JPH04109640A - 集積回路装置 - Google Patents

集積回路装置

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JPH04109640A
JPH04109640A JP2228730A JP22873090A JPH04109640A JP H04109640 A JPH04109640 A JP H04109640A JP 2228730 A JP2228730 A JP 2228730A JP 22873090 A JP22873090 A JP 22873090A JP H04109640 A JPH04109640 A JP H04109640A
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bump
leads
bumps
lead
integrated circuit
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JP2228730A
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Yuji Iwata
岩田 勇治
Yoshimasa Hiki
比企 能正
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NEC Corp
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NEC Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は半導体チップの表面上に形成された金属突起物
(バンプ)とテープキャリアに設けられたリードとがイ
ンナーリードボンディング(Inner Lea、d 
Bonding ;以下、ILBという)された集積回
路装置に関する。
[従来の技術] 近時、コンピュータには小型化及び高速化が要求されて
おり、これに伴い、コンピュータ等に使用されるLSI
(大規模集積回路)も高速化及び多ピン化が要望されて
いる。
第7図はこのような高速化及び多ピン化に対応したTA
 B (Tape Automated Bondin
g)技術による従来の集積回路装置を示す斜視図である
LSIチップ21の上面縁部には、複数個のバンプ22
が形成されている。一方、テープキャリア23は、LS
Iチップ21よりも若干大きいデバイスホール25が設
けられた絶縁性フィルム及びこのフィルム上からデバイ
スホール25内に導出した複数本のTABリード24等
により構成されている。LSIチップ21はデバイスホ
ール25の中央に配置されており、各バンプ22は各リ
ード24の先端に個別的にボンディングされている。
コンピュータに使用されているこの種の集積回路装置に
は、通常、1辺が約15mmの正方形のLSIチップ2
1が使用されており、現在、リード24を500本程度
付する集積回路装置が製造されている。この500本の
リード24を有する集積回路装置の場合、LSIチップ
21のバンプ22の配列ピッチは約10(1μmである
バンプ22の大きさは、リード24の幅、ILB時の位
置ずれ並びにボンディングツールの加圧によるバンプ2
2及びリード24の横方向の広がり等を考慮して決定さ
れている。通常、バンプ22の幅BはTABリード24
の幅W。よりもlO乃至30μm広くなっている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述した従来の集積回路装置においては
、以下に示す問題点がある。
即ち、従来の集積回路装置においては、ILB時のバン
プ22とTABリード24との目合わせすれ及びボンデ
ィング装置(ボンダー)の精度がバンプ22とTABリ
ード24とのボンディング位置精度に直接影響する。こ
のため、TABIJ−ド24がバンプ22にずれて接合
され、所定のボンディング強度を確保することができな
いことがある。また、特定のバンプ22に接合されたり
−ド24がこのバンプ22に隣接する他のバンプ2.2
に接触して短絡不良が発生することもある。
このような短絡不良を回避するためには、TAB U−
ド24の幅を狭くするか、又はバンプ22の幅を広くす
ることが考えられる。しかし、前者の方法では所定のボ
ンディング強度を確保することが困難であると共に、リ
ード24が変形しやすくなるという欠点がある。また、
リード24の断面積が減少するため、電気抵抗が増大す
るという欠点もある。一方、後者の方法においては、必
要なバンプ幅を確保するためにはLSIチップを大型化
する必要があり、製造コストの上昇を招来すると共に、
集積回路装置の高集積化及び高速化が阻害されるという
欠点がある。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
リードとバンプとを常に高精度で接合することができ、
リードとバンプとの接合部における強度不足及び短絡不
良を回避できる集積回路装置を提供することを目的とす
る。
[課題を解決するための手段] 本発明に係る集積回路装置は、その表面上にバンプが設
けられた半導体チップと、この半導体チップが配置され
るデバイスホール及びこのデバイスホールに導出されて
前記バンプに接続されたリードを備えたテープキャリア
とを有し、前記リードにおける前記バンプとの接続部に
は傾斜した壁面を有する凹部が設けられており、前記リ
ードと前記バンプとは前記凹部の前記壁面で係合されて
いることを特徴とする。
[作用] 本発明においては、リードにおける前記バンプとの接続
部には傾斜した壁面を有する凹部が設けられており、リ
ードとバンプとはこの凹部の壁面で係合されている。従
って、半導体チップのバンプとリードとを接合するとき
にバンプとリードとの間に位置ずれがあっても、ボンデ
ィング装置によりリード先端をバンプに向けて押圧する
と、リードはその凹部の傾斜した壁面がバンプの縁部に
接触して移動し、少なくとも凹部の2つの壁面がバンプ
の2辺に接触した所定の位置で固定される。
そして、更にリードが半導体チップに向けて押圧され、
リードとバンプとが接合される。このようにして、本発
明に係る集積回路装置においては、ILB時に各リード
と各バンプとが常に高精度で接合されるため、短絡不良
及び接合強度不足を回避することができる。
バンプとの接続部におけるリードの幅はバンプの幅に比
して大きい必要がある。しかし、リードの他の部分の幅
をこの接続部における幅よりも細くすると共に、隣接し
たリードの長さが交互に異なるようにリードを形成し、
且つ、バンプを前記リードに合わせて半導体チップの表
面上に千鳥状に配置することにより、リードの配設ピッ
チを小さくしてより多くのリードを設けることができ、
集積回路装置をより一層高集積化することができる。
[実施例コ 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。
第1図は本発明の第1の実施例に係る集積回路装置を示
す平面図、第2図は同じくそのリードとバンプとの接合
部を示す拡大図、第3図は第2図の■−■線による断面
図である。
LSIチップ1の上面縁部には、複数個のバンプ2が周
知のめっき技術により形成されている。
また、テープキャリア3にはデバイスホール5が設けら
れており、リード4はこのデバイスホール5内に導出し
て形成されている。このリード4は、例えば絶縁フィル
ム上に厚さが約35乃至70μmのCu箔を接合し、こ
のCu箔を周知のエツチング技術により所定の形状に成
形することにより形成されており、その表面にはAus
 Sn又は半田がめっきされている。
このリード4は、第2図に示すように、その幅Woがバ
ンプ2の幅Bよりも大きくなっている。
また、リード4の先端部の下面には四部6が設けられて
おり、第3図に示すように、この凹部6の開口幅(リー
ド下面における凹部6の幅)Wlはバンプ2の幅Bより
も大きく、凹部6の上底部の幅はバンプ2の幅Bよりも
若干小さくなっている。
従って、この凹部6のリード4の幅方向の2つの壁面は
、傾斜した傾斜面になっている。このような形状の凹部
6は、リード4形成前のCu箔をハーフエツチングする
ことにより、容易に形成することができる。なお、凹部
6の開口幅WIは、工LB時のバンプ2とリード4との
位置合わせにおける位置すれとバンプ2の幅Bとを加算
した寸法以上に設定される。
LSIチップ1とリード4とは、第3図に示すように、
四部6の前記2つの傾斜面とバンプ2の上面の相互に対
向する2辺とが接触するようにして接合されている。
第4図(a)乃至(c)は本実施例の集積回路装置の製
造方法を工程順に示す断面図である。
ボンディング装置はボンディングステージ8及びボンデ
ィングツール7により構成されている。
ボンディングステージ8はその上面が平坦な台である。
また、ボンディングツール7はボンディングステージ8
の上方に配置されており、その下面の縁部には下方に向
かって突出した凸部が設けられている。このボンディン
グツール7は、適宜の駆動装置により駆動されて、ボン
ディングステージ8の上方を上下方向に移動するように
なっている。
先ず、第4図(a)に示すように、ボンディングステー
ジ8上にLSIチップ1を載置する。そして、デバイス
ホール5内に導出したり−ド4の先端部とバンプ2とが
略整合するようにして、LSIチップ1上にテープキャ
リア3を配置する。
次に、第4図(b)に示すように、ボンディングツール
7を下方に移動させ、このボンディングツール7の下面
縁部の凸部によりリード4の先端部をバンプ2に向けて
押圧する。そうすると、リード4の凹部6の傾斜面のい
ずれか1つの面がバンプ2の縁部に接触し、この傾斜面
に沿ってり−ド4が移動する。そして、第3図に示すよ
うに、凹部6の2つの傾斜面がバンプ2の上面の2辺に
接触し、この状態でリード4がバンプ2上に固定される
。その後、更にボンディングツール7によりリード4を
押圧すると共にリード4とバンプ2との接触部を加熱す
ることにより、リード4とバンプ2とを加熱圧着する。
次いで、第4図(C)に示すように、ボンディングツー
ル7を上昇させた後、集積回路装置をボンディングステ
ージ8から取り外す。
本実施例においては、上述の如<、ILB時のり−ド4
とバンプ2との位置合わせにおいて位置ずれがあっても
、ILB工程においてこの位置ずれが自動的に修整され
て、凹部6の形状及びバンプ2の大きさ等により決定さ
れる所定の位置でリード4とバンプ2とが固定される。
これにより、リード14とバンプ2とが常に高精度でボ
ンディングされる。従って、例えば、1辺が約15mm
の正方形であり、約50乃至70μmのピッチでバンプ
が形成されたLSIチップに約1000本のリードを接
合することができ、高集積化された集積回路装置を得る
ことができる。
第5図は本発明の第2の実施例に係る集積回路装置を示
す平面図である。
LSIチップ11の上面にはバンプ12が千鳥状に配列
されて形成されている。一方、テープキャリア13には
デバイスホール15が設けられており、TABリード1
4はこのデバイスホール15内に導出して形成されてい
る。リード14にはデバイスホールへの導出長が交互に
異なる2種類のリードが用意されており、これにより千
鳥状に配列された複数のバンプ12に夫々リード14の
先端が整合するようになっている。また、リード14の
先端接合部は他の部分に比して幅が太くなっている。更
に、リード14の先端の下面には、傾斜した4つの壁面
を有する凹部16が設けられている。そして、リード1
4は、この4つの壁面がハンプ12上面の4辺に接触す
るようにして、バンプ12に接合されている。
本実施例においては、LSIチップ11にバンプ12が
千鳥状に配列して形成されているため、LISチップ1
1に第1の実施例よりも多くのバンプ12を設けること
ができる。また、凹部16が傾斜した4つの壁面を有す
るため、リード14の長さ方向及び幅方向に対して、高
精度でリード14とバンプ12とを接合することができ
る。これにより、第1の実施例に比して、より多くのリ
ードを有する集積回路装置を形成することができる。
なお、バンプの形状及び凹部の形状は上述の第1及び第
2の実施例により限定されるものではなく、例えば、第
6図(a)乃至(f)に示す種々の形状が考えられる。
第6図(a)乃至(C)に示す集積回路装置においては
、バンプ2a、2b。
2cが夫々平面視で円形、楕円形及び六角形状に形成さ
れており、リード4a、4b、4cには、第1の実施例
と同様に、2つの傾斜面が相互に対向して配置された凹
部6a+  8b+  8cが設けられている。また、
第6図(d)乃至(f)に示す集積回路装置においては
、バンプ2d+  2e+ 2fは夫々平面視で円形、
楕円形及び六角形状に形成されており、リード4d、4
e+  4fには夫々バンプ2 d 12 e r 2
 fと相似形の開口部及び上底面を有する凹部6d、6
e+  8fが設けられている。これらの集積回路装置
においても、上述の第1及び第2の実施例と同様の効果
を得ることができる。
口発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、リードにおけるバ
ンプとの接続部に傾斜した壁面を有する凹部が設けられ
ているから、インナーリードボンディング時にはこの凹
部の壁面とバンプの縁部とが接触する位置でリードがバ
ンプ上に固定されて、この状態でリードとバンプとが係
合される。このため、リードとバンプとのボンディング
位置精度が極めて良好であり、常に所定の接合強度を得
ることができると共に、リードが所定のバンブ以外のバ
ンプに接触することが防止でき、短絡不良の発生を回避
することができる。また、リードとバンプとの間の電気
抵抗が常に一定になり、電気抵抗の安定性が良好である
。更に、ボンディング位置精度が良好なため、バンプの
配列ピッチを従来よりも狭くすることが可能であり、集
積回路装置を従来に比して一層高集積化することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例に係る集積回路装置を示
す平面図、第2図は同じくそのリードとバンプとの接合
部を示す拡大図、第3図は第2図の■−■線による断面
図、第4図(a)乃至(C)は同じくその製造方法を工
程順に示す断面図、第5図は本発明の第2の実施例に係
る集積回路装置を示す平面図、第6図(a)乃至(f)
はいずれも本発明の他の実施例を示す平面図、第7図は
従来の集積回路装置を示す斜視図である。 1.11,21;LSIチップ、2,12,22;バン
プ、3,13,23;テープキャリア、4、 14,2
4;  リード、5. 15,25;デバイスホール、 ;凹部、 7;ボンディング ツール、 8;ボンディングステージ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)その表面上にバンプが設けられた半導体チップと
    、この半導体チップが配置されるデバイスホール及びこ
    のデバイスホールに導出されて前記バンプに接続された
    リードを備えたテープキャリアとを有し、前記リードに
    おける前記バンプとの接続部には傾斜した壁面を有する
    凹部が設けられており、前記リードと前記バンプとは前
    記凹部の前記壁面で係合されていることを特徴とする集
    積回路装置。
  2. (2)前記リードはその長さが交互に異なり、前記バン
    プは対応するリードに合わせて千鳥状に配列されている
    と共に、前記リードは前記バンプとの接続部における幅
    が他の部分の幅及び前記バンプの幅に比して大きいこと
    を特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0629348A (ja) * 1992-05-12 1994-02-04 Akira Kitahara 表面実装部品及びその半製品
US6018189A (en) * 1997-03-31 2000-01-25 Nec Corporation Lead frame for face-down bonding
JP2009253120A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Seiko Epson Corp 半導体装置及びその製造方法

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JP2009253120A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Seiko Epson Corp 半導体装置及びその製造方法

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