芳香族イン
シアネート、アクリロニトリル、脂肪族エポキシド、エ
ピクロルヒドリン類並びにアルキレンオキシドと反応す
ることによって誘導体化させることができる。これらの
技術は、米国特許第4348524号、同第41916
83号及び1987年4月22日付はヨーロッパ特許出
願公開第219333号に開示されている。オキシル置
換基は、非置換アミンをタングステン触媒の存在下で過
酸又は過酸化水素と反応させることによって立体障害を
受けた窒素原子上に導入スルコトができる(米国特許第
4348524号)。このオキシル基は、水素基供与体
の存在下でヒドロキシル基に転化させることができる。 上記の一般的製造方法は、下記の反応式(化10)によ
って示される。
【化10】
好ましくは、この反応はメタノール又はエタノール中で
ヒドラジン又はヒドラジン水和物を用いて実施される。 この反応は一般的にオキサミド酸エステルを用いた場合
には室温において進行し、他のアミド酸エステルを用い
た場合には一般的に加熱又は還流を必要とする。 [0013] 式1においてRが(R) (R)C=N−であり且つR
4が水素である、式■vで示される新規のヒドラゾン誘
導体は、式IIIのビスHALSアミド酸ヒドラジドを
不活性溶媒中、好ましくは炭化水素溶媒中で共沸条件下
でケトン、アルデヒド又はホルムアルデヒドと反応させ
ることによって製造することができる。方法Aの反応は
、下記の反応式(化11)によって示される。
ヒドラジン又はヒドラジン水和物を用いて実施される。 この反応は一般的にオキサミド酸エステルを用いた場合
には室温において進行し、他のアミド酸エステルを用い
た場合には一般的に加熱又は還流を必要とする。 [0013] 式1においてRが(R) (R)C=N−であり且つR
4が水素である、式■vで示される新規のヒドラゾン誘
導体は、式IIIのビスHALSアミド酸ヒドラジドを
不活性溶媒中、好ましくは炭化水素溶媒中で共沸条件下
でケトン、アルデヒド又はホルムアルデヒドと反応させ
ることによって製造することができる。方法Aの反応は
、下記の反応式(化11)によって示される。
【化11】
(式中、R,RRRR及びR9は上で広く定義した通り
であり、R4は水素である) 好適ナケトンの非限定的な例には、アセトン、メチルエ
チルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘ
キサノン、2−デカノン、3−メチル−2−ペンタノン
、4−メチル−2−ペンタノン、4−メトキシ−4−メ
チル−2−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキ
サノン、シクロオクタノン、シクロドデカノン、2.6
−シメチルー4−ヘプタノン、3,5−ジメチル−4−
ヘプタノン、2,4−ジメチル−3−ペンタノン、1.
3−ジフェニルアセトン、2−オクタノン、3−オクタ
ノン、ジヒドロイソホロン、4−t−ブチルシクロヘキ
サノン、メチルシクロへキシルケトン、アセトフェノン
、4−ピペリドン、2,26.6−テトラメチル−4−
ピペリドン及び2.6−ダニチル−2,6−シメチルー
4−ピペリドンが包含される。 好適なアルデヒドの非限定的な例には、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒドブチルアルデヒド、ドデシルアル
デヒド、2−エチルブチルアルデヒド、ヘプトアルデヒ
ド、イソブチルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、オ
クチルアルデヒド、プロピオンアルデヒド、バレルアル
デヒド、ベンズアルデヒド、3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンズアルデヒド、2.3−ジメチル−
p−アニスアルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、1−ナフトアルデヒド、サリチルアルデヒド、p−
トルアルデヒド及び2,3.4−)リメトキシベンズア
ルデヒドが包含される。 [0014] 方法具 式■においてRoが(R8)(R9)C=N−であり且
つR,RI R2R3R4R8及びR9が上で広く定義
した通りである(即ちR4が水素である必要がない)
式IVで示される新規のヒドラゾン誘導体は、下記の反
応式(化12)で示されるように、弐V(式中、R4R
8及びR9は上で広く定義した通りである)で示される
ケトンヒドラゾン又はアルデヒドヒドラゾンを式IIの
ビス(半エステル−半アミド)と反応させることによっ
て製造することができる。
であり、R4は水素である) 好適ナケトンの非限定的な例には、アセトン、メチルエ
チルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘ
キサノン、2−デカノン、3−メチル−2−ペンタノン
、4−メチル−2−ペンタノン、4−メトキシ−4−メ
チル−2−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキ
サノン、シクロオクタノン、シクロドデカノン、2.6
−シメチルー4−ヘプタノン、3,5−ジメチル−4−
ヘプタノン、2,4−ジメチル−3−ペンタノン、1.
3−ジフェニルアセトン、2−オクタノン、3−オクタ
ノン、ジヒドロイソホロン、4−t−ブチルシクロヘキ
サノン、メチルシクロへキシルケトン、アセトフェノン
、4−ピペリドン、2,26.6−テトラメチル−4−
ピペリドン及び2.6−ダニチル−2,6−シメチルー
4−ピペリドンが包含される。 好適なアルデヒドの非限定的な例には、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒドブチルアルデヒド、ドデシルアル
デヒド、2−エチルブチルアルデヒド、ヘプトアルデヒ
ド、イソブチルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、オ
クチルアルデヒド、プロピオンアルデヒド、バレルアル
デヒド、ベンズアルデヒド、3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンズアルデヒド、2.3−ジメチル−
p−アニスアルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、1−ナフトアルデヒド、サリチルアルデヒド、p−
トルアルデヒド及び2,3.4−)リメトキシベンズア
ルデヒドが包含される。 [0014] 方法具 式■においてRoが(R8)(R9)C=N−であり且
つR,RI R2R3R4R8及びR9が上で広く定義
した通りである(即ちR4が水素である必要がない)
式IVで示される新規のヒドラゾン誘導体は、下記の反
応式(化12)で示されるように、弐V(式中、R4R
8及びR9は上で広く定義した通りである)で示される
ケトンヒドラゾン又はアルデヒドヒドラゾンを式IIの
ビス(半エステル−半アミド)と反応させることによっ
て製造することができる。
【化12】
この反応は、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール又はテトラヒドロフラン(THF)のような乾
燥不活性極性溶媒中で実施される。通常、この)につい
ては室温〜40℃において実施される。他のアミド酸誘
導体を形成させるためにはこの反応は加熱又は還流を必
要とする。 好適な弐■のヒドラゾンの非限定的な例には、アセトン
ヒドラゾン、2−ブタノンヒドラゾン、シクロへキザノ
ンヒドラゾン、アセトフェノンヒドラゾン、ベンゾフェ
ノンヒドラゾン、アセトンメチルヒドラゾン、アセトン
エチルヒドラゾン、アセトンイソブチルヒドラゾン、2
−ブタノンシクロへキシルヒドラゾン、シクロヘキサノ
ンベンジルヒドラゾン、2−ペンタノンシクロドデシル
ヒドラゾン及び2−ヘキサノンイソプロピルヒドラゾン
が包含される。 [0015] 製造■の方法Bによって製造された、R4が1〜8個の
炭素原子を有するアルキル、7〜12個の炭素原子を有
するアルアルキル又は5〜12個の炭素原子を有するシ
クロアルキルである式IVの新規のヒドラゾンは、加水
分解することによって式VIで示されるような置換ヒド
ラジド(即ち、式■においてRがR2N−であるもの)
にすることができる。この方法は、下記の反応式(化1
3)によって示される。
ルコール又はテトラヒドロフラン(THF)のような乾
燥不活性極性溶媒中で実施される。通常、この)につい
ては室温〜40℃において実施される。他のアミド酸誘
導体を形成させるためにはこの反応は加熱又は還流を必
要とする。 好適な弐■のヒドラゾンの非限定的な例には、アセトン
ヒドラゾン、2−ブタノンヒドラゾン、シクロへキザノ
ンヒドラゾン、アセトフェノンヒドラゾン、ベンゾフェ
ノンヒドラゾン、アセトンメチルヒドラゾン、アセトン
エチルヒドラゾン、アセトンイソブチルヒドラゾン、2
−ブタノンシクロへキシルヒドラゾン、シクロヘキサノ
ンベンジルヒドラゾン、2−ペンタノンシクロドデシル
ヒドラゾン及び2−ヘキサノンイソプロピルヒドラゾン
が包含される。 [0015] 製造■の方法Bによって製造された、R4が1〜8個の
炭素原子を有するアルキル、7〜12個の炭素原子を有
するアルアルキル又は5〜12個の炭素原子を有するシ
クロアルキルである式IVの新規のヒドラゾンは、加水
分解することによって式VIで示されるような置換ヒド
ラジド(即ち、式■においてRがR2N−であるもの)
にすることができる。この方法は、下記の反応式(化1
3)によって示される。
【化13】
(式中、R,RRR及びR4は上で広く定義した通りで
ある)この加水分解反応は、水又は水性アルコール中で
実施される。これは少量の硫酸又は塩酸によって触媒作
用を受は得る。しかしながら、酸触媒を用IJ)だ場合
、生成物を単離する前に反応混合物を中和すべきである
。好ましくは、この加水分解はアセトン誘導体又は2−
ブタノン誘導体(即ち、式IVにおいてR8がメチルで
あり且つR9がメチル又はエチルであるもの)について
実施され、この際、水性反応混合物を加熱し、このアセ
トン又は2−ブタノンは生成した時に留去させる。 [0016] 式■においてR5が(R6)(R7)N−であり、R6
が水素であり且つR7が−置換カルバモイル又は−置換
チオカルバモイルである、式VIIで示される新規のカ
ルバモイル及びチオカルバモイル誘導体は、下記の反応
式(化14)で示されるように、式VIのビスHALS
アミド酸ヒドラジドと式VIIIで示されるイソシアネ
ート又はインチオシアネートとを反応させることによっ
て製造することができる。 (式中、Xは○又はSであり、 R,R】R2R3及びR4は上で広く定義した通りであ
り、R6は水素であり、 R12は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、3〜
12個の炭素原子を有するアルケニル、5〜12個の炭
素原子を有するシクロアルキル、7〜15個の炭素原子
を有する置換若しくは非置換アルアルキル又は6〜14
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリールであ
り、ここで、アルアルキル及びアリール基についての置
換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原子を有するアル
キル、3〜8個の炭素原子を有するアルケニル又は1〜
8個の炭素原子を有するアルコキシの少なくとも1種で
ある) この反応は、ジニチルエーテル、メチルt−ブチルエー
テル、THF又はジメチルホルムアミド(DMF)のよ
うな非プロトン系極性溶媒中で実施される。この反応は
通常室温において起こるカミ しかし、反応成分が完全
に反応することを確実にするために、反応混合物の穏や
かな加熱を用いることもできる。 好適なイソシアネートの非限定的な例には、アリルイソ
シアネート、ベンジルイソシアネート n−ブチルイソ
シアネート、t−ブチルインシアネート、シクロヘキシ
ルイソシアネート、エチルイソシアネート、イソプロピ
ルイソシアネート、4−メトキシフェニルイソシアネー
ト、メチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネー
ト、1−ナフチルイソシアネート、フェニルイソシアネ
ート、Om−及びp−)リルイソシアネート並びにジメ
チル−m−イソプロペニルベンジルイソシアネートが包
含される。 好適なイソチオシアネートの非限定的な例には、アリル
イソチオシアネート、ベンジルインチオシアネート、4
−ブロムフェニルインチオシアネート・n−ブチルイソ
チオシアネート、t−ブチルイソチオシアネート、3−
クロルフェニルインチオシアネート、シクロヘキシルイ
ソチオシアネート、エチルインチオシアネート、メチル
イソチオシアネート、1−ナフチルインチオシアネート
、t−オクチルインチオシアネート、フェネチルイソチ
オシアネート、フェニルインチオシアネート、プロビル
インチオシアネ〜 ト並びに〇−及びp−)リルイソチ
オシアネートが包含される。 [0017] 方法用 式■においてRが(R) (R)N−であり、Rが水素
であり且つR7が二置換カルバモイルである、式IXで
示される新規のカルバモイル誘導体は、下記の反応式(
化15)で示されるように、式VIのビスHALSアミ
ド酸ヒドラジドを式Xで示されるN、N−二置換カルバ
モイルクロリドと反応させることによって製造すること
ができる。 する置換若しくは非置換アリールであり、ここで、アル
アルキル及びアリール基についての置換基は、塩素、臭
素、1〜8個の炭素原子を有するアルキル、3〜8個の
炭素原子を有するアルケニル又は1〜8個の炭素原子を
有するアルコキシの少なくとも1種である) この反応は、塩化メチレン又はクロロホルムのような非
極性溶媒中で室温において実施される。Rがアシル、カ
ルバモイル、アルコキシ、シクロアルコキシ又はアリー
ルオキシカルボニル基ではない場合、この立体障害アミ
ンは酸受容体として作用し、式IXの化合物の塩酸塩が
生成する。式IXの誘導体は、この塩酸塩を希水酸化ナ
トリウムで中和することによって単離することができる
。 好適なN、N−二置換カルバモイルクロリドの非限定的
な例には、N、N−ジメチルカルバモイルクロリド及び
N、N−ジエチルカルバモイルクロリドが包含される。 [0018] 方法旦 式■においてRが(R) (R)N−であり、R4及
びR6が上で広く定義した通りであり且つR7がカルバ
モイル、チオカルバモイル、−置換若しくは二置換カル
バモイル又は−置換若しくは二置換チオカルバモイルで
ある、式XIで示される新規のカルバモイル及びチオカ
ルバモイル誘導体は、下記の反応式(化16)で示され
るように、式XIIで示される適宜に置換されたセミカ
ルバジド又はチオセミカルバジドを式IIのビス(半エ
ステル−半アミド)と反応させることによって製造する
ことができる。 バジド、チオセミカルバジド、4−フェニルセミカルバ
ジド、4,4−ジエチルセミカルバジド、1−メチルセ
ミカルバジド、1−フェニルセミカルバジド、44−ジ
メチルチオセミカルバジド、4.4−ジフェニルチオセ
ミカルバジド、1−シクロへキシル−4−プロピルセミ
カルバジド及び1,2−ジメチルセミカルバジドが包含
される。 [0019] 式■においてRが(R’) (R)N−であり、R6が
上で定義した通りであり且つR7が2〜20個の炭素原
子を有する置換若しくは非置換脂肪族アシル、6〜13
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂環式アシル
、8〜16個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ア
リール脂肪族アシル又は7〜20個の炭素原子を有する
置換若しくは非置換芳香族アシルである、式XIIIで
示される新規のアシル誘導体は、下記の反応式(化17
)で示されるように、式XIVで示されるアシルヒドラ
ジドを式IIのビス(半エステル−半アミド)と反応さ
せることによって製造することができる。 この反応は、式IIのビス(半エステル−半アミド)を
最小量のメタノール又はエタノール中でほぼ2当量の式
XIVのアシルヒドラジドと共に還流することによって
実施される。この反応はまた、2種の試薬を80℃以上
においてほぼ30〜60分間加熱溶融させることによっ
て実施することもできる。 好適なアシルヒドラジドの非限定的な例には、酢酸ヒド
ラジド、プロピオン酸ヒドラジド、酪酸ヒドラジド、イ
ソ酪酸ヒドラジド、吉草酸ヒドラジド、カプロン酸ヒド
ラジド、ヘプタン酸ヒドラジド、カプリル酸ヒドラジド
、デカン酸ヒドラジド、ラウリン酸ヒドラジド、ステア
リン酸ヒドラジド及び安息香酸ヒドラジド、3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズヒドラジド並びに
3−(3゜5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸ヒドラジドが包含される。 [0020] 方法用 R,R】R2R3R4R6及びR13が上で広く定義し
た通りである式XIIIの新規のアシル誘導体はまた、
下記の反応式(化18)で示されるように、はぼ2モル
の式X■で示される酸クロリドを1モルの式VIのビス
HALSアミド酸ヒドラジドと反応させることによって
製造することもできる。
ある)この加水分解反応は、水又は水性アルコール中で
実施される。これは少量の硫酸又は塩酸によって触媒作
用を受は得る。しかしながら、酸触媒を用IJ)だ場合
、生成物を単離する前に反応混合物を中和すべきである
。好ましくは、この加水分解はアセトン誘導体又は2−
ブタノン誘導体(即ち、式IVにおいてR8がメチルで
あり且つR9がメチル又はエチルであるもの)について
実施され、この際、水性反応混合物を加熱し、このアセ
トン又は2−ブタノンは生成した時に留去させる。 [0016] 式■においてR5が(R6)(R7)N−であり、R6
が水素であり且つR7が−置換カルバモイル又は−置換
チオカルバモイルである、式VIIで示される新規のカ
ルバモイル及びチオカルバモイル誘導体は、下記の反応
式(化14)で示されるように、式VIのビスHALS
アミド酸ヒドラジドと式VIIIで示されるイソシアネ
ート又はインチオシアネートとを反応させることによっ
て製造することができる。 (式中、Xは○又はSであり、 R,R】R2R3及びR4は上で広く定義した通りであ
り、R6は水素であり、 R12は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、3〜
12個の炭素原子を有するアルケニル、5〜12個の炭
素原子を有するシクロアルキル、7〜15個の炭素原子
を有する置換若しくは非置換アルアルキル又は6〜14
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリールであ
り、ここで、アルアルキル及びアリール基についての置
換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原子を有するアル
キル、3〜8個の炭素原子を有するアルケニル又は1〜
8個の炭素原子を有するアルコキシの少なくとも1種で
ある) この反応は、ジニチルエーテル、メチルt−ブチルエー
テル、THF又はジメチルホルムアミド(DMF)のよ
うな非プロトン系極性溶媒中で実施される。この反応は
通常室温において起こるカミ しかし、反応成分が完全
に反応することを確実にするために、反応混合物の穏や
かな加熱を用いることもできる。 好適なイソシアネートの非限定的な例には、アリルイソ
シアネート、ベンジルイソシアネート n−ブチルイソ
シアネート、t−ブチルインシアネート、シクロヘキシ
ルイソシアネート、エチルイソシアネート、イソプロピ
ルイソシアネート、4−メトキシフェニルイソシアネー
ト、メチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネー
ト、1−ナフチルイソシアネート、フェニルイソシアネ
ート、Om−及びp−)リルイソシアネート並びにジメ
チル−m−イソプロペニルベンジルイソシアネートが包
含される。 好適なイソチオシアネートの非限定的な例には、アリル
イソチオシアネート、ベンジルインチオシアネート、4
−ブロムフェニルインチオシアネート・n−ブチルイソ
チオシアネート、t−ブチルイソチオシアネート、3−
クロルフェニルインチオシアネート、シクロヘキシルイ
ソチオシアネート、エチルインチオシアネート、メチル
イソチオシアネート、1−ナフチルインチオシアネート
、t−オクチルインチオシアネート、フェネチルイソチ
オシアネート、フェニルインチオシアネート、プロビル
インチオシアネ〜 ト並びに〇−及びp−)リルイソチ
オシアネートが包含される。 [0017] 方法用 式■においてRが(R) (R)N−であり、Rが水素
であり且つR7が二置換カルバモイルである、式IXで
示される新規のカルバモイル誘導体は、下記の反応式(
化15)で示されるように、式VIのビスHALSアミ
ド酸ヒドラジドを式Xで示されるN、N−二置換カルバ
モイルクロリドと反応させることによって製造すること
ができる。 する置換若しくは非置換アリールであり、ここで、アル
アルキル及びアリール基についての置換基は、塩素、臭
素、1〜8個の炭素原子を有するアルキル、3〜8個の
炭素原子を有するアルケニル又は1〜8個の炭素原子を
有するアルコキシの少なくとも1種である) この反応は、塩化メチレン又はクロロホルムのような非
極性溶媒中で室温において実施される。Rがアシル、カ
ルバモイル、アルコキシ、シクロアルコキシ又はアリー
ルオキシカルボニル基ではない場合、この立体障害アミ
ンは酸受容体として作用し、式IXの化合物の塩酸塩が
生成する。式IXの誘導体は、この塩酸塩を希水酸化ナ
トリウムで中和することによって単離することができる
。 好適なN、N−二置換カルバモイルクロリドの非限定的
な例には、N、N−ジメチルカルバモイルクロリド及び
N、N−ジエチルカルバモイルクロリドが包含される。 [0018] 方法旦 式■においてRが(R) (R)N−であり、R4及
びR6が上で広く定義した通りであり且つR7がカルバ
モイル、チオカルバモイル、−置換若しくは二置換カル
バモイル又は−置換若しくは二置換チオカルバモイルで
ある、式XIで示される新規のカルバモイル及びチオカ
ルバモイル誘導体は、下記の反応式(化16)で示され
るように、式XIIで示される適宜に置換されたセミカ
ルバジド又はチオセミカルバジドを式IIのビス(半エ
ステル−半アミド)と反応させることによって製造する
ことができる。 バジド、チオセミカルバジド、4−フェニルセミカルバ
ジド、4,4−ジエチルセミカルバジド、1−メチルセ
ミカルバジド、1−フェニルセミカルバジド、44−ジ
メチルチオセミカルバジド、4.4−ジフェニルチオセ
ミカルバジド、1−シクロへキシル−4−プロピルセミ
カルバジド及び1,2−ジメチルセミカルバジドが包含
される。 [0019] 式■においてRが(R’) (R)N−であり、R6が
上で定義した通りであり且つR7が2〜20個の炭素原
子を有する置換若しくは非置換脂肪族アシル、6〜13
個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂環式アシル
、8〜16個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ア
リール脂肪族アシル又は7〜20個の炭素原子を有する
置換若しくは非置換芳香族アシルである、式XIIIで
示される新規のアシル誘導体は、下記の反応式(化17
)で示されるように、式XIVで示されるアシルヒドラ
ジドを式IIのビス(半エステル−半アミド)と反応さ
せることによって製造することができる。 この反応は、式IIのビス(半エステル−半アミド)を
最小量のメタノール又はエタノール中でほぼ2当量の式
XIVのアシルヒドラジドと共に還流することによって
実施される。この反応はまた、2種の試薬を80℃以上
においてほぼ30〜60分間加熱溶融させることによっ
て実施することもできる。 好適なアシルヒドラジドの非限定的な例には、酢酸ヒド
ラジド、プロピオン酸ヒドラジド、酪酸ヒドラジド、イ
ソ酪酸ヒドラジド、吉草酸ヒドラジド、カプロン酸ヒド
ラジド、ヘプタン酸ヒドラジド、カプリル酸ヒドラジド
、デカン酸ヒドラジド、ラウリン酸ヒドラジド、ステア
リン酸ヒドラジド及び安息香酸ヒドラジド、3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズヒドラジド並びに
3−(3゜5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸ヒドラジドが包含される。 [0020] 方法用 R,R】R2R3R4R6及びR13が上で広く定義し
た通りである式XIIIの新規のアシル誘導体はまた、
下記の反応式(化18)で示されるように、はぼ2モル
の式X■で示される酸クロリドを1モルの式VIのビス
HALSアミド酸ヒドラジドと反応させることによって
製造することもできる。
【化18】
○
この反応は、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエ
ーテル、メチルt−ブチルエーテル又はTHFのような
不活性非プロトン系溶媒中で実施される。式VIのヒド
ラジドが立体障害アミン上を置換されていない(即ちR
が水素である)場合、この式VIのヒドラジドはそれ自
体酸受容体として作用し得て、式XIIIのアシル誘導
体の塩酸塩が生成する。式XIIIのアシル誘導体は、
この塩を希水酸化ナトリウム又は希水酸化カリウムのよ
うな強塩基で中和することによって単離することができ
る。この酸クロリドとビスHALSアミド酸ヒドラジド
との反応は非常に容易に起こり、一般的に多少の熱が発
生する。従って、反応フラスコを冷水又は氷浴で冷却す
ることによって反応温度を制御するのが好ましい。この
温度はまた、塩化メチレンのような低沸点溶媒及び還流
冷却管を用いることによって制御することもできる。R
が水素ではない場合には、ピリジン及びトリエチルアミ
ンのような第3アミンを酸受容体として用いることがで
きる。 好適な酸クロリドの非限定的な例には、塩化アセチル、
塩化アクリロイル、塩化0−アニソイル、塩化ベンゾイ
ル、塩化3−ブロムベンゾイル、塩化t−ブチルアセチ
ル、塩化4−t−ブチルベンゾイル、塩化ブチリル、塩
化シンナモイル、塩化クロトニル、シクロヘキサンカル
ボン酸クロリド、塩化デカノイル、塩化2.4−ジクロ
ルベンゾイル、塩化2−エチルヘキサノイル、塩化ヘキ
サノイル、塩化ヒドロシンナモイル、塩化イソブチリル
、塩化イソバレリル、塩化ラウロイル、塩化メタクリロ
イル、塩化1−ナフトイル、塩化ノナノイル、塩化オク
タノイル、塩化フェノキシアセチル、塩化フェニルアセ
チル、塩化プロピオニル、塩化o −m−及びp−トル
オイル、塩化トリメチルアセチル、塩化ウンデカノイル
、塩化バレリル、塩化3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾイル並びに塩化3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルが包含
される。 [0021] 方法旦 R,R】R2R3、R4及びR6が上で広く定義した通
りであり且つR13が1〜11個の炭素原子を有する脂
肪族又はフェニルである式XIIIの新規のアシル誘導
体はまた、下記の反応式(化19)で示されるように、
式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジドを式XVIで
示される非環式カルボン酸無水物と反応させることによ
って製造することもできる。
ーテル、メチルt−ブチルエーテル又はTHFのような
不活性非プロトン系溶媒中で実施される。式VIのヒド
ラジドが立体障害アミン上を置換されていない(即ちR
が水素である)場合、この式VIのヒドラジドはそれ自
体酸受容体として作用し得て、式XIIIのアシル誘導
体の塩酸塩が生成する。式XIIIのアシル誘導体は、
この塩を希水酸化ナトリウム又は希水酸化カリウムのよ
うな強塩基で中和することによって単離することができ
る。この酸クロリドとビスHALSアミド酸ヒドラジド
との反応は非常に容易に起こり、一般的に多少の熱が発
生する。従って、反応フラスコを冷水又は氷浴で冷却す
ることによって反応温度を制御するのが好ましい。この
温度はまた、塩化メチレンのような低沸点溶媒及び還流
冷却管を用いることによって制御することもできる。R
が水素ではない場合には、ピリジン及びトリエチルアミ
ンのような第3アミンを酸受容体として用いることがで
きる。 好適な酸クロリドの非限定的な例には、塩化アセチル、
塩化アクリロイル、塩化0−アニソイル、塩化ベンゾイ
ル、塩化3−ブロムベンゾイル、塩化t−ブチルアセチ
ル、塩化4−t−ブチルベンゾイル、塩化ブチリル、塩
化シンナモイル、塩化クロトニル、シクロヘキサンカル
ボン酸クロリド、塩化デカノイル、塩化2.4−ジクロ
ルベンゾイル、塩化2−エチルヘキサノイル、塩化ヘキ
サノイル、塩化ヒドロシンナモイル、塩化イソブチリル
、塩化イソバレリル、塩化ラウロイル、塩化メタクリロ
イル、塩化1−ナフトイル、塩化ノナノイル、塩化オク
タノイル、塩化フェノキシアセチル、塩化フェニルアセ
チル、塩化プロピオニル、塩化o −m−及びp−トル
オイル、塩化トリメチルアセチル、塩化ウンデカノイル
、塩化バレリル、塩化3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾイル並びに塩化3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルが包含
される。 [0021] 方法旦 R,R】R2R3、R4及びR6が上で広く定義した通
りであり且つR13が1〜11個の炭素原子を有する脂
肪族又はフェニルである式XIIIの新規のアシル誘導
体はまた、下記の反応式(化19)で示されるように、
式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジドを式XVIで
示される非環式カルボン酸無水物と反応させることによ
って製造することもできる。
【化19】
ff工
この反応は、THF、ジエチルエーテル、メチルt−ブ
チルエーテル又はDMFのような非プロトン系極性溶媒
中の式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジドのスラリ
ーに前記酸無水物を添加することによって実施される。 通常、この反応は室温において進行するが、しかし初期
の発熱の後に加温することによって反応成分が完全に反
応することが確実になる。 好適な非環状酸無水物の非限定的な例には、無水酢酸、
無水酪酸、無水イソ酪酸、無水プロピオン酸、無水吉草
酸、無水ヘキサン酸、無水へブタン酸及び無水安息香酸
が包含される。 立体障害アミンがアシル化されていない場合、例えばR
が水素、ヒドロキシ、アルキル又はアルアルキルである
場合、この反応において生成するカルボン酸Rアシル誘
導体と共に式XIIIAで示される塩を形成し得る。
チルエーテル又はDMFのような非プロトン系極性溶媒
中の式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジドのスラリ
ーに前記酸無水物を添加することによって実施される。 通常、この反応は室温において進行するが、しかし初期
の発熱の後に加温することによって反応成分が完全に反
応することが確実になる。 好適な非環状酸無水物の非限定的な例には、無水酢酸、
無水酪酸、無水イソ酪酸、無水プロピオン酸、無水吉草
酸、無水ヘキサン酸、無水へブタン酸及び無水安息香酸
が包含される。 立体障害アミンがアシル化されていない場合、例えばR
が水素、ヒドロキシ、アルキル又はアルアルキルである
場合、この反応において生成するカルボン酸Rアシル誘
導体と共に式XIIIAで示される塩を形成し得る。
【化20】
式XIIIの遊離のアシル誘導体は、カルボン酸塩(式
XIIIA )から水性水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウムでカルボン酸を中和することによって再生するこ
と
XIIIA )から水性水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウムでカルボン酸を中和することによって再生するこ
と
【化21】
O
[0022]
式IにおいてRが(R) (R)N−であり、R6が上
で広く定義した通りであり且つR7が2〜13個の炭素
原子を有するアルコキシカルボニル、6〜13個の炭素
原子を有するシクロアルコキシカルボニル又は7〜15
個の炭素原子を有するアリールオキシカルボニルである
、式XVIIで示される新規のアルコキシカルボニル、
シクロアルコキシカルボニル及びアリールオキシカルボ
ニル誘導体は、下記の反応式(化22)で示されるよう
に、式XVIIIで示されるカルバジン酸アルキル、シ
クロアルキル又はアリールを式IIのビス(半エステル
−半アミド)と反応させることによって製造することが
できる。 ルシクロアルキル又は6〜14個の炭素原子を有するア
リールである)この反応は、式IIのビス(半エステル
−半アミド)を最小量のメタノール又はエタノール中で
ほぼ2当量の式XVIIIのカルバジン酸アルキル、シ
クロアルキル又はアリールと共に還流することによって
実施される。この反応はまた、2種の試薬を80℃以上
においてほぼ30〜60分間加熱溶融させることによっ
て実施することもできる。 好適なカルバジン酸エステルの非限定的な例には、カル
バジン酸エチル、カルバジン酸メチル、カルバジン酸プ
ロピル、カルバジン酸イソプロピル、カルバジン酸ブチ
ル、カルバジン酸イソブチル、カルバジン酸シクロヘキ
シル、カルバジン酸シクロペンチル、カルバジン酸シク
ロドデシル、カルバジン酸フェニル、カルバジン酸3−
エチルヘキシル及びカルバジン酸オクチルが包含される
。 [0023] 方法旦 R,R】R2R3R4R6及びR14が上で広く定義し
た通りである式XVIIのアルコキシカルボニル、シク
ロアルコキシカルボニル及びアリールオキシカルボニル
誘導体はまた、下記の反応式(化23)で示されるよう
に、はぼ2モルの式XIXで示されるクロル蟻酸エステ
ルを1モルの式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジド
と反応させることによって製造することもできる。
で広く定義した通りであり且つR7が2〜13個の炭素
原子を有するアルコキシカルボニル、6〜13個の炭素
原子を有するシクロアルコキシカルボニル又は7〜15
個の炭素原子を有するアリールオキシカルボニルである
、式XVIIで示される新規のアルコキシカルボニル、
シクロアルコキシカルボニル及びアリールオキシカルボ
ニル誘導体は、下記の反応式(化22)で示されるよう
に、式XVIIIで示されるカルバジン酸アルキル、シ
クロアルキル又はアリールを式IIのビス(半エステル
−半アミド)と反応させることによって製造することが
できる。 ルシクロアルキル又は6〜14個の炭素原子を有するア
リールである)この反応は、式IIのビス(半エステル
−半アミド)を最小量のメタノール又はエタノール中で
ほぼ2当量の式XVIIIのカルバジン酸アルキル、シ
クロアルキル又はアリールと共に還流することによって
実施される。この反応はまた、2種の試薬を80℃以上
においてほぼ30〜60分間加熱溶融させることによっ
て実施することもできる。 好適なカルバジン酸エステルの非限定的な例には、カル
バジン酸エチル、カルバジン酸メチル、カルバジン酸プ
ロピル、カルバジン酸イソプロピル、カルバジン酸ブチ
ル、カルバジン酸イソブチル、カルバジン酸シクロヘキ
シル、カルバジン酸シクロペンチル、カルバジン酸シク
ロドデシル、カルバジン酸フェニル、カルバジン酸3−
エチルヘキシル及びカルバジン酸オクチルが包含される
。 [0023] 方法旦 R,R】R2R3R4R6及びR14が上で広く定義し
た通りである式XVIIのアルコキシカルボニル、シク
ロアルコキシカルボニル及びアリールオキシカルボニル
誘導体はまた、下記の反応式(化23)で示されるよう
に、はぼ2モルの式XIXで示されるクロル蟻酸エステ
ルを1モルの式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジド
と反応させることによって製造することもできる。
【化23】
この反応は、式X■の酸クロリドと式VIのビスHAL
Sアミド酸ヒドラジドとの反応と同様に不活性非極性溶
媒中で実施することができる(製造IVの方法Bを参照
されたい)。式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジド
が立体障害アミン上を置換されていない(即ちRが水素
である)場合、この式VIのビスHALSアミド酸ヒド
ラジドはそれ自体酸受容体として作用し得て、式XVI
Iの誘導体の塩酸塩が生成する。式XVIIの誘導体は
、この塩を希水酸化ナトリウムで中和することによって
単離することができる。 好適なりロル蟻酸エステルの非限定的な例には、クロル
蟻酸メチル、クロル蟻酸エチル、クロル蟻酸プロピル、
クロル蟻酸イソプロピル、クロル蟻酸n−ブチル、クロ
ル蟻酸5ec−ブチル、クロル蟻酸イソブチル、クロル
蟻酸n−アミルクロル蟻酸2−エチルヘキシル、クロル
蟻酸ヘキシル、クロル蟻酸シクロヘキシル、クロル蟻酸
フェニル、クロル蟻酸シクロヘプチル、クロル蟻酸シク
ロドデシル及びクロル蟻酸シクロオクチルが包含される
。 [0024] Vl、イミド びアミド 舌9゛首 のJ゛告式1にお
いてR5がMOC(=O) −R10−C(=○)−N
(R6)−であり且つR6及びMがそれぞれ水素である
、式XXで示される新規のアミド酸誘導体は、下記の反
応式(化24)で示されるように、式VIのビスHAL
Sアミド酸ヒドラジドを式XXIで示される環状酸無水
物と反応させることによって製造することができる。
Sアミド酸ヒドラジドとの反応と同様に不活性非極性溶
媒中で実施することができる(製造IVの方法Bを参照
されたい)。式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジド
が立体障害アミン上を置換されていない(即ちRが水素
である)場合、この式VIのビスHALSアミド酸ヒド
ラジドはそれ自体酸受容体として作用し得て、式XVI
Iの誘導体の塩酸塩が生成する。式XVIIの誘導体は
、この塩を希水酸化ナトリウムで中和することによって
単離することができる。 好適なりロル蟻酸エステルの非限定的な例には、クロル
蟻酸メチル、クロル蟻酸エチル、クロル蟻酸プロピル、
クロル蟻酸イソプロピル、クロル蟻酸n−ブチル、クロ
ル蟻酸5ec−ブチル、クロル蟻酸イソブチル、クロル
蟻酸n−アミルクロル蟻酸2−エチルヘキシル、クロル
蟻酸ヘキシル、クロル蟻酸シクロヘキシル、クロル蟻酸
フェニル、クロル蟻酸シクロヘプチル、クロル蟻酸シク
ロドデシル及びクロル蟻酸シクロオクチルが包含される
。 [0024] Vl、イミド びアミド 舌9゛首 のJ゛告式1にお
いてR5がMOC(=O) −R10−C(=○)−N
(R6)−であり且つR6及びMがそれぞれ水素である
、式XXで示される新規のアミド酸誘導体は、下記の反
応式(化24)で示されるように、式VIのビスHAL
Sアミド酸ヒドラジドを式XXIで示される環状酸無水
物と反応させることによって製造することができる。
【化24】
(式中、R,R】R2R3R4及びR10は上で広く定
義した通りである)この反応は、THF、ジエチルエー
テル、メチルt−ブチルエーテル又はDMFのような不
活性非プロトン系極性溶媒中で実施される。この反応は
一般的に室温において起こるが、しかし、反応を促進す
るため又は反応成分が完全に反応することを確実にする
ために穏やかな加温を用いることもできる。 好適な環状酸無水物の非限定的な例には、3.3−ジメ
チルグルタル酸、2−ドデセン−1−イル琥珀酸、2−
オクタデセン−1−イル琥珀酸、2−オクテン−1−イ
ル琥珀酸、2−ヘキセン−1−イル琥珀酸、2−ドデシ
ル琥珀酸、2−オクタデシル琥珀酸、2−オクチル琥珀
酸、2−ヘキシル琥珀酸、琥珀酸、イタコン酸、シトラ
コン酸、マレイン酸、フタル酸、4−メチルフタル酸、
1,8ナフタル酸、グルタル酸、ホモフタル酸、トリメ
リット酸、ヘキサヒドロ−4メチルフタル酸、ヘキサヒ
ドロフタル酸及びメチル−4−ノルボルネン−2,3−
ジカルボン酸の酸無水物が包含される。 式X■のアミド酸誘導体は、この式Xvのアミド酸誘導
体を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化アン
モニウムで中和することによって対応するナトリウム、
カリウム又はアンモニウム塩、即ち式1においてR5
がMOC(=O)R−C(=○) −N (R6)−で
あり且つMがナトリウム、カリウム又はアンモニウムイ
オンである化合物に転化させることができる。 [0025] 式■においてR5が次の基(化2)
義した通りである)この反応は、THF、ジエチルエー
テル、メチルt−ブチルエーテル又はDMFのような不
活性非プロトン系極性溶媒中で実施される。この反応は
一般的に室温において起こるが、しかし、反応を促進す
るため又は反応成分が完全に反応することを確実にする
ために穏やかな加温を用いることもできる。 好適な環状酸無水物の非限定的な例には、3.3−ジメ
チルグルタル酸、2−ドデセン−1−イル琥珀酸、2−
オクタデセン−1−イル琥珀酸、2−オクテン−1−イ
ル琥珀酸、2−ヘキセン−1−イル琥珀酸、2−ドデシ
ル琥珀酸、2−オクタデシル琥珀酸、2−オクチル琥珀
酸、2−ヘキシル琥珀酸、琥珀酸、イタコン酸、シトラ
コン酸、マレイン酸、フタル酸、4−メチルフタル酸、
1,8ナフタル酸、グルタル酸、ホモフタル酸、トリメ
リット酸、ヘキサヒドロ−4メチルフタル酸、ヘキサヒ
ドロフタル酸及びメチル−4−ノルボルネン−2,3−
ジカルボン酸の酸無水物が包含される。 式X■のアミド酸誘導体は、この式Xvのアミド酸誘導
体を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化アン
モニウムで中和することによって対応するナトリウム、
カリウム又はアンモニウム塩、即ち式1においてR5
がMOC(=O)R−C(=○) −N (R6)−で
あり且つMがナトリウム、カリウム又はアンモニウムイ
オンである化合物に転化させることができる。 [0025] 式■においてR5が次の基(化2)
【化2】
である、式XXIIで示される新規のイミド誘導体は、
式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジドを適度に高沸
点(100〜200℃)の不活性溶媒中で式XXIの環
状肋間+4−n736o (52) 酸無水物と反応させることによって製造される。式XX
の中間体のアミド酸が生成し、加熱の際にこのアミド酸
が水を失って環化して式XXIIのイミドを生成する。 好ましくは、トルエン、キシレン又はメシチレンのよう
な溶媒を用いてこの水を反応物から共沸留去させる。こ
の反応のための他の好適な溶媒には、クロルベンゼン、
ジクロルベンゼン、ジメチルホルムアミド、N−メチル
ピロリドン又はN−シクロへキシルピロリドンが包含さ
れる。 式XXIIのイミド誘導体はまた、初めに式Xvのアミ
ド酸誘導体を製造して単離することによって2段階で製
造することもできる。この場合、式XVの誘導体を次(
7)でイミド化が起こるまで上記の1種の溶媒中で加熱
する。 イミド誘導体の製造は、下記の反応式(化25)によっ
て示される。
式VIのビスHALSアミド酸ヒドラジドを適度に高沸
点(100〜200℃)の不活性溶媒中で式XXIの環
状肋間+4−n736o (52) 酸無水物と反応させることによって製造される。式XX
の中間体のアミド酸が生成し、加熱の際にこのアミド酸
が水を失って環化して式XXIIのイミドを生成する。 好ましくは、トルエン、キシレン又はメシチレンのよう
な溶媒を用いてこの水を反応物から共沸留去させる。こ
の反応のための他の好適な溶媒には、クロルベンゼン、
ジクロルベンゼン、ジメチルホルムアミド、N−メチル
ピロリドン又はN−シクロへキシルピロリドンが包含さ
れる。 式XXIIのイミド誘導体はまた、初めに式Xvのアミ
ド酸誘導体を製造して単離することによって2段階で製
造することもできる。この場合、式XVの誘導体を次(
7)でイミド化が起こるまで上記の1種の溶媒中で加熱
する。 イミド誘導体の製造は、下記の反応式(化25)によっ
て示される。
【化25】
好適な環状酸無水物の非限定的な例には、したものが包
含される。 [0026] アミド酸誘導体の製造について前記 式■においてRが(R6)(R7)N−であり、R6が
上で広く定義した通りであり且つR7が水素、1〜4個
の炭素原子を有する低級アルキル又は2〜6個の炭素原
子を有するヒドロキシアルキルである、式XXIIIで
示される新規のアルキル、ヒドロキシアルキル、シクロ
アルキル、アルアルキル及びアリール誘導体は下記の反
応式(化26)で示されるように、式IIのビス(半エ
ステル−半アミド)を式XXIVで示される− 二又は
三置換ヒドラジンと反応させることによって製造するこ
とができる。 r化26】 xx工V (式中、R,RRRR及びRは上で広く定義した通りで
あり、R7は水素、1〜4個の炭素原子を有する低級ア
ルキル又は2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアル
キルである)この反応は好ましくは、わずかに過剰の置
換ヒドラジンを用いてメタノール又はエタノール中で実
施される。この反応は一般的に式IIのオキサミド酸エ
ステル(Rが直接結合であるもの)については室温にお
いて進行し、他の式IIのアミド酸エステルについては
一般的に加熱又は還流を必要とする。 好適な置換ヒドラジンの非限定的な例には、メチルヒド
ラジン、エチルヒドラジン、プロピルヒドラジン、イソ
プロピルヒドラジン、フェニルヒドラジン、5eC−ブ
チルヒドラジン、アミルヒドラジン、t−アミルヒドラ
ジン、ヘキシルヒドラジン、ヘプチルヒドラジン、オク
チルヒドラジン、2−エチルヘキシルヒドラジン ルヒドラジン、シクロオクチルヒドラジン、シクロドデ
シルヒドラジン、4−を−ブチルシクロへキシルヒドラ
ジン、2−メチルシクロヘキシルヒドラジンンジルヒド
ラジン、α−メチルベンジルヒドラジン、α,αージメ
チジレベンジルヒドラジン、フェネチルヒドラジン、フ
ェニルヒドラジン、1,1−ジメチルヒドラジン、1.
2−ジメチルヒドラジン、1,1−ジエチルヒドラジン
、1,2−ジエチルヒドラジン、2−ヒドロキシエチル
ヒドラジン、1−メチル−1−フェニルヒドラジン、o
− m−及びp−)リルヒドラジンカ(包含される
。 [0027] VIII 、その他の置、う1導本の製造R が水素で
あり且つR6が上で広く定義した通りである新規の式X
XIIIのイヒ合物を製造IIIの方法Aに従って式V
IIIのイソシアネート又(よ式VIIIのイソチオシ
アネートと反応させることによって、式VIIにおl,
)てR が]〜12個の炭素原子を有するアルキル、5
〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル2個の炭素
原子を有するアルアルキル又は6〜14個の炭素原子を
有するア】)ールである化合物を得ることができる。 また、式XXIIIの化合物を製造IIIの方法Bに従
って式XのN,N−二置換カルバモイルクロリドと反応
させることによって、式IXにおり・てR6カ9水素で
ある必要がない化合物を得ることもできる。 [0028] 用途 本発明の新規の安定剤は、通常熱分解、酸化分解又は化
学光分解を受すすやすり・ポリマー組成物を安定化させ
るための非常に有効な添加剤である。また、立体障害ア
ミン系光安定化基との相未剤として作用する他の添加剤
を添加することも有益であることがある。 本発明の新規の安定剤は、種々のポリマー組成物と高濃
度でブレンドしてマスターバッチを形成させることがで
き、次いでこれを追加の同一又は異なるタイプのポリマ
ーとブレンドすることができる。 ポリマー組成物を安定化させるために用いられる安定剤
の量は、安定化させるべきポリマー系の種類、望まれる
安定度及び組成物中に他の安定剤が存在するかどうかと
いうことに依存する。通常、ポリマー組成物中に約0.
01〜約5重量%の2.2,6.6−チトラアルキルピ
ペリジン部分を存在することが推奨される。有利な範囲
は、最終組成物中に分子の2.2,6.6−チトラアル
キルピペリジン部分約0.05〜約2重量%である。大
抵の場合、約0.1〜約0.5重量%で充分である。 [0029] これら新規の立体障害アミン系光安定剤によって安定化
させることのできるポリマー組成物の非限定的な例には
、以下のものが包含される。 (1)ポリオレフィン類、例えば高密度、低密度及び線
状低密度ポリエチレン(これらは[j亘意に架橋されて
いてよい) ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ
(メチル−1−ブテン) ポリアセチレン及び一般的に
2〜10個の炭素原子を有するモノマーから誘導される
ポリオレフィン並びにそれらの混合物。 (2)ジオレフィンから誘導されるポリオレフィン類、
例えばポリブタジェン及びポリイソプレン。 (3)モノ又はジオレフィンのコポリマー 例えばエチ
レン/プロピレンコポリマー プロピレン/1−ブテン
コポリマー プロピレン/イソブチレンコポリマー及び
エチレン/1−ブテンコポリマー。 (4)エチレン及びプロピレンとジエン(例えばブタジ
ェン、ヘキサジエン、ジシクロペンタジェン及びエチリ
デンノルボルネン)とのターポリマー(EPDM)。 (5)α−オレフィンとアクリル酸若しくはメタクリル
酸又はそれらの誘導体とのコポリマー 例えばエチレン
/アクリル酸コポリマー エチレン/メタクリル酸コポ
リマー及びエチレン/アクリル酸エチルコポリマー。 (6)スチレン系ポリマー、例えばポリスチレン(ps
)及びポリ(p−メチルスチレン)。 (7)スチレン系コポリマー並びにターポリマー 例え
ばスチレン/ブタジェン(SBR) スチレン/アリ
ルアルコール及びスチレン/アクリロニトリル(SAN
) スチレン/アクリロニトリル/メタクリレートタ
ーポリマー スチレン/ブタジェン/スチレンブロック
コポリマー(SBS) ゴム改質スチレン系ポリマー
例えばアクリル酸エステルポリマーで改質されたスチ
レン/アクリロニトリルコポリマー(ASA) スチ
レンのゴム上へのグラフトコポリマー 例えばポリブタ
ジェン(HIPS) ポリイソプレン又はスチレン/
ブタジェン/スチレンブロックコポリマー(ファイアス
トーン・シンセテイツク・ラバー・アンド・ラテックス
(Firestone 5ynthetic Rubb
er and Latex)社から入手できる製品の「
ステレオン(Stereon) J (商品名))
スチレン/アクリロニトリルのゴム(例えばブタジェ
ン)上へのグラフトコポリマー(ブタジェンの場合に7
はABS)、ポリイソプレン又はスチレン/ブタジェン
/スチレンブロックコポリ、マー スチレン/メタクリ
ル酸メチルのゴム(例えばポリブタジェン)上へのグラ
フトコポリマー(ブタジェンの場合にはMBS) ブ
タジェン/スチレンラジアルブロックコポリマー(例え
ばフィリップス・ペトロリウム(Phillips P
etroleum)社の「KRO3J (商品名))
、選択的に水素化されたブタジェン/スチレンブロック
コポリマー(例えばシェル・ケミカル(Shell C
hemical)社からの「クレイトン(Kraton
) Gj (商品名))並びにそれらの混合物。 (8)ハロゲン含有ビニルモノマーから誘導されるポリ
マー及びコポリマー例工ばポリ(塩化ビニル) ポリ(
弗化ビニル) ポリ(塩化ビニリデン) ポリ(弗化ビ
ニリデン) ポリ(テトラフルオルエチレン)(PTF
E) 塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニ
リデン/酢酸ビニルコポリマー及びエチレン/テトラフ
ルオルエチレンコポリマー。 (9)ハロゲン化ゴム、例えば塩素化且つ(又は)臭素
化されたブチルゴム又はポリオレフィン及びフルオルエ
ラストマー。 (10)α、β−不飽和酸、酸無水物、エステル、アミ
ド及びニトリル又はそれらの組合せから誘導されるポリ
マー及びコポリマー、例えばアクリル酸及びメタクリル
酸、アクリル酸及びメタクリル酸アルキル及び(又は)
グリシジル、アクリルアミド及びメタクリルアミド、ア
クリロニトリル、無水マレイン酸、マレイミドののポリ
マー又はコポリマー この開示に記載された各種酸無水
物含有ポリマー及びコポリマー この項に記載されたポ
リマーと各種ブレンド及びそれらの混合物とのコポリマ
ー並びにこの項に記載されたポリマー及びコポリマーの
ゴム改質物。 (11)不飽和アルコール又はそれらのアシル化誘導体
から誘導されるポリマー及びコポリマー 例えばポリ(
ビニルアルコール) ポリ(酢酸ビニル) ポリ(ステ
アリン酸ビニル) ポリ(安息香酸ビニル) ポリ (
マレイン酸ビニル)ポリ(ビニルブチラール) ポリ(
フタル酸アリル) ポリ(アリルジエチレングリコール
カーボネート)(ADC) エチレン/酢酸ビニルコ
ポリマー及びエチレン/ビニルアルコールコポリマー。 (12)不飽和アミンから誘導されるポリマー及びコポ
リマー 例えばポリ(アリルメラミン)。 (13)エポキシドから誘導されるポリマー及びコポリ
マー 例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシド及びそれらのコポリマー 並びにビスグリシジル
エーテルから誘導されるポリマー。 (14)ポリ(フェニレンオキシド) ポリ(フェニレ
ンエーテル)及びそれらのグラフト結合ポリスチレン又
はゴムを含有する改質物、並びにそれらとポリスチレン
、ゴム改質ポリスチレン又はナイロンとの各種ブレンド
。 (15)ポリカーボネート及び特に芳香族ポリカーボネ
ート、例えばホスゲン及びビスフェノール(ビスフェノ
ールA1テトラブロムビスフエノールA及びテトラメチ
ルビスフェノールA)から誘導されるもの。 (16)ジカルボン酸及びジオール並びに(又は)ヒド
ロキシカルボン酸若しくはそらの対応するラクトンから
誘導されるポリエステル、例えばポリアルキレンフタレ
ート(例えばポリエチレンテレフタレート(PET)
ポリブチレンテレフタレート(PBT)及びポリ(1
,4−ジメチルシクロヘキサンテレフタレート)又はそ
れらのコポリマー)並びにポリカプロラクトンのような
ポリラクトン(17)ビスフェノール(例えばビスフェ
ノールA)並びに各種芳香族酸(例えばイソフタル酸及
びテレフタル酸又はそれらの混合物)から誘導されるポ
リアリ−レート。 (18)カーボネートとポリマーの主鎖中に存在するエ
ステル結合とを有する芳香族コポリエステルカーボネー
ト、例えばビスフェノール、イソ−及びテレフタロイル
クロリド並びにホスゲンから誘導されるもの。 (19)ポリウレタン及びポリ尿素。 (20)ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリオ
キシメチレン。 (21)ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリ
イミドスルホン。 (22)ジアミン及びジカルボン酸から並びに(又は)
アミノカルボン酸若しくはその対応するラクトンから誘
導されるポリアミド並びにコポリアミド、例えば6−ナ
イロン、6,6−ナイロン、6.10−ナイロン、11
−ナイロン及び12−ナイロン。 (23)ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド
イミド及びコポリエーテルエステル。 (24)一方でアルデヒドから、そして他方でフェノー
ル、尿素及びメラミンから誘導される、架橋ポリマー
例えばフェノール/ホルムアルデヒド、尿素/ホルムア
ルデヒド及びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。 (25)アルキル樹脂、例えばグリセリン/フタル酸樹
脂及びそれとメラミン/ホルムアルデヒド樹脂との混合
物。 (26)飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステル並びにビニル化合物(架橋剤)から
誘導される不飽和ポリエステル樹脂とビニルモノマーと
のブレンド並びにそれらのハロゲン含有耐燃性改質物。 (27)天然ポリマー、例えばセルロース及び天然ゴム
並びにそれらの化学的に改質された同族誘導体、例えば
セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セ
ルロースブチレート並びにセルロースエーテル(例えば
メチル及びエチルセルロース)。 [0030] 本発明の新規の安定剤はさらに、上記のポリマー又はコ
ポリマーの各種組合せ物又はブレンドを安定化させるの
に用いることができる。これらは、ポリオレフイン、ア
クリル被膜、スチレン系ポリマー ゴム改質スチレン系
ポリマー ポリ(フェニレンオキシド)及びそれらとス
チレン系ポリマー ゴム改質スチレン系ポリマー又はナ
イロンとの各種ブレンドを安定化させるのに特に有用で
ある。 [0031] 本発明の新規の立体障害アミン系光安定剤は、最終ポリ
マーの特性をさらに高めるために、他の添加剤と共に用
いることができる。本発明の安定剤と共に用いることの
できる他の安定剤の例には、酸化防止剤、例えばアルキ
ル化モノフェノール、アルキル化ヒドロキノン、ヒドロ
キシル化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフ
ェノール、立体障害フェノール系ベンジル化合物、アシ
ルアミノフェノール、3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のエステル、3
−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロピオン酸のエステル、3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アミ
ド、紫外線吸収剤及び光安定剤、例えば2−(2” −
ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2
−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンジリデンマロネート
エステル、置換若しくは非置換安息香酸のエステル、ジ
フェニルアクリレート、ニッケルキレート、蓚酸ジアミ
ド、他の立体障害アミン系光安定剤、他の添加剤、例え
ば金属奪活剤、ホスファイト及びホスホナイト、過酸化
物分解剤、充填剤及び強化材、可塑剤、滑剤、腐蝕防止
剤及び防錆剤、乳化剤、離型剤、カーボンブラック、顔
料、蛍光増白剤、有機及び無機系難燃剤及び不滴下剤、
メルトフロー改善剤及び帯電防止剤が包含される。上記
のタイプの好適な添加剤の多くの例はカナダ国特許第1
190038号に与えられている。 [0032]
含される。 [0026] アミド酸誘導体の製造について前記 式■においてRが(R6)(R7)N−であり、R6が
上で広く定義した通りであり且つR7が水素、1〜4個
の炭素原子を有する低級アルキル又は2〜6個の炭素原
子を有するヒドロキシアルキルである、式XXIIIで
示される新規のアルキル、ヒドロキシアルキル、シクロ
アルキル、アルアルキル及びアリール誘導体は下記の反
応式(化26)で示されるように、式IIのビス(半エ
ステル−半アミド)を式XXIVで示される− 二又は
三置換ヒドラジンと反応させることによって製造するこ
とができる。 r化26】 xx工V (式中、R,RRRR及びRは上で広く定義した通りで
あり、R7は水素、1〜4個の炭素原子を有する低級ア
ルキル又は2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアル
キルである)この反応は好ましくは、わずかに過剰の置
換ヒドラジンを用いてメタノール又はエタノール中で実
施される。この反応は一般的に式IIのオキサミド酸エ
ステル(Rが直接結合であるもの)については室温にお
いて進行し、他の式IIのアミド酸エステルについては
一般的に加熱又は還流を必要とする。 好適な置換ヒドラジンの非限定的な例には、メチルヒド
ラジン、エチルヒドラジン、プロピルヒドラジン、イソ
プロピルヒドラジン、フェニルヒドラジン、5eC−ブ
チルヒドラジン、アミルヒドラジン、t−アミルヒドラ
ジン、ヘキシルヒドラジン、ヘプチルヒドラジン、オク
チルヒドラジン、2−エチルヘキシルヒドラジン ルヒドラジン、シクロオクチルヒドラジン、シクロドデ
シルヒドラジン、4−を−ブチルシクロへキシルヒドラ
ジン、2−メチルシクロヘキシルヒドラジンンジルヒド
ラジン、α−メチルベンジルヒドラジン、α,αージメ
チジレベンジルヒドラジン、フェネチルヒドラジン、フ
ェニルヒドラジン、1,1−ジメチルヒドラジン、1.
2−ジメチルヒドラジン、1,1−ジエチルヒドラジン
、1,2−ジエチルヒドラジン、2−ヒドロキシエチル
ヒドラジン、1−メチル−1−フェニルヒドラジン、o
− m−及びp−)リルヒドラジンカ(包含される
。 [0027] VIII 、その他の置、う1導本の製造R が水素で
あり且つR6が上で広く定義した通りである新規の式X
XIIIのイヒ合物を製造IIIの方法Aに従って式V
IIIのイソシアネート又(よ式VIIIのイソチオシ
アネートと反応させることによって、式VIIにおl,
)てR が]〜12個の炭素原子を有するアルキル、5
〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル2個の炭素
原子を有するアルアルキル又は6〜14個の炭素原子を
有するア】)ールである化合物を得ることができる。 また、式XXIIIの化合物を製造IIIの方法Bに従
って式XのN,N−二置換カルバモイルクロリドと反応
させることによって、式IXにおり・てR6カ9水素で
ある必要がない化合物を得ることもできる。 [0028] 用途 本発明の新規の安定剤は、通常熱分解、酸化分解又は化
学光分解を受すすやすり・ポリマー組成物を安定化させ
るための非常に有効な添加剤である。また、立体障害ア
ミン系光安定化基との相未剤として作用する他の添加剤
を添加することも有益であることがある。 本発明の新規の安定剤は、種々のポリマー組成物と高濃
度でブレンドしてマスターバッチを形成させることがで
き、次いでこれを追加の同一又は異なるタイプのポリマ
ーとブレンドすることができる。 ポリマー組成物を安定化させるために用いられる安定剤
の量は、安定化させるべきポリマー系の種類、望まれる
安定度及び組成物中に他の安定剤が存在するかどうかと
いうことに依存する。通常、ポリマー組成物中に約0.
01〜約5重量%の2.2,6.6−チトラアルキルピ
ペリジン部分を存在することが推奨される。有利な範囲
は、最終組成物中に分子の2.2,6.6−チトラアル
キルピペリジン部分約0.05〜約2重量%である。大
抵の場合、約0.1〜約0.5重量%で充分である。 [0029] これら新規の立体障害アミン系光安定剤によって安定化
させることのできるポリマー組成物の非限定的な例には
、以下のものが包含される。 (1)ポリオレフィン類、例えば高密度、低密度及び線
状低密度ポリエチレン(これらは[j亘意に架橋されて
いてよい) ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ
(メチル−1−ブテン) ポリアセチレン及び一般的に
2〜10個の炭素原子を有するモノマーから誘導される
ポリオレフィン並びにそれらの混合物。 (2)ジオレフィンから誘導されるポリオレフィン類、
例えばポリブタジェン及びポリイソプレン。 (3)モノ又はジオレフィンのコポリマー 例えばエチ
レン/プロピレンコポリマー プロピレン/1−ブテン
コポリマー プロピレン/イソブチレンコポリマー及び
エチレン/1−ブテンコポリマー。 (4)エチレン及びプロピレンとジエン(例えばブタジ
ェン、ヘキサジエン、ジシクロペンタジェン及びエチリ
デンノルボルネン)とのターポリマー(EPDM)。 (5)α−オレフィンとアクリル酸若しくはメタクリル
酸又はそれらの誘導体とのコポリマー 例えばエチレン
/アクリル酸コポリマー エチレン/メタクリル酸コポ
リマー及びエチレン/アクリル酸エチルコポリマー。 (6)スチレン系ポリマー、例えばポリスチレン(ps
)及びポリ(p−メチルスチレン)。 (7)スチレン系コポリマー並びにターポリマー 例え
ばスチレン/ブタジェン(SBR) スチレン/アリ
ルアルコール及びスチレン/アクリロニトリル(SAN
) スチレン/アクリロニトリル/メタクリレートタ
ーポリマー スチレン/ブタジェン/スチレンブロック
コポリマー(SBS) ゴム改質スチレン系ポリマー
例えばアクリル酸エステルポリマーで改質されたスチ
レン/アクリロニトリルコポリマー(ASA) スチ
レンのゴム上へのグラフトコポリマー 例えばポリブタ
ジェン(HIPS) ポリイソプレン又はスチレン/
ブタジェン/スチレンブロックコポリマー(ファイアス
トーン・シンセテイツク・ラバー・アンド・ラテックス
(Firestone 5ynthetic Rubb
er and Latex)社から入手できる製品の「
ステレオン(Stereon) J (商品名))
スチレン/アクリロニトリルのゴム(例えばブタジェ
ン)上へのグラフトコポリマー(ブタジェンの場合に7
はABS)、ポリイソプレン又はスチレン/ブタジェン
/スチレンブロックコポリ、マー スチレン/メタクリ
ル酸メチルのゴム(例えばポリブタジェン)上へのグラ
フトコポリマー(ブタジェンの場合にはMBS) ブ
タジェン/スチレンラジアルブロックコポリマー(例え
ばフィリップス・ペトロリウム(Phillips P
etroleum)社の「KRO3J (商品名))
、選択的に水素化されたブタジェン/スチレンブロック
コポリマー(例えばシェル・ケミカル(Shell C
hemical)社からの「クレイトン(Kraton
) Gj (商品名))並びにそれらの混合物。 (8)ハロゲン含有ビニルモノマーから誘導されるポリ
マー及びコポリマー例工ばポリ(塩化ビニル) ポリ(
弗化ビニル) ポリ(塩化ビニリデン) ポリ(弗化ビ
ニリデン) ポリ(テトラフルオルエチレン)(PTF
E) 塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニ
リデン/酢酸ビニルコポリマー及びエチレン/テトラフ
ルオルエチレンコポリマー。 (9)ハロゲン化ゴム、例えば塩素化且つ(又は)臭素
化されたブチルゴム又はポリオレフィン及びフルオルエ
ラストマー。 (10)α、β−不飽和酸、酸無水物、エステル、アミ
ド及びニトリル又はそれらの組合せから誘導されるポリ
マー及びコポリマー、例えばアクリル酸及びメタクリル
酸、アクリル酸及びメタクリル酸アルキル及び(又は)
グリシジル、アクリルアミド及びメタクリルアミド、ア
クリロニトリル、無水マレイン酸、マレイミドののポリ
マー又はコポリマー この開示に記載された各種酸無水
物含有ポリマー及びコポリマー この項に記載されたポ
リマーと各種ブレンド及びそれらの混合物とのコポリマ
ー並びにこの項に記載されたポリマー及びコポリマーの
ゴム改質物。 (11)不飽和アルコール又はそれらのアシル化誘導体
から誘導されるポリマー及びコポリマー 例えばポリ(
ビニルアルコール) ポリ(酢酸ビニル) ポリ(ステ
アリン酸ビニル) ポリ(安息香酸ビニル) ポリ (
マレイン酸ビニル)ポリ(ビニルブチラール) ポリ(
フタル酸アリル) ポリ(アリルジエチレングリコール
カーボネート)(ADC) エチレン/酢酸ビニルコ
ポリマー及びエチレン/ビニルアルコールコポリマー。 (12)不飽和アミンから誘導されるポリマー及びコポ
リマー 例えばポリ(アリルメラミン)。 (13)エポキシドから誘導されるポリマー及びコポリ
マー 例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシド及びそれらのコポリマー 並びにビスグリシジル
エーテルから誘導されるポリマー。 (14)ポリ(フェニレンオキシド) ポリ(フェニレ
ンエーテル)及びそれらのグラフト結合ポリスチレン又
はゴムを含有する改質物、並びにそれらとポリスチレン
、ゴム改質ポリスチレン又はナイロンとの各種ブレンド
。 (15)ポリカーボネート及び特に芳香族ポリカーボネ
ート、例えばホスゲン及びビスフェノール(ビスフェノ
ールA1テトラブロムビスフエノールA及びテトラメチ
ルビスフェノールA)から誘導されるもの。 (16)ジカルボン酸及びジオール並びに(又は)ヒド
ロキシカルボン酸若しくはそらの対応するラクトンから
誘導されるポリエステル、例えばポリアルキレンフタレ
ート(例えばポリエチレンテレフタレート(PET)
ポリブチレンテレフタレート(PBT)及びポリ(1
,4−ジメチルシクロヘキサンテレフタレート)又はそ
れらのコポリマー)並びにポリカプロラクトンのような
ポリラクトン(17)ビスフェノール(例えばビスフェ
ノールA)並びに各種芳香族酸(例えばイソフタル酸及
びテレフタル酸又はそれらの混合物)から誘導されるポ
リアリ−レート。 (18)カーボネートとポリマーの主鎖中に存在するエ
ステル結合とを有する芳香族コポリエステルカーボネー
ト、例えばビスフェノール、イソ−及びテレフタロイル
クロリド並びにホスゲンから誘導されるもの。 (19)ポリウレタン及びポリ尿素。 (20)ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリオ
キシメチレン。 (21)ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリ
イミドスルホン。 (22)ジアミン及びジカルボン酸から並びに(又は)
アミノカルボン酸若しくはその対応するラクトンから誘
導されるポリアミド並びにコポリアミド、例えば6−ナ
イロン、6,6−ナイロン、6.10−ナイロン、11
−ナイロン及び12−ナイロン。 (23)ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド
イミド及びコポリエーテルエステル。 (24)一方でアルデヒドから、そして他方でフェノー
ル、尿素及びメラミンから誘導される、架橋ポリマー
例えばフェノール/ホルムアルデヒド、尿素/ホルムア
ルデヒド及びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。 (25)アルキル樹脂、例えばグリセリン/フタル酸樹
脂及びそれとメラミン/ホルムアルデヒド樹脂との混合
物。 (26)飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステル並びにビニル化合物(架橋剤)から
誘導される不飽和ポリエステル樹脂とビニルモノマーと
のブレンド並びにそれらのハロゲン含有耐燃性改質物。 (27)天然ポリマー、例えばセルロース及び天然ゴム
並びにそれらの化学的に改質された同族誘導体、例えば
セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セ
ルロースブチレート並びにセルロースエーテル(例えば
メチル及びエチルセルロース)。 [0030] 本発明の新規の安定剤はさらに、上記のポリマー又はコ
ポリマーの各種組合せ物又はブレンドを安定化させるの
に用いることができる。これらは、ポリオレフイン、ア
クリル被膜、スチレン系ポリマー ゴム改質スチレン系
ポリマー ポリ(フェニレンオキシド)及びそれらとス
チレン系ポリマー ゴム改質スチレン系ポリマー又はナ
イロンとの各種ブレンドを安定化させるのに特に有用で
ある。 [0031] 本発明の新規の立体障害アミン系光安定剤は、最終ポリ
マーの特性をさらに高めるために、他の添加剤と共に用
いることができる。本発明の安定剤と共に用いることの
できる他の安定剤の例には、酸化防止剤、例えばアルキ
ル化モノフェノール、アルキル化ヒドロキノン、ヒドロ
キシル化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフ
ェノール、立体障害フェノール系ベンジル化合物、アシ
ルアミノフェノール、3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のエステル、3
−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロピオン酸のエステル、3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アミ
ド、紫外線吸収剤及び光安定剤、例えば2−(2” −
ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2
−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンジリデンマロネート
エステル、置換若しくは非置換安息香酸のエステル、ジ
フェニルアクリレート、ニッケルキレート、蓚酸ジアミ
ド、他の立体障害アミン系光安定剤、他の添加剤、例え
ば金属奪活剤、ホスファイト及びホスホナイト、過酸化
物分解剤、充填剤及び強化材、可塑剤、滑剤、腐蝕防止
剤及び防錆剤、乳化剤、離型剤、カーボンブラック、顔
料、蛍光増白剤、有機及び無機系難燃剤及び不滴下剤、
メルトフロー改善剤及び帯電防止剤が包含される。上記
のタイプの好適な添加剤の多くの例はカナダ国特許第1
190038号に与えられている。 [0032]
以下の例は、本発明のより詳細な説明を提供するための
ものであり、例示としてのものであり、本発明を限定す
るものではない。 [0033] 聞発抱質 1.6−へキサメチレントリアセトンジアミンは、ハル
ス・アメリカ(Huls America)社から得ら
れた。エチルオキサリルクロリド、エチルスクシニルク
ロリド及びエチルマロニルクロリドは、アルドリッチ・
ケミカル(Aldrich Chemical)社から
購入した。エチルアジポイルクロリド及びエチルアゼラ
オイルクロリドは、塩化チオニルとアジピン酸モノエチ
ルエステル及びアゼライン酸モノエチルエステル(これ
らは、アルドリッチ・ケミカル社から購入した)のそれ
ぞれとから製造した。n−ブチルイソシアネート、オク
タデシルイソシアネート及びヘキサヒドロ−4−メチル
フタル酸無水物もまた、アルドリッチ・ケミカル社から
購入した。無水ドデシル琥珀酸は、ハンフリー・ケミカ
ルズ(Humphrey Chemicals)社から
購入した。TMI(ジメチル−m−イソプロペニルベン
ジルイソシアネート)は、アメリカン・シアナミド(A
merican Cyanamid)社から得られた。 85%ヒドラジン水和物は、J、T、ペイカー・ケミカ
ル(Baker Chemical)社から購入した。 「イルガノックス(Irganox) 1076 J
(商品名)(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシヒドロ桂皮酸オクタデシル)は、チバ・ガイギー(
Ciba−Geigy)社から得られた。「U■−チエ
ツク(Chek) AM −340J (商品名)(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)は、フェロ(Ferro
)社から得られた。 [0034] 何よ
ものであり、例示としてのものであり、本発明を限定す
るものではない。 [0033] 聞発抱質 1.6−へキサメチレントリアセトンジアミンは、ハル
ス・アメリカ(Huls America)社から得ら
れた。エチルオキサリルクロリド、エチルスクシニルク
ロリド及びエチルマロニルクロリドは、アルドリッチ・
ケミカル(Aldrich Chemical)社から
購入した。エチルアジポイルクロリド及びエチルアゼラ
オイルクロリドは、塩化チオニルとアジピン酸モノエチ
ルエステル及びアゼライン酸モノエチルエステル(これ
らは、アルドリッチ・ケミカル社から購入した)のそれ
ぞれとから製造した。n−ブチルイソシアネート、オク
タデシルイソシアネート及びヘキサヒドロ−4−メチル
フタル酸無水物もまた、アルドリッチ・ケミカル社から
購入した。無水ドデシル琥珀酸は、ハンフリー・ケミカ
ルズ(Humphrey Chemicals)社から
購入した。TMI(ジメチル−m−イソプロペニルベン
ジルイソシアネート)は、アメリカン・シアナミド(A
merican Cyanamid)社から得られた。 85%ヒドラジン水和物は、J、T、ペイカー・ケミカ
ル(Baker Chemical)社から購入した。 「イルガノックス(Irganox) 1076 J
(商品名)(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシヒドロ桂皮酸オクタデシル)は、チバ・ガイギー(
Ciba−Geigy)社から得られた。「U■−チエ
ツク(Chek) AM −340J (商品名)(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)は、フェロ(Ferro
)社から得られた。 [0034] 何よ
【化27】
A)ジエチルN、 N“−へキサメチレンビス[N−(
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)オ
キサメート]の製造300ミリリツトルの三つロフラス
コ中に1,6−へキサメチレントリアセトンジアミン1
9.7g (0,05モル)及び塩化メチレン200ミ
リリツトルを導入した。このフラスコに、電磁式撹拌機
、温度計、還流冷却管及びエチルオキサリルクロリド1
4.0g (0,10モル)を含有させた滴下漏斗を備
え付けた。冷水浴によって温度を20℃〜30℃の範囲
に調節しながら、撹拌されているジアミン溶液にエチル
オキサリルクロリドを15分かけて滴下した。この添加
が完了した後に、水浴を除去し、反応物を室温において
3時間撹拌した。この塩化メチレン溶液を水200ミリ
リットル中に炭酸ナトリウム15gの撹拌されている溶
液に添加した。この混合物を5分間撹拌し、分液漏斗に
移し、塩化メチレン層を分離した。この塩化メチレン層
を無水硫酸ナトリウムによって乾燥させ、ろ過し、回転
式蒸発器を用いて減圧下で塩化メチレンをストリッピン
グした。残渣は淡褐色の粘性液体32.9gだった。こ
の生成物の赤外スペクトルは、1735cm 及び1
650cm−1に強いカルボニルバンドを含有していた
。 B) N、 N’−へキサメチレンビス[N−(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)オキサミ
ド酸ヒドラジド]の製造Aからの残渣をメタノール10
0ミリリツトル中に溶解させ、250ミリリツトルの三
つロフラスコに移した。このフラスコに、電磁式撹拌機
、温度計、冷却管及び85%ヒドラジン水和物9.0g
(0,15モル)を含有させた滴下漏斗を備え付けた
。このヒドラジン水和物を32℃において約5分かけて
滴下した。 この添加が完了した後に、反応物を1時間撹拌し、−晩
装置した。翌朝、この反応混合物をろ過して少量の不溶
性物質を除去した。次いでろ液をストリッピングして溶
媒を除去した。粘着性の黄色の残渣を加温されたテトラ
ヒドロフラン(THF)150ミリリツトル中でこの残
渣が微細白色固体になるまでスラリー化した。この固形
生成物をろ過し、空気乾燥させた。乾燥させた後に生成
物31.7gは185〜188℃の融点範囲を有してい
た。この生成物の赤外スペクトルは1620cm’及び
1670cm−1に強イカルボニルハントを有し、17
35cm’におけるオキサメート中のエステルバンドは
完全に消失していた。 [0035] 何耳
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)オ
キサメート]の製造300ミリリツトルの三つロフラス
コ中に1,6−へキサメチレントリアセトンジアミン1
9.7g (0,05モル)及び塩化メチレン200ミ
リリツトルを導入した。このフラスコに、電磁式撹拌機
、温度計、還流冷却管及びエチルオキサリルクロリド1
4.0g (0,10モル)を含有させた滴下漏斗を備
え付けた。冷水浴によって温度を20℃〜30℃の範囲
に調節しながら、撹拌されているジアミン溶液にエチル
オキサリルクロリドを15分かけて滴下した。この添加
が完了した後に、水浴を除去し、反応物を室温において
3時間撹拌した。この塩化メチレン溶液を水200ミリ
リットル中に炭酸ナトリウム15gの撹拌されている溶
液に添加した。この混合物を5分間撹拌し、分液漏斗に
移し、塩化メチレン層を分離した。この塩化メチレン層
を無水硫酸ナトリウムによって乾燥させ、ろ過し、回転
式蒸発器を用いて減圧下で塩化メチレンをストリッピン
グした。残渣は淡褐色の粘性液体32.9gだった。こ
の生成物の赤外スペクトルは、1735cm 及び1
650cm−1に強いカルボニルバンドを含有していた
。 B) N、 N’−へキサメチレンビス[N−(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)オキサミ
ド酸ヒドラジド]の製造Aからの残渣をメタノール10
0ミリリツトル中に溶解させ、250ミリリツトルの三
つロフラスコに移した。このフラスコに、電磁式撹拌機
、温度計、冷却管及び85%ヒドラジン水和物9.0g
(0,15モル)を含有させた滴下漏斗を備え付けた
。このヒドラジン水和物を32℃において約5分かけて
滴下した。 この添加が完了した後に、反応物を1時間撹拌し、−晩
装置した。翌朝、この反応混合物をろ過して少量の不溶
性物質を除去した。次いでろ液をストリッピングして溶
媒を除去した。粘着性の黄色の残渣を加温されたテトラ
ヒドロフラン(THF)150ミリリツトル中でこの残
渣が微細白色固体になるまでスラリー化した。この固形
生成物をろ過し、空気乾燥させた。乾燥させた後に生成
物31.7gは185〜188℃の融点範囲を有してい
た。この生成物の赤外スペクトルは1620cm’及び
1670cm−1に強イカルボニルハントを有し、17
35cm’におけるオキサメート中のエステルバンドは
完全に消失していた。 [0035] 何耳
【化28】
A)
例■のAの手順に従って、塩化メチレン200ミリリツ
トル中に1.6−へキサメチレントリアセトンジアミン
19.7g (0,05モル)の溶液にエチルスクシニ
ルクロリド16.5g (0,1モル)を添加すること
によって、ジエチルN、 N’−へキサメチレンビス[
N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ル)スフシナメート]を製造した。中和し、溶媒を蒸発
させた後に、薄い黄褐色の固体30.9gが得られた(
融点110〜113℃)。この生成物の赤外スペクトル
は、1730cm−1及び1630crn’に強いカル
ボニルバンドを含有していた。 B) 例■のBの手順に従って、上記のスフシナメート21.
4g (0,033モル)を含有するメタノール性溶液
71.8gの過剰の85%ヒドラジン水和物129g(
0゜22モル)によるヒドラジツリシスによって、N、
N′ −へキサメチレンビス[N−(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジニル)スクシンアミド酸
ヒドラジド]を製造した。ヒドラジツリシスを完結させ
るために、反応物を3時間還流した。溶媒を蒸発させて
、粘性の黄色の液体27.8gが得られこれを一晩放置
して結晶化さぜな(融点81〜88℃)。その赤外スペ
クトル(塩化メチレン中)は、1620cm’に強く鋭
いカルボニルバンドを、そして1665cm’により弱
いカルボニルバンドを有していた。1730cm−1に
おけるスフシナメートのエステルバンドは完全に消失し
ていた。 [0036] 例III
トル中に1.6−へキサメチレントリアセトンジアミン
19.7g (0,05モル)の溶液にエチルスクシニ
ルクロリド16.5g (0,1モル)を添加すること
によって、ジエチルN、 N’−へキサメチレンビス[
N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ル)スフシナメート]を製造した。中和し、溶媒を蒸発
させた後に、薄い黄褐色の固体30.9gが得られた(
融点110〜113℃)。この生成物の赤外スペクトル
は、1730cm−1及び1630crn’に強いカル
ボニルバンドを含有していた。 B) 例■のBの手順に従って、上記のスフシナメート21.
4g (0,033モル)を含有するメタノール性溶液
71.8gの過剰の85%ヒドラジン水和物129g(
0゜22モル)によるヒドラジツリシスによって、N、
N′ −へキサメチレンビス[N−(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジニル)スクシンアミド酸
ヒドラジド]を製造した。ヒドラジツリシスを完結させ
るために、反応物を3時間還流した。溶媒を蒸発させて
、粘性の黄色の液体27.8gが得られこれを一晩放置
して結晶化さぜな(融点81〜88℃)。その赤外スペ
クトル(塩化メチレン中)は、1620cm’に強く鋭
いカルボニルバンドを、そして1665cm’により弱
いカルボニルバンドを有していた。1730cm−1に
おけるスフシナメートのエステルバンドは完全に消失し
ていた。 [0036] 例III
【化29】
A)
例■のAの手順に従って、塩化メチレン200ミリリツ
トル中に1.6−へキサメチレントリアセトンジアミン
19.7g (0,05モル)の溶液にエチルマロニル
クロリド15.06g (0,1モル)を添加すること
によって、ジエチルN、 N’−へキサメチレンビス[
N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ル)マロナメー斗]を製造した。中和し、溶媒を蒸発さ
せた後に、茶色の粘性液体28.5gが得られた。この
残渣の赤外スペクトルは、1735cm’及び1640
cm’に強いカルボニルバンドを含有していた。 B) 例■のBの手順に従って、メタノール75ミリリツトル
中に上記のマロナメー)28.5g (0,05モル)
の溶液の過剰の54%ヒドラジン水和物11.85g
(0,2モル)によるヒドラジツリシスによって、N、
N’ −へキサメチレンビス[N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル)マロンアミド酸
ヒドラジド]を製造した。メタノール性反応混合物を3
時間還流した後に、赤外線分光分析は、エステル基が完
全にヒドラジドに転化したことを示した。蒸発によって
メタノールを除去し、生成物を塩化メチレンに溶解させ
、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによって乾燥させ、
塩化メチレンを蒸発させることによって再び単離した。 この生成物は黄色の粘性液体であり、その量は27.0
gだった。その赤外スペクトルは、1620 cm−1
及び1670cm−1に強いカルボニルバンドを含有し
ていた。 [0037] 例■■
トル中に1.6−へキサメチレントリアセトンジアミン
19.7g (0,05モル)の溶液にエチルマロニル
クロリド15.06g (0,1モル)を添加すること
によって、ジエチルN、 N’−へキサメチレンビス[
N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ル)マロナメー斗]を製造した。中和し、溶媒を蒸発さ
せた後に、茶色の粘性液体28.5gが得られた。この
残渣の赤外スペクトルは、1735cm’及び1640
cm’に強いカルボニルバンドを含有していた。 B) 例■のBの手順に従って、メタノール75ミリリツトル
中に上記のマロナメー)28.5g (0,05モル)
の溶液の過剰の54%ヒドラジン水和物11.85g
(0,2モル)によるヒドラジツリシスによって、N、
N’ −へキサメチレンビス[N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル)マロンアミド酸
ヒドラジド]を製造した。メタノール性反応混合物を3
時間還流した後に、赤外線分光分析は、エステル基が完
全にヒドラジドに転化したことを示した。蒸発によって
メタノールを除去し、生成物を塩化メチレンに溶解させ
、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによって乾燥させ、
塩化メチレンを蒸発させることによって再び単離した。 この生成物は黄色の粘性液体であり、その量は27.0
gだった。その赤外スペクトルは、1620 cm−1
及び1670cm−1に強いカルボニルバンドを含有し
ていた。 [0037] 例■■
【化301
A)
例■のAの手順に従って、塩化メチレン125ミリリツ
トル中の1,6−へキサメチレントリアセトンジアミン
9.9g (0,025モル)及びモノエチルアジポイ
ルクロリド9.2g (0,05モル)から、ジエチル
N、 N′ 二へキサメチレンビス[N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アジバメート
]を製造した。中和し、溶媒を蒸発させた後に、淡褐色
の粘性液体17.0gが得られた。こδ残渣の赤外スペ
クトルは、1735 cm−1及び1630cm−1に
強いカルボニルバンドを含有していた。 B) 例工のBの手順に従って、メタノール40ミリリツトル
中に上記のアジパメー)27.0g (0,025モル
)の溶液の過剰の54%ヒドラジン水和物6.0g(領
1モル)によるヒドラジツリシスによって、N、 N
′ −へキサメチレンビス[N−(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジニル)アジポアミド酸ヒドラ
ジド]を製造した。ヒドラジツリシスを完結させるため
に、このメタノール性溶液を5時間還流した。反応混合
物を急冷し、例IIIのBの手順に従って生成物を単離
した。塩化メチレンを蒸発させた後に、得られた生成物
は淡褐色の粘性半固体(17,05g)だった。この生
成物の赤外スペクトルは、1620cm 及び166
0cm−1に強いカルボニルバンドを含有していた。 [0038] 例N− 【化31】 A) 例■のAの手順に従って、塩化メチレン70ミリリツト
ル中の1,6−へキサメチレントリアセトンジアミン3
.5g (0,0,09モル)及びモノエチルアゼラオ
イルクロリド3.8g (0,017モル)から、ジエ
チルN、 N’ −へキサメチレンビス[N−(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アゼラメ
ート]を製造した。中和し、溶媒を蒸発させた後に、淡
褐色の粘性液体6.45gが得られた。この生成物の赤
外スペクトルは、1735crn−1及び1625cm
−1に強いカルボニルバンドを含有してν、た。 B) 例IIのBの手順に従って、メタノール40ミリリツト
ル中に上記のアゼラメ−)6.45g (0,0085
モル)の溶液の過剰の54%ヒドラジン水和物3゜35
g (0,056モル)によるヒドラジツリシスによっ
て、N、 N’ −へキサメチレンビス[N−(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アゼラ
ミド酸ヒドラジド]を製造した。ヒドラジツリシスを完
結させるために、このメタノール性溶液を5時間還流し
た。反応混合物を息冷し、例I工IのBの手順に従って
生成物を単離した。塩化メチレンを蒸発させた後に、生
成物6.6gは黄色の粘性液体だった。この生成物の赤
外スペクトルは、1620cm’及び1660cm’に
強いカルボニルバンドを含有していた。 [0039] 電磁式撹拌機、温度計及び還流冷却管付きディージ・ス
ターク(Dean S員rk)式トラップを備えた50
0ミリリツトル三つロフラスコ中で、キシレン200ミ
リリツトル中に無水ドデシル琥珀酸28.2g (0,
105モル)の溶液を加熱しな。溶液の温度がほぼ12
0℃に達した時に、例■のBからのビスヒドラジド14
.2gを5分かけて添加した。このヒドラジドは容易に
溶解し、そして反応物を加熱還流した。この反応混合物
を1時間共沸蒸留し、130℃に冷却し、さらに14.
2gのビスHALSオキサリルヒドラジドを添加した。 この反応混合物を再び加熱還流し、さらに2時間共沸蒸
留した。ディージ・スターク式トラップ中に合計1.2
ミリリツトルの水が採集された(水の理論量は1,8ミ
リリツトルである)。このキシレン溶液を80℃に冷却
し、1リツトルのフラスコに移した。次いで回転式蒸発
器を用いて減圧下でキシレンをストリッピングした。残
渣をドライアイスによって冷却して脆い面体にし、破砕
し、フラスコから掻き出した。固化した残渣を乳鉢及び
乳棒によって微粉砕し、フード中で一晩空気乾燥させた
。生成物47.4gが得られ、これは150〜173℃
の融点範囲を有しティた。その赤外走査は、1725c
m−1(イミド) 1655cm−1(アミド酸)及
び1565cm’にカルボニルバンドを含有していた。 この生成物は、NN′−へキサメチレンビス[N−(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)オキ
サミド酸ヒドラジド]のドデシルスクシンイミド誘導体
及びドデシルスクシンアミド酸誘導体の混合物だった。 [0040] 例VII ほとんどが溶解した。この反応物を1時間撹拌し、水浴
中で50℃に加温し、40〜50℃におし)でさらに2
時間撹拌した。濁った溶液をろ過して少量の不溶性物質
を除去した。回転式蒸発器を用いて減圧下でろ液を濃縮
した。ヒートガンを用いて最後の痕跡量の溶媒を除去し
た。次いで残渣をドライアイスによって冷却して脆いガ
ラス様物質を形成させた。この脆いガラス様物質を破砕
し、フラスコから掻き出し、乳鉢及び乳棒によって微粉
砕して白色粉末にした。フード中で一晩空気乾燥さぜな
後に、生成物22.5gが得られ、これは95〜102
℃の融点範囲を有していた。この生成物の赤外スペクト
ルは、1700cm−1に広い並みのカルボニルバンド
を、そして1620cm’及び1535cm’に強く広
いカルボニルバンドを含有していた。 [0041] n反応 A)ビスアミド酸の製造
トル中の1,6−へキサメチレントリアセトンジアミン
9.9g (0,025モル)及びモノエチルアジポイ
ルクロリド9.2g (0,05モル)から、ジエチル
N、 N′ 二へキサメチレンビス[N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アジバメート
]を製造した。中和し、溶媒を蒸発させた後に、淡褐色
の粘性液体17.0gが得られた。こδ残渣の赤外スペ
クトルは、1735 cm−1及び1630cm−1に
強いカルボニルバンドを含有していた。 B) 例工のBの手順に従って、メタノール40ミリリツトル
中に上記のアジパメー)27.0g (0,025モル
)の溶液の過剰の54%ヒドラジン水和物6.0g(領
1モル)によるヒドラジツリシスによって、N、 N
′ −へキサメチレンビス[N−(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジニル)アジポアミド酸ヒドラ
ジド]を製造した。ヒドラジツリシスを完結させるため
に、このメタノール性溶液を5時間還流した。反応混合
物を急冷し、例IIIのBの手順に従って生成物を単離
した。塩化メチレンを蒸発させた後に、得られた生成物
は淡褐色の粘性半固体(17,05g)だった。この生
成物の赤外スペクトルは、1620cm 及び166
0cm−1に強いカルボニルバンドを含有していた。 [0038] 例N− 【化31】 A) 例■のAの手順に従って、塩化メチレン70ミリリツト
ル中の1,6−へキサメチレントリアセトンジアミン3
.5g (0,0,09モル)及びモノエチルアゼラオ
イルクロリド3.8g (0,017モル)から、ジエ
チルN、 N’ −へキサメチレンビス[N−(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アゼラメ
ート]を製造した。中和し、溶媒を蒸発させた後に、淡
褐色の粘性液体6.45gが得られた。この生成物の赤
外スペクトルは、1735crn−1及び1625cm
−1に強いカルボニルバンドを含有してν、た。 B) 例IIのBの手順に従って、メタノール40ミリリツト
ル中に上記のアゼラメ−)6.45g (0,0085
モル)の溶液の過剰の54%ヒドラジン水和物3゜35
g (0,056モル)によるヒドラジツリシスによっ
て、N、 N’ −へキサメチレンビス[N−(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アゼラ
ミド酸ヒドラジド]を製造した。ヒドラジツリシスを完
結させるために、このメタノール性溶液を5時間還流し
た。反応混合物を息冷し、例I工IのBの手順に従って
生成物を単離した。塩化メチレンを蒸発させた後に、生
成物6.6gは黄色の粘性液体だった。この生成物の赤
外スペクトルは、1620cm’及び1660cm’に
強いカルボニルバンドを含有していた。 [0039] 電磁式撹拌機、温度計及び還流冷却管付きディージ・ス
ターク(Dean S員rk)式トラップを備えた50
0ミリリツトル三つロフラスコ中で、キシレン200ミ
リリツトル中に無水ドデシル琥珀酸28.2g (0,
105モル)の溶液を加熱しな。溶液の温度がほぼ12
0℃に達した時に、例■のBからのビスヒドラジド14
.2gを5分かけて添加した。このヒドラジドは容易に
溶解し、そして反応物を加熱還流した。この反応混合物
を1時間共沸蒸留し、130℃に冷却し、さらに14.
2gのビスHALSオキサリルヒドラジドを添加した。 この反応混合物を再び加熱還流し、さらに2時間共沸蒸
留した。ディージ・スターク式トラップ中に合計1.2
ミリリツトルの水が採集された(水の理論量は1,8ミ
リリツトルである)。このキシレン溶液を80℃に冷却
し、1リツトルのフラスコに移した。次いで回転式蒸発
器を用いて減圧下でキシレンをストリッピングした。残
渣をドライアイスによって冷却して脆い面体にし、破砕
し、フラスコから掻き出した。固化した残渣を乳鉢及び
乳棒によって微粉砕し、フード中で一晩空気乾燥させた
。生成物47.4gが得られ、これは150〜173℃
の融点範囲を有しティた。その赤外走査は、1725c
m−1(イミド) 1655cm−1(アミド酸)及
び1565cm’にカルボニルバンドを含有していた。 この生成物は、NN′−へキサメチレンビス[N−(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)オキ
サミド酸ヒドラジド]のドデシルスクシンイミド誘導体
及びドデシルスクシンアミド酸誘導体の混合物だった。 [0040] 例VII ほとんどが溶解した。この反応物を1時間撹拌し、水浴
中で50℃に加温し、40〜50℃におし)でさらに2
時間撹拌した。濁った溶液をろ過して少量の不溶性物質
を除去した。回転式蒸発器を用いて減圧下でろ液を濃縮
した。ヒートガンを用いて最後の痕跡量の溶媒を除去し
た。次いで残渣をドライアイスによって冷却して脆いガ
ラス様物質を形成させた。この脆いガラス様物質を破砕
し、フラスコから掻き出し、乳鉢及び乳棒によって微粉
砕して白色粉末にした。フード中で一晩空気乾燥さぜな
後に、生成物22.5gが得られ、これは95〜102
℃の融点範囲を有していた。この生成物の赤外スペクト
ルは、1700cm−1に広い並みのカルボニルバンド
を、そして1620cm’及び1535cm’に強く広
いカルボニルバンドを含有していた。 [0041] n反応 A)ビスアミド酸の製造
【化34】
このアミド酸誘導体は、例II〜■のビスHALSアミ
ド酸ヒドラジドをTHF中で当量のへキサヒドロ−4−
メチルフタル酸無水物と反応させることによって製造し
た。ビスHALSアミド酸ヒドラジドのTHF溶液にこ
の酸無水物を室温においで添加しな。僅かな発熱(5〜
10℃)が起こり、白色の固形物質が形成した後に、こ
の反応混合物を50℃に1時間加温し、次いでろ過した
。この生成物の赤外スペクトルは、1615〜1620
cm−1の範囲に広いカルボニルバンドを有していた
。結果を下記の表(表1)にまとめる。例XIAのアミ
ド酸ばTHFをデカンテーションした後に粘着性の固体
であり、特性決定できなかった。 [0042]
ド酸ヒドラジドをTHF中で当量のへキサヒドロ−4−
メチルフタル酸無水物と反応させることによって製造し
た。ビスHALSアミド酸ヒドラジドのTHF溶液にこ
の酸無水物を室温においで添加しな。僅かな発熱(5〜
10℃)が起こり、白色の固形物質が形成した後に、こ
の反応混合物を50℃に1時間加温し、次いでろ過した
。この生成物の赤外スペクトルは、1615〜1620
cm−1の範囲に広いカルボニルバンドを有していた
。結果を下記の表(表1)にまとめる。例XIAのアミ
ド酸ばTHFをデカンテーションした後に粘着性の固体
であり、特性決定できなかった。 [0042]
【表11
人工
N、N”−へキサメチレンビス[N−(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジニル)アミド酸ヒドラジ
ド]と(0043] B)ビスイミドの製造 【化35】 工程Aにおいて製造したアミド酸誘導体をキシレン中で
、ディージ・スターク式トラップ中にもはや水が採集さ
れなくなるまで(1〜1.5時間)水を共沸除去しなが
ら還流することによって、このアミド酸誘導体を環化さ
せて対応する環状イミドにした。熱キシレン溶液から不
溶性物質をろ別し、回転式蒸発器を用いて減圧下でキシ
レンをストリッピングすることによって生成物を単離し
た。このンドを、そして1615〜1620cm−1に
強く広いカルボニルバンドを含有していた。結果を下記
の表(表2)にまとめる。 [0044]
−テトラメチル−4−ピペリジニル)アミド酸ヒドラジ
ド]と(0043] B)ビスイミドの製造 【化35】 工程Aにおいて製造したアミド酸誘導体をキシレン中で
、ディージ・スターク式トラップ中にもはや水が採集さ
れなくなるまで(1〜1.5時間)水を共沸除去しなが
ら還流することによって、このアミド酸誘導体を環化さ
せて対応する環状イミドにした。熱キシレン溶液から不
溶性物質をろ別し、回転式蒸発器を用いて減圧下でキシ
レンをストリッピングすることによって生成物を単離し
た。このンドを、そして1615〜1620cm−1に
強く広いカルボニルバンドを含有していた。結果を下記
の表(表2)にまとめる。 [0044]
【表2】
[0045]
【化36】
表II
1開+4−117360 (74)
このイソシアネート付加物は、例II〜VのビスHAL
Sアミド酸ヒドラジドをTHF中で当量のイソシアネー
トと反応させることによって製造した。アミド酸ヒドラ
ジドのインシアネート付加物への完全な転化を確実にす
るために、この反応物を室温において30分間撹拌し、
次いで1時間還流(65℃)した。回転式蒸発器を用い
て減圧下でTHFを蒸発させることによって生成物を単
離した。残渣を乳鉢及び乳棒によって微粉砕し、フード
中で一晩空気乾燥させた。結果を下記の表(表3)にま
とめる。この生成物は、その赤外スペクトル中の167
0cげられな。 [0046]
Sアミド酸ヒドラジドをTHF中で当量のイソシアネー
トと反応させることによって製造した。アミド酸ヒドラ
ジドのインシアネート付加物への完全な転化を確実にす
るために、この反応物を室温において30分間撹拌し、
次いで1時間還流(65℃)した。回転式蒸発器を用い
て減圧下でTHFを蒸発させることによって生成物を単
離した。残渣を乳鉢及び乳棒によって微粉砕し、フード
中で一晩空気乾燥させた。結果を下記の表(表3)にま
とめる。この生成物は、その赤外スペクトル中の167
0cげられな。 [0046]
【表3】
表III
[0047]
例Xv
596一
【化37】
250ミリリツトル三つロフラスコ中にN、 N’−へ
キサメチレンビス[N−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル)オキサミド酸ヒドラジド]11
.33g (0,02モル) 2−ブタノン3.6g(
0,05モル)及びキシレン125ミリリツトルを導入
した。このフラスコに、電磁式撹拌機、温度計及び還流
冷却管を備え付けた。このフラスコを油浴中で加熱して
、約126℃において1時間、穏やかに還流した。1時
間還流した後に、この装置にディー2・スターク式トラ
ップを付け、この反応混合物をディー2・スターク式ト
ラップ中にもはや水が採集されなくなるまで(2時間)
共沸蒸留した。この反応混合物を90℃に冷却し、50
0ミリリツトル丸底フラスコに移した。回転式蒸発器を
用いてヒートガンを用いて減圧下でキシレンをストリッ
ピングした。残渣をフラスコから掻き出し、乳鉢及び乳
棒によって微粉砕して淡黄色粉末にした。生成物8鋭い
カルボニルバンドを含有していた。 [0048] 例XVI U 例XVの手順に従って例IIのN、 N’−へキサメチ
レンビス[N−(2,2,6゜6−テトラメチル−4−
ピペリジニル)スクシンアミド酸ヒドラジド]12.4
5g (0,02モル)を2−ブタノン3.6g (0
,05モル)と反応させることによって、2−ブタノン
のジー[N、N’−へキサメチレンビス[N−(2,2
゜6.6−テトラメチル−4−ピペリジニル)スクシン
アミド酸ヒドラゾン]を製造しな。生成物10.4gが
単離され、これは50〜54℃の融点範囲を有していた
。塩化メチレン中におけるこの生成物の赤外スペクトル
は、1675及び1630crn−1に強いカルボニル
バンドを含有していた。 [0049] 「ハイモント(Himont) 6501 J (商
品名)ポリプロピレン、ビスHALSアミド酸ヒドラジ
ド又はその誘導体及び随意としての少量の立体障害フェ
ノール系酸化防止剤(「イルガノックス1076J)の
乾燥ブレンドをポリエチレン容器中で製造した(組成に
ついては下記の表(表4)を参照されたい)。ポリプロ
ピレン中に添加剤が良好に分散されるのを確実にするた
めに、このブレンドをよく振った。次いでこのブレンド
を、スクリュー直径25.4mm (1インチ)長さの
直径に対する比25:1のブラベンダー・プレグ・セン
ター(Bravender Prep Center)
押出機1340型によって押出成形した。この押出機は
、300rpmのスクリュー速度で作動させ、全ての加
熱帯域は200℃に調節した。押出品の初めの100g
は、試、験と試験の間に押出機をパージするのに用いて
、廃棄した。残った押出品を空冷し、ペレット化させた
。このポリプロピレン中の2゜2.6.6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル基の濃度はほぼ0.3%だった。 用いた場合のイルガノックス1076の濃度はほぼ0.
25%だった。用いた場合のUV−チエツクAM−34
0は、0.22%の濃度で相果剤としていくつかのブレ
ンド中に含有させた。 [0050] ニューバリー(Newbury) 25 ) ン射出成
形機中で204℃(400’ F)においてペレットを
射呂成形して187 mmX 19 mmX 3 mm
((7+3/8)インチ×374インチ×178イン
チ)の引張試験片にした。 比較のために、イルガノックス1076のみを含有する
対照用試料を含めた。 また、イルガノックス1076及びチバ・ガイギー社の
商品の光安定剤「シマソーブ(Chimasorb)
944 j (商品名)又は「チヌビン(Tinuv
in) 770 J (商品名)を含有する対照用試
料も比較用に含めた。 この引張試験片をQUV促進耐候性試験機(Qパネル(
Panel)社製)中に様々な暴露時間で入れた。この
QUVはUV−B電球を含有し、60℃における8時間
の光サイクル及び50℃における4時間の凝縮サイクル
で作動させた。試料をQUV中に入れ、毎日同じ時刻に
周期的に取り出した。ASTM法638に従って備え付
けのインストロン試験機上でこの引張試験片を引っ張っ
た。インストロン試験機において脆化破断を得るのに必
要な最小QUV暴露時間を測定した。結果は、15%の
伸びが得られる前に引張状、弦月が切れた場合を脆化破
断とみなすまた、引張試、弦月の表面に斑点及び曇りが
発生するのに必要なQUV時間も記録した。 結果を下記の表4にまとめる。 [0051] また、QUV中で同じ操作条件下で60〜80日間UV
−A電球にも引張状、弦月を暴露した。次いで引張試験
片をインストロン試験機上で引っ張った。脆化破断を不
合格とみなし、15%より大きい伸びを合格とした。こ
れらの結果もまた下記の表4にまとめる。 [0052] これらの結果は、本発明の化合物がポリプロピレン用の
有効な光安定剤でありたいていの場合にUV−A及びU
V−B光の両方の分解作用に対して市販の光安定剤より
かなり効果的であることを示す。 [0053]
キサメチレンビス[N−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル)オキサミド酸ヒドラジド]11
.33g (0,02モル) 2−ブタノン3.6g(
0,05モル)及びキシレン125ミリリツトルを導入
した。このフラスコに、電磁式撹拌機、温度計及び還流
冷却管を備え付けた。このフラスコを油浴中で加熱して
、約126℃において1時間、穏やかに還流した。1時
間還流した後に、この装置にディー2・スターク式トラ
ップを付け、この反応混合物をディー2・スターク式ト
ラップ中にもはや水が採集されなくなるまで(2時間)
共沸蒸留した。この反応混合物を90℃に冷却し、50
0ミリリツトル丸底フラスコに移した。回転式蒸発器を
用いてヒートガンを用いて減圧下でキシレンをストリッ
ピングした。残渣をフラスコから掻き出し、乳鉢及び乳
棒によって微粉砕して淡黄色粉末にした。生成物8鋭い
カルボニルバンドを含有していた。 [0048] 例XVI U 例XVの手順に従って例IIのN、 N’−へキサメチ
レンビス[N−(2,2,6゜6−テトラメチル−4−
ピペリジニル)スクシンアミド酸ヒドラジド]12.4
5g (0,02モル)を2−ブタノン3.6g (0
,05モル)と反応させることによって、2−ブタノン
のジー[N、N’−へキサメチレンビス[N−(2,2
゜6.6−テトラメチル−4−ピペリジニル)スクシン
アミド酸ヒドラゾン]を製造しな。生成物10.4gが
単離され、これは50〜54℃の融点範囲を有していた
。塩化メチレン中におけるこの生成物の赤外スペクトル
は、1675及び1630crn−1に強いカルボニル
バンドを含有していた。 [0049] 「ハイモント(Himont) 6501 J (商
品名)ポリプロピレン、ビスHALSアミド酸ヒドラジ
ド又はその誘導体及び随意としての少量の立体障害フェ
ノール系酸化防止剤(「イルガノックス1076J)の
乾燥ブレンドをポリエチレン容器中で製造した(組成に
ついては下記の表(表4)を参照されたい)。ポリプロ
ピレン中に添加剤が良好に分散されるのを確実にするた
めに、このブレンドをよく振った。次いでこのブレンド
を、スクリュー直径25.4mm (1インチ)長さの
直径に対する比25:1のブラベンダー・プレグ・セン
ター(Bravender Prep Center)
押出機1340型によって押出成形した。この押出機は
、300rpmのスクリュー速度で作動させ、全ての加
熱帯域は200℃に調節した。押出品の初めの100g
は、試、験と試験の間に押出機をパージするのに用いて
、廃棄した。残った押出品を空冷し、ペレット化させた
。このポリプロピレン中の2゜2.6.6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル基の濃度はほぼ0.3%だった。 用いた場合のイルガノックス1076の濃度はほぼ0.
25%だった。用いた場合のUV−チエツクAM−34
0は、0.22%の濃度で相果剤としていくつかのブレ
ンド中に含有させた。 [0050] ニューバリー(Newbury) 25 ) ン射出成
形機中で204℃(400’ F)においてペレットを
射呂成形して187 mmX 19 mmX 3 mm
((7+3/8)インチ×374インチ×178イン
チ)の引張試験片にした。 比較のために、イルガノックス1076のみを含有する
対照用試料を含めた。 また、イルガノックス1076及びチバ・ガイギー社の
商品の光安定剤「シマソーブ(Chimasorb)
944 j (商品名)又は「チヌビン(Tinuv
in) 770 J (商品名)を含有する対照用試
料も比較用に含めた。 この引張試験片をQUV促進耐候性試験機(Qパネル(
Panel)社製)中に様々な暴露時間で入れた。この
QUVはUV−B電球を含有し、60℃における8時間
の光サイクル及び50℃における4時間の凝縮サイクル
で作動させた。試料をQUV中に入れ、毎日同じ時刻に
周期的に取り出した。ASTM法638に従って備え付
けのインストロン試験機上でこの引張試験片を引っ張っ
た。インストロン試験機において脆化破断を得るのに必
要な最小QUV暴露時間を測定した。結果は、15%の
伸びが得られる前に引張状、弦月が切れた場合を脆化破
断とみなすまた、引張試、弦月の表面に斑点及び曇りが
発生するのに必要なQUV時間も記録した。 結果を下記の表4にまとめる。 [0051] また、QUV中で同じ操作条件下で60〜80日間UV
−A電球にも引張状、弦月を暴露した。次いで引張試験
片をインストロン試験機上で引っ張った。脆化破断を不
合格とみなし、15%より大きい伸びを合格とした。こ
れらの結果もまた下記の表4にまとめる。 [0052] これらの結果は、本発明の化合物がポリプロピレン用の
有効な光安定剤でありたいていの場合にUV−A及びU
V−B光の両方の分解作用に対して市販の光安定剤より
かなり効果的であることを示す。 [0053]
【表4】
【表5】
【化24】
X工X
Claims (29)
- 【請求項1】次式(化1) 【化1】 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは ・水素、 ・オキシル、 ・ヒドロキシ、 ・1〜20個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂
肪族、・7〜22個の炭素原子を有する置換若しくは非
置換アリール脂肪族、・2〜20個の炭素原子を有する
置換若しくは非置換脂肪族アシル、・6〜13個の炭素
原子を有する置換若しくは非置換脂環式アシル、・7〜
20個の炭素原子を有する置換若しくは非置換芳香族ア
シル、・8〜16個の炭素原子を有する置換若しくは非
置換アリール脂肪族アシル(ここで、上記の置換された
基の全てについての置換基は、塩素、臭素、1〜8個の
炭素原子を有するアルキル、1〜8個の炭素原子を有す
るアルコキシ、フエノキシ、シアノ、ヒドロキシ又はエ
ポキシの少なくとも1種である)、・2〜9個の炭素原
子を有するアルコキシカルボニル、・6〜18個の炭素
原子を有するシクロアルコキシカルボニル、・7〜15
個の炭素原子を有するアリールオキシカルボニル、・一
置換カルバモイル (ここで、置換基は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル、5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル、
7〜15個の炭素原子を有するアルアルキル又は6〜1
4個の炭素原子を有するアリールである)、・二置換カ
ルバモイル (ここで、置換基はそれぞれ1〜20個の炭素原子を有
するアルキル、5〜12個の炭素原子を有するシクロア
ルキル又は7〜15個の炭素原子を有するアルアルキル
である)、・2−シアノエチル、 ・2〜6個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル、・
3〜10個の炭素原子を有するエポキシアルキル又は ・4〜30個の炭素原子を有するポリアルキレンオキシ
ドであり、 R^1は水素又は1〜4個の炭素原子を有する低級アル
キルであり、R^2は ・2〜18個の炭素原子を有するアルキレン、・4〜1
8個の炭素原子を有し且つ1〜2個の−O−、−S−又
は−NH−複素原子を含有するアルキレン(但し、複数
の複素原子は少なくとも1個の炭素原子によって互いに
隔離され且つ該アルキレン基の末端から隔離されていな
ければならない)、 ・5〜18個の炭素原子を有するシクロアルキレン、・
14〜18個の炭素原子を有するアルキリデンジシクロ
アルキレン、・14〜18個の炭素原子を有するシクロ
アルキレンジアルキレン、・14〜18個の炭素原子を
有するアルキレン−ジシクロアルキレン、・6〜12個
の炭素原子を有するアリーレン、・13〜18個の炭素
原子を有するアルキレンジアリーレン、・14〜18個
の炭素原子を有するアルキリデンジアリーレン又は ・8〜18個の炭素原子を有するアルアルキレンであり
、 R^3は ・直接結合、 ・1〜14個の炭素原子を有するアルキレン、・2〜1
0個の炭素原子を有するアルケニレン、・4〜10個の
炭素原子を有するオキシジアルキレン、・4〜10個の
炭素原子を有するチオジアルキレン又は ・置換若しくは非置換o−、m−若しくはp−フェニレ
ン(ここで、置換基は1〜6個の炭素原子を有する低級
アルキル、ヒドロキシ、臭素、塩素、メルカプト又は1
〜6個の炭素原子を有する低級アルキルメルカプトであ
る) であり、 R^4は ・水素、 ・1〜8個の炭素原子を有するアルキル、 ・7〜12個の炭素原子を有するアルアルキル又は ・5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキルであり
、 R^5は(R^6)(R^7)N−、(R^8)(R^
9)C=N−、MOC(=O)−R^1^0−C(=O
)−N(R^6)−又は次の基(化2)であり、【化2
】 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、R^6は ・水素、 ・1〜12個の炭素原子を有するアルキル、・5〜12
個の炭素原子を有するシクロアルキル、・7〜12個の
炭素原子を有するアルアルキル又は ・6〜14個の炭素原子を有するアリール であり、 R^7は ・水素、 ・1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル、・2〜2
0個の炭素原子を有する置換若しくは非置換脂肪族アシ
ル、・6〜13個の炭素原子を有する置換若しくは非置
換脂環式アシル、・8〜16個の炭素原子を有する置換
若しくは非置換アリール脂肪族アシル、・7〜20個の
炭素原子を有する置換若しくは非置換芳香族アシル(こ
こで、置換されたアシル基についての置換基は、塩素、
臭素、1〜8個の炭素原子を有するアルキル、1〜8個
の炭素原子を有するアルコキシ、フェノキシ、シアノ、
ヒドロキシ又はエポキシの少なくとも1種である)、・
2〜13個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、
・6〜13個の炭素原子を有するシクロアルコキシカル
ボニル、・7〜15個の炭素原子を有するアリールオキ
シカルボニル、・2〜6個の炭素原子を有するヒドロキ
シアルキル、・カルバモイル、 ・チオカルバモイル、 ・一置換カルバモイル若しくは一置換チオカルバモイル
(ここで、置換基は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル、3〜12個の炭素原子を有するアルケニル、5〜
12個の炭素原子を有するシクロアルキル、7〜15個
の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルアルキル又
は6〜14個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ア
リールである)又は ・二置換カルバモイル若しくは二置換チオカルバモイル
(ここで、置換基はそれぞれ1〜20個の炭素原子を有
するアルキル、5〜12個の炭素原子を有するシクロア
ルキル、7〜15個の炭素原子を有する置換若しくは非
置換アルアルキル又は6〜14個の炭素原子を有する置
換若しくは非置換アリールである) であり、 ここで、一置換及び二置換カルバモイル基の両方につい
ての置換されたアルアルキル基及び置換されたアリール
基についての置換基は、塩素、臭素、1〜8個の炭素原
子を有するアルキル、3〜8個の炭素原子を有するアル
ケニル又は1〜8個の炭素原子を有するアルコキシの少
なくとも1種であり、R^8及びR^9はそれぞれ ・水素、 ・1〜12個の炭素原子を有するアルキル、・5〜12
個の炭素原子を有するシクロアルキル又は ・6〜18個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ア
リール(ここで、置換基は1〜8個の炭素原子を有する
低級アルキル、1〜8個の炭素原子を有する低級アルコ
キシ、ヒドロキシ、臭素又は塩素である)であるか、或
いはR^8及びR^9が互いに結合して5〜12個の炭
素原子を有する置換若しくは非置換脂環式環(ここで、
置換基は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキルであ
る)を形成するか、又はR^8及びR^9が一緒になっ
て5〜15個の炭素原子を有する置換若しくは非置換ピ
ペリジン環(ここで、置換基は1〜4個の炭素原子を有
する低級アルキルである)を形成するかであり、R^1
^0は ・6〜12個の炭素原子を有する置換若しくは非置換1
,2−アリーレン、・10〜14個の炭素原子を有する
置換若しくは非置換1,8−ナフチレン、・7〜13個
の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルアルキレン
、・2〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
1,2−アルキレン、・3〜10個の炭素原子を有する
置換若しくは非置換1,3−アルキレン、・2〜10個
の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルケン−1,
2−ジイル、 ・6〜10個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の
置換若しくは非置換シクロアルキレン 又は ・7〜8個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の置
換若しくは非置換ビシクロアルキレン であり、 ここで、R^1^0についての置換基は ・・塩素、 ・・臭素、 ・・1〜180個の炭素原子を有するアルキル、・・1
〜180個の炭素原子を有するアルキルチオ、・・7〜
20個の炭素原子を有するアルアルキルチオ、・・6〜
20個の炭素原子を有するアリールチオ、・・2〜18
0個の炭素原子を有するアルケニル、・・6〜16個の
炭素原子を有するアリール、・・7〜17個の炭素原子
を有するアルアルキル、・・カルボキシル、 ・・1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ、・・6〜
16個の炭素原子を有するアリールオキシ、・・2〜1
0個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル又は ・・3〜30個の炭素原子を有するアルコキシカルボニ
ルアルキルチオであり、 Mは水素又はナトリウム、カリウム若しくはアンモニウ
ムイオンである]を有する化合物。 - 【請求項2】Rが水素、1〜14個の炭素原子を有する
アルキル、3〜4個の炭素原子を有するアルケニル、ベ
ンジル、2−シアノエチル、アセチル又、ベンゾイルで
あり、 R^1が水素又はメチルであり、 R^2が2〜12個の炭素原子を有するアルキレン、4
〜12個の炭素原子を有し且つ1〜2個の−O−若しく
は−NH−複素原子を含有するアルキレン(但し、複数
の複素原子は少なくとも1個の炭素原子によって互いに
隔離され且つ該アルキレン基の末端から隔離されていな
ければならない)、5〜12個の炭素原子を有するシク
ロアルキレン、6〜12個の炭素原子を有するアリーレ
ン又は8〜12個の炭素原子を有するアルアルキレンで
あり、R^3が直接結合、1〜8個の炭素原子を有する
アルキレン又はo−、m−若しくはp−フェニレンであ
り、 R^4が水素、1〜4個の炭素原子を有する第1アルキ
ル、3〜8個の炭素原子を有する第2アルキル、ベンジ
ル又はシクロヘキシルであり、R^5が(R^6)(R
^7)N−、(R^8)(R^9)C=N−、MOC(
=O)−R^1^0−C(=O)−N(R^6)一又は
次の基(化2)であり、【化2】 ここで、R^6が水素、1〜4個の炭素原子を有する低
級アルキル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルで
あり、 R^7が水素、メチル、エチル、シクロヘキシル、2〜
10個の炭素原子を有する脂肪族アシル、7〜22個の
炭素原子を有する置換若しくは非置換アリール脂肪族ア
シル、7〜15個の炭素原子を有する置換若しくは非置
換芳香族アシル(ここで、置換基は1〜5個の炭素原子
を有するアルキル、1〜5個の炭素原子を有するアルコ
キシ又はヒドロキシの少なくとも1種である)、2〜9
個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、7〜10
個の炭素原子を有するアリールオキシカルボニル、2〜
19個の炭素原子を有するアルキルカルバモイル、6〜
13個の炭素原子を有するシクロアルキルカルバモイル
、7〜10個の炭素原子を有するアリールカルバモイル
又は8〜14個の炭素原子を有するアルアルキルカルバ
モイルであり、 R^8及びR^9がそれぞれ水素、1〜8個の炭素原子
を有するアルキル、5〜6個の炭素原子を有するシクロ
アルキル、6〜14個の炭素原子を有する置換若しくは
非置換アリール(ここで、置換基はヒドロキシ又は1〜
4個の炭素原子を有する低級アルキルである)であるか
、或いはR^8及びR^9が一緒になって5〜8個の炭
素原子を有する脂環式環を形成するか又は9〜12個の
炭素原子を有するテトラアルキル置換ピペリジン環を形
成するかであり、R^1^0が置換若しくは非置換1,
2−エタンジイル、置換若しくは非置換1,2−プロパ
ンジイル、置換若しくは非置換1,3−プロパンジイル
、置換若しくは非置換1,2−エテンジイル、置換若し
くは非置換1,2−シクロヘキサンジイル、置換若しく
は非置換4−シクロヘキセン−1,2−ジイル、置換若
しくは非置換5−ノルボルネン−2,3−ジイル、置換
若しくは非置換2,3−ノルボルナンジイル、置換若し
くは非置換ビシクロ[2.2.2]オクタ−5−エン−
2,3−ジイル又は置換若しくは非置換o−フェニレン
であり、ここで、置換基が塩素、臭素、1〜36個の炭
素原子を有するアルキル、2〜36個の炭素原子を有す
るアルケニル、6〜10個の炭素原子を有するアリール
、7〜13個の炭素原子を有するアルアルキル、1〜3
6個の炭素原子を有するアルキルチオ、7〜14個の炭
素原子を有するアルアルキルチオ、6〜12個の炭素原
子を有するアリールチオ、カルボキシル、1〜8個の炭
素原子を有するアルコキシ、6〜12個の炭素原子を有
するアリールオキシ又は2〜5個の炭素原子を有するア
ルコキシカルボニルであり、 Mが水素又はナトリウムイオンである、請求項1記載の
化合物。 - 【請求項3】Rが水素、メチル、アセチル又はベンゾイ
ルであり、R^1が水素であり、R^2が2〜6個の炭
素原子を有するアルキレン又は4〜8個の炭素原子を有
するオキシジアルキレンであり、 R^3が直接結合又は1〜7個の炭素原子を有するアル
キレンであり、R^4が水素又はメチルであり、 R^5が(R^6)(R^7)N−、(R^8)(R^
9)C=N−、MOC(=O)−R^1^0−C(=O
)−N(R^6)−又は次の基(化2)であり、【化2
】 ここで、R^6が水素であり、 R^7が水素、メチル、2〜19個の炭素原子を有する
アルキルカルバモイル、フェニルカルバモイル、アセチ
ル、プロピオニル、ベンゾイル、3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾイル、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル又は2−エチルヘキシルオキシカル
ボニルであり、R^8及びR^9がそれぞれ1〜4個の
炭素原子を有する低級アルキルであるか、或いはR^8
及びR^9が一緒になって五若しくは六員脂肪族環を形
成するか又は2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジニル環を形成するかであり、R^1^0が3〜20
個の炭素原子を有する1−アルキルエタン−1,2−ジ
イル、4〜20個の炭素原子を有する1−アルケニルエ
タン−1,2−ジイル、1,2−シクロヘキサンジイル
、4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイル、4−シ
クロヘキセン−1,2−ジイル、2,3−ノルボルナン
ジイル、5−ノルボルネン−2,3−ジイル、o−フェ
ニレン又は4−メトキシカルボニル−1,2−フェニレ
ンであり、 Mが水素である、請求項2記載の化合物。 - 【請求項4】R、R^1、R^4、R^6及びR^7が
水素であり、R^2が1,6−ヘキサンジイルであり、 R^3が直接結合、メチレン、1,2−エタンジイル、
1,4−ブタンジイル又は1,7−ヘプタンジイルであ
り、 R^5が(R^6)(R^7)N−である、請求項3記
載の化合物。 - 【請求項5】R^3が直接結合である、請求項4記載の
化合物。 - 【請求項6】R^3が1,2−エタンジイルである、請
求項4記載の化合物。 - 【請求項7】R^3が1,4−ブタンジイルである、請
求項4記載の化合物。 - 【請求項8】R、R^1及びR^4が水素であり、R^
2が1,6−ヘキサンジイルであり、 R^3が直接結合、メチレン、1,2−エタンジイル、
1,4−ブタンジイル又は1,7−ヘプタンジイルであ
り、 R^5が(R^8)(R^9)C=N−であり、ここで
、R^8及びR^9がそれぞれ1〜4個の炭素原子を有
する低級アルキルである、請求項3記載の化合物。 - 【請求項9】R^3が直接結合であり、R^8がメチル
又はエチルであり、R^9がメチルである、請求項8記
載の化合物。 - 【請求項10】R^3が1,2−エタンジイルであり、
R^8がメチル又はエチルであり、R^9がメチルであ
る、請求項8記載の化合物。 - 【請求項11】R、R^1及びR^4が水素であり、R
^2が1,6−ヘキサンジイルであり、 R^3が直接結合、メチレン、1,2−エタンジイル、
1,4−ブタンジイル又は1,7−ヘプタンジイルであ
り、 R^5が次の基(化2)であり、 【化2】 ここで、R^1^0が8〜18個の炭素原子を有するア
ルキルで置換された1,2−エタンジイル又は4−メチ
ルシクロヘキサン−1,2−ジイルである、請求項3記
載の化合物。 - 【請求項12】R^3が直接結合であり、R^1^0が
1−(n−オクチル)エタン−1,2−ジイル、1−(
n−ドデシル)エタン−1,2−ジイル、1−(n−オ
クタデシル)エタン−1,2−ジイル又は4−メチルシ
クロヘキサン−1,2−ジイルである、請求項11記載
の化合物。 - 【請求項13】R^1^0が1−(n−ドデシル)エタ
ン−1,2−ジイルである、請求項12記載の化合物。 - 【請求項14】R^1^0が4−メチルシクロヘキサン
−1,2−ジイルである、請求項12記載の化合物。 - 【請求項15】R^3が1,2−エタンジイルであり、
R^1^0が4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイ
ルである、請求項11記載の化合物。 - 【請求項16】R^5がMOC(=O)−R^1^0−
C(=O)−N(R^6)−であり、 R、R^1、R^4及びR^6が水素であり、R^2が
1,6−ヘキサンジイルであり、R^3が直接結合、メ
チレン、1,2−エタンジイル、1,4−ブタンジイル
又は1,7−ヘプタンジイルであり、 R^1^0が10〜20個の炭素原子を有する1−アル
キルエタン−1,2−ジイル、10〜20個の炭素原子
を有する1−アルケニルエタン−1,2−ジイル又は4
−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイルであり、Mが
水素である、請求項3記載の化合物。 - 【請求項17】R^3が直接結合であり、R^1^0が
4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイルである、請
求項16記載の化合物。 - 【請求項18】R^3が1,2−エタンジイルであり、
R^1^0が4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジイ
ルである、請求項16記載の化合物。 - 【請求項19】R、R^1、R^4及びR^6が水素で
あり、R^2が1,6−ヘキサンジイルであり、 R^3が直接結合、メチレン、1,2−エタンジイル、
1,4−ブタンジイル又は1,7−ヘプタンジイルであ
り、 R^5が(R^6)(R^7)N−であり、R^7がメ
チルカルバモイル、ブチルカルバモイル、オクタデシル
カルバモイル又はフェニルカルバモイルである、請求項
3記載の化合物。 - 【請求項20】R^3が直接結合であり、R^7がオク
タデシルカルバモイルである、請求項19記載の化合物
。 - 【請求項21】R^3が1,2−エタンジイルであり、
R^7がn−ブチルカルバモイルである、請求項19記
載の化合物。 - 【請求項22】 次式(化3) 【化3】 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1^1はメチル又はエチルである)を有す
るビス(半エステル−半アミド)とヒドラジン又はヒド
ラジン水和物とをメタノール又はエタノール中で該ヒド
ラジンのビス(半エステル−半アミド)に対するモル比
約2:1〜約5:1で反応させ、アルコール、過剰分の
ヒドラジン及び、ヒドラジン水和物を用いた場合には水
を蒸発させることによって生成物を単離することによる
、請求項4記載の化合物の製造方法。 - 【請求項23】R^3が直接結合であり、反応をメタノ
ール中で10℃〜65℃において15分間〜5時間実施
する、請求項22記載の方法。 - 【請求項24】R^3が1,2−エタンジイルであり、
メタノール中で1時間〜4時間還流することによって反
応を実施する、請求項22記載の方法。 - 【請求項25】熱又は光の分解作用を受けやすい合成又
は天然ポリマー組成物を安定化させる方法であって、該
ポリマー組成物を熱又は光の分解作用に対して安定化さ
せるのに有効な量の請求項1記載の化合物を該ポリマー
組成物と混合することを含む、前記方法。 - 【請求項26】合成ポリマーがポリオレフィン、エチレ
ン−酢酸ビニル、アクリルポリマー、スチレンポリマー
、ゴム改質スチレンポリマー、ポリフェニレンエーテル
、ポリカーボネート、ポリアミド又はそれらの混合物で
ある、請求項25記載の方法。 - 【請求項27】約0.01%〜約0.5%の3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−t
−ブチルフェニルをポリマー組成物と混合することをさ
らに含む、請求項26記載の方法。 - 【請求項28】ポリプロピレン組成物を熱又は光の分解
作用に対して安定化させる方法であって、該組成物を熱
又は光の分解作用に対して安定化させるのに有効な量の
請求項1記載の化合物を該組成物と混合することを含む
、前記方法。 - 【請求項29】約0.01%〜約0.5%の3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−t
−ブチルフェニルを組成物と混合することをさらに含む
、請求項28記載の方法。
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