JPH04105823U - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH04105823U JPH04105823U JP1525791U JP1525791U JPH04105823U JP H04105823 U JPH04105823 U JP H04105823U JP 1525791 U JP1525791 U JP 1525791U JP 1525791 U JP1525791 U JP 1525791U JP H04105823 U JPH04105823 U JP H04105823U
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- optical recording
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 本考案は、基体表面上およびこの基体表面上
に形成した記録膜上に保護膜を平滑に形成させるように
した、光磁気記録媒体の提供を目的とするものである。 【構成】 本考案の光磁気記録媒体は、基体をその外周
縁部に円みまたは面取り部分を有するようにしてなるこ
とを特徴とするものである。
に形成した記録膜上に保護膜を平滑に形成させるように
した、光磁気記録媒体の提供を目的とするものである。 【構成】 本考案の光磁気記録媒体は、基体をその外周
縁部に円みまたは面取り部分を有するようにしてなるこ
とを特徴とするものである。
Description
【0001】
本考案は、光磁気記録媒体、特には光磁気記録媒体を構成する基体表面上およ
びこの基体表面上に形成した記録膜上に保護膜を平滑に形成させることのできる
基板に関するものである。
【0002】
近年、情報化社会の発展に伴い書き換え可能な光磁気メモリが注目を集めてい
る。この光磁気記録媒体はポリカ−ボネ−ト、ポリオレフイン、ガラスなどの透
明基板の上に誘電体膜、磁性膜、反射膜などからなる記録膜を設けて構成されて
いるが、この基板および記録膜は硬度、耐摩耗性、耐薬品性、耐水性がわるいし
、表面が傷つき易いために、このままでは光磁気記録媒体は再生信号のC/Nが
必ずしも十分でなく、また長時間の間に特性が低下し、信頼度が得られないとい
う欠点がある。
【0003】
そのため、この種の光磁気記録媒体については従来公知の記録膜を設けた面と
は反対側の透明基板表面に紫外線硬化性樹脂を塗布(ハ−ドコ−ト)して保護膜
とすること、また透明基板上に設けた記録層の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布(
スピンコ−ト)してここに保護膜を設けることも行なわれている。
【0004】
しかし、この紫外線硬化性樹脂を透明基板表面や記録膜の表面に塗布する場合
にはこの被覆が図4に示したように周縁部が盛り上ったものとなるために製品と
しての光磁気記録媒体が平滑性の欠けたものとなる。そのため、これはデイスク
使用中にゴミや微粒子がたまりやすく、また、デイスク回転時に振れが起こりや
すいために記録媒体のノイズが増大し、エラ−発生率が多くなるという欠点があ
る。
【0005】
本考案はこのような不利を解決した光磁気記録媒体に関するもので、これは基
板の外周縁部に円みまたは面取りを施してなることを特徴とするものである。
【0006】
すなわち、本考案者らは光磁気記録媒体における保護膜を平滑性のものとする
方法について種々検討した結果、ここに使用される透明基板をその内外周縁部に
円みまたは面取りを施したものとすれば、この表面またはこの上に形成された記
録膜の表面に形成される保護膜を周縁部での盛り上りのない平滑なものとするこ
とができることを見出すと共に、これによれば記録媒体表面に付着したゴミや微
粒子がたまりにくく、また記録媒体(デイスク)使用時の高速回転の際の振れを
低減できるので、ノイズ、エラ−の発生を低減させることができることを確認し
て本考案を完成させた。
【0007】
本考案は平滑で、かつミストや微粒子のたまり難い保護膜を設けてなる光磁気
記録媒体に関するもので、これは基板の内外周縁部に円みまたは面取りを設けて
なることを特徴とするものである。
【0008】
この基板は透明なものとするということから通常は無機ガラス、石英ガラス、
あるいはポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリオレフイン樹脂、アクリル樹脂などの合成
樹脂で作られたものが使用される。
【0009】
本考案の基板はその外周端部に円みまたは面取りを設けたものとされるが、こ
れは例えば図1に示したようにその外周縁部のみに円みを有するもの、あるいは
図2に示したようにその外周縁部に面取りを設けたものとされる。
【0010】
この円みの半径Rは基板の厚みの1/2以下とすることがよく、したがって基
板の厚みが1.2mmのものについてはR≦0.6mmとすればよいし、この面取り
については周縁のとがりをさけるために、例えば基板の厚さから図3に示したよ
うに基板の厚さが1.2mmのときには中心部の0.2mmを差し引いた1.0mmに
ついて45o で面取りすればよいが、この角度は30〜60o とすればよく、ま
た上下に完全対象である必要もない。
【0011】
なお、このように少なくともその外周縁部に丸みまたは面取りを施した基板を
用いるときには光磁気記録媒体(デイスク)の表面に保護膜を平滑に被覆するこ
とができるので、表面におけるゴミや微粒子のたまりを防ぐことができる結果、
光磁気記録媒体のノイズやエラ−の発生を低減させることができるという有利性
が与えられる。
【0012】
つぎに本考案の実施例および比較例をあげる。
基板としてのポリカ−ボネ−ト樹脂板の外周縁部に半径0.5mm の円みをもたせ
るように金型を製作し、射出成形によって外径3.5 インチ、厚さ1.2mm の光磁気
記録媒体用基板を作製すると共に、比較のために従来一般に用いられている外周
縁部に円みをつけない光磁気記録媒体用基板を作製した。
【0013】
ついで、これらの基板の光の入射側表面にスピンナ−を用いてハ−ドコ−ト材
を塗布し、紫外線を照射し硬化させてハ−ドコ−ト膜を形成したのち、溝の入っ
た反対側の面に厚さ1,000 ÅのSiN 膜、厚さ250 ÅのTbFeCo膜、厚さ300 ÅのSi
N 膜、厚さ500 ÅのAl膜を順次スパッタ−法で成膜し、最後に成膜した記録層の
表面にスピンナ−を用いて保護膜材を塗布し、紫外線照射で硬化させて保護膜を
形成した。
【0014】
つぎにこのようにして得た光磁気記録媒体の周縁部形状をフラットネステニタ
−を用いて調べたところ、図5、図6に示したとおりの結果が得られたが、これ
ら2種の光磁気記録媒体の5枚づつのデイスク特性をデイスク特性評価機を用い
て調べると共に、それらの異物付着量をしらべたところ、表1に示したとおりの
結果が得られ、これからも明らかなように本考案にしたがって外周縁部に円みを
設けた基板を用いた光磁気記録媒体は両表面共周縁部に盛り上りがないが、従来
公知のものには周縁部にコ−ト材の盛り上りが認められ、これによって付着した
異物がたまり易く、デイスク特性も本考案のものに比べて劣るものになることが
確認された。
【0015】
【表1】
【0016】
本考案は保護膜を設けるようにした光磁気記録媒体に関するもので、これは前
記したように基板の少なくとも外周縁部に円みまたは面取りを施してなることを
特徴とするものであるが、これによれば基板の外周縁部に円みまたは面取りが設
けられているので、これに紫外線硬化性樹脂などを塗布して保護膜を形成させる
とこの保護膜が平滑なものとなり、この場合には記録媒体におけるノイズ、エラ
−発生率を低減させることができるという有利性が与えられる。
【図1】外周縁部に円みを設けた本考案の光磁気記録媒
体用基板の縦断面図、
体用基板の縦断面図、
【図2】外周縁部に面取りを設けた本考案の光磁気記録
媒体用基板の縦断面図、
媒体用基板の縦断面図、
【図3】本考案の光磁気記録媒体用基板の外縁部におけ
る面取り部を示す縦断面図、
る面取り部を示す縦断面図、
【図4】公知例における保護膜形成状態を示す縦断面模
式図、
式図、
【図5】実施例の光磁気記録媒体の周縁部形状を示す縦
断面図、
断面図、
【図6】比較例の光磁気記録媒体の周縁部形状を示す縦
断面図。
断面図。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)考案者 阪口 新
神奈川県川崎市高津区坂戸100−1 信越
化学工業株式会社コーポレートリサーチセ
ンター内
(72)考案者 江島 正毅
神奈川県川崎市高津区坂戸100−1 信越
化学工業株式会社コーポレートリサーチセ
ンター内
(72)考案者 徳永 勝志
神奈川県川崎市高津区坂戸100−1 信越
化学工業株式会社コーポレートリサーチセ
ンター内
(72)考案者 野沢 保明
神奈川県川崎市高津区坂戸100−1 信越
化学工業株式会社コーポレートリサーチセ
ンター内
Claims (3)
- 【請求項1】基板の外周縁部に円みまたは面取り部分を
有することを特徴とする光磁気記録媒体。 - 【請求項2】円みの半径が基板の厚さの1/2以下であ
る請求項1に記載した光磁気記録媒体。 - 【請求項3】基板が基板周縁部側面が少なくとも0.2mm
残るように面取りを施したものである請求項1に記載し
た光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1525791U JPH04105823U (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1525791U JPH04105823U (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04105823U true JPH04105823U (ja) | 1992-09-11 |
Family
ID=31902499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1525791U Pending JPH04105823U (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04105823U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003017267A1 (fr) * | 2001-08-21 | 2003-02-27 | Tdk Corporation | Support d'enregistrement optique |
WO2003021590A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-13 | Tdk Corporation | Dispositif d'estampage destine a la realisation d'un support d'enregistrement optique, procede permettant la formation d'une zone d'enregistrement d'informations et d'une couche de transmission de lumiere, et support d'enregistrement optique |
-
1991
- 1991-02-22 JP JP1525791U patent/JPH04105823U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003017267A1 (fr) * | 2001-08-21 | 2003-02-27 | Tdk Corporation | Support d'enregistrement optique |
WO2003021590A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-13 | Tdk Corporation | Dispositif d'estampage destine a la realisation d'un support d'enregistrement optique, procede permettant la formation d'une zone d'enregistrement d'informations et d'une couche de transmission de lumiere, et support d'enregistrement optique |
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