JPH04104442A - ビームチョッパ - Google Patents
ビームチョッパInfo
- Publication number
- JPH04104442A JPH04104442A JP21937190A JP21937190A JPH04104442A JP H04104442 A JPH04104442 A JP H04104442A JP 21937190 A JP21937190 A JP 21937190A JP 21937190 A JP21937190 A JP 21937190A JP H04104442 A JPH04104442 A JP H04104442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- chopper
- duct
- control device
- slit plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 241000824311 Daku Species 0.000 description 1
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、粒子や荷電ビームをパルス状のピムに形成す
るビームチョッパに関する。
るビームチョッパに関する。
近年、粒子や荷電ビームを用いて分析や試験を行うこと
か注目されてきている。特に半導体装置における物理現
象の解明や試験、検査及び微細加工では高精度か要求さ
れる。そのため、より周期の短いパルスビームを発生さ
せる必要がある。
か注目されてきている。特に半導体装置における物理現
象の解明や試験、検査及び微細加工では高精度か要求さ
れる。そのため、より周期の短いパルスビームを発生さ
せる必要がある。
従来、粒子や荷電ビームをパルス状のビームに形成する
装置として、ビームチョッパかある。
装置として、ビームチョッパかある。
ビームチョッパは、ビーム発生源から照射されたビーム
を、回転するスリット板に当て、該スリット板に形成さ
れたスリットを通過することでパルス状のビームを得る
ものである。
を、回転するスリット板に当て、該スリット板に形成さ
れたスリットを通過することでパルス状のビームを得る
ものである。
このスリット板は、回転軸をベアリング等で支持され、
ベルト又は歯車により回転駆動力が伝送されて回転する
。この場合のスリット板の回転数は10.000〜20
,000 〔rpm )てあり、この回転数及びスリッ
ト板のスリット幅に応じた周波数、パルス幅のパルスビ
ームか得られる。
ベルト又は歯車により回転駆動力が伝送されて回転する
。この場合のスリット板の回転数は10.000〜20
,000 〔rpm )てあり、この回転数及びスリッ
ト板のスリット幅に応じた周波数、パルス幅のパルスビ
ームか得られる。
しかし、上述のようなスリット板を回転する機構は回転
部と固定部とは機械的に接触されることから、回転数に
限界かある。すなわち、試料を高精度に試験等を行う場
合には、より高周波数のパルスビームが必要であるか、
上記回転機構では得ることができないという問題かある
。また、該回転機構ては接触部分が多く、塵埃発生の原
因になるという問題がある。
部と固定部とは機械的に接触されることから、回転数に
限界かある。すなわち、試料を高精度に試験等を行う場
合には、より高周波数のパルスビームが必要であるか、
上記回転機構では得ることができないという問題かある
。また、該回転機構ては接触部分が多く、塵埃発生の原
因になるという問題がある。
そこで、本発明は上記課題に鑑みなされたもので、高周
波数のパルスビームを形成し、かっ、塵埃の発生を防止
するビームチョッパを提供することを目自勺とする。
波数のパルスビームを形成し、かっ、塵埃の発生を防止
するビームチョッパを提供することを目自勺とする。
上記課題は所定数のスリット孔が形成されて回転するス
リット板にビームを照射し、該スリット孔を該ビームか
通過したときにパルス状のビームを得るビームチョッパ
において、前記スリット板は、固定軸より磁気浮上で回
転する回転軸に設けられ、前記スリット孔を通過するビ
ームをパルス状に軸方向に取出すことにより解決される
。
リット板にビームを照射し、該スリット孔を該ビームか
通過したときにパルス状のビームを得るビームチョッパ
において、前記スリット板は、固定軸より磁気浮上で回
転する回転軸に設けられ、前記スリット孔を通過するビ
ームをパルス状に軸方向に取出すことにより解決される
。
上述のように、パルス状のビームを得るためのスリット
板か回転軸に設けられ、この回転軸は固定軸より磁気浮
上で回転する。すなわち、回転部分に接触する部分がな
く、スリット板の回転数を高くすることが可能となる。
板か回転軸に設けられ、この回転軸は固定軸より磁気浮
上で回転する。すなわち、回転部分に接触する部分がな
く、スリット板の回転数を高くすることが可能となる。
これにより、スリット孔を通過するビームが高周波数の
パルスとして軸方向より取出される。
パルスとして軸方向より取出される。
また、回転軸の磁気浮」二により、回転時に接触する部
分かないことから、塵埃が発生することがない。
分かないことから、塵埃が発生することがない。
第1図に本発明の一実施例の構成図を示す。第1図のビ
ームチョッパ1において、回転軸2の一方端にスリット
板3か設けられており、このスリット板3には一定間隔
で所定幅のスリット孔4か形成される。又、回転軸2は
磁気軸受5等を介して′固定軸6に軸止され、回転軸2
と固定軸6との間に外側か回転し得る高周波モータ7が
装着されている。
ームチョッパ1において、回転軸2の一方端にスリット
板3か設けられており、このスリット板3には一定間隔
で所定幅のスリット孔4か形成される。又、回転軸2は
磁気軸受5等を介して′固定軸6に軸止され、回転軸2
と固定軸6との間に外側か回転し得る高周波モータ7が
装着されている。
また、半径方向マグネット8.半径方向センサ9、軸方
向マグネット10.軸方向センサ11等か、回転軸2と
固定軸6との相対的な位置を維持し、磁気浮上させるた
めの機構として固定軸6に装着されている。
向マグネット10.軸方向センサ11等か、回転軸2と
固定軸6との相対的な位置を維持し、磁気浮上させるた
めの機構として固定軸6に装着されている。
なお、位置検出センサ12は回転軸2の同期信号を取り
出すためのセンサであり、コネクタ13a、、I3bは
磁気軸受5や高周波モータ7に電流を供給すると共に、
軸方向センサ11や位置検出センサ12から信号を取り
出すためのものである。 そして、これらを内包する外
枠14の一部にビーム取出口15か設けられ、図面上左
側より入射したビーム16かスリット板3のスリット孔
を通過し、パルスビームI6Aとして軸方向のビーム取
出口15から出射される。
出すためのセンサであり、コネクタ13a、、I3bは
磁気軸受5や高周波モータ7に電流を供給すると共に、
軸方向センサ11や位置検出センサ12から信号を取り
出すためのものである。 そして、これらを内包する外
枠14の一部にビーム取出口15か設けられ、図面上左
側より入射したビーム16かスリット板3のスリット孔
を通過し、パルスビームI6Aとして軸方向のビーム取
出口15から出射される。
次に、第2図に本発明のビームチョッパか適用される照
射装置の構成図を示す。第2図の照射装置20において
、ビームチョッパ1はダクト21により試料室22と連
結されており、スリット板3を通過したパルスビーム1
6Aか試料室22の試料23に照射される。このビーム
チョッパ1は制御装置24により回転等か制御される(
後述する)。また、ダク)・21にはill!I定装置
25か設けられており、ドライバ26により光路上(1
6、、)に七−駆動される。この測定装置25は検出器
を備えており(図示せず)、例えば光路子(+6A)に
位置したときに電荷量やエネルギ分析(スペクI・ル)
等を測定する。
射装置の構成図を示す。第2図の照射装置20において
、ビームチョッパ1はダクト21により試料室22と連
結されており、スリット板3を通過したパルスビーム1
6Aか試料室22の試料23に照射される。このビーム
チョッパ1は制御装置24により回転等か制御される(
後述する)。また、ダク)・21にはill!I定装置
25か設けられており、ドライバ26により光路上(1
6、、)に七−駆動される。この測定装置25は検出器
を備えており(図示せず)、例えば光路子(+6A)に
位置したときに電荷量やエネルギ分析(スペクI・ル)
等を測定する。
ここで、第3図に、第2図の制御装置24のブ[コック
図を示し、制御動作を説明する。第3図において、制御
装置24は、磁気軸受は制御回路31、周波数制御回路
32.モータ駆動回路33回転数指示制御回路34.保
護回路35.直流電源回路36から構成されている。磁
気軸受側i卸回路31は半径方向センサ9や軸方向セン
サ11からの信号31c、31dに基ついて、回転軸2
か所定の位置を維持しながら安定して回転するよう、半
径方向マクネット8や軸方向マクネッI・10に印加す
る電流を信’j31a、31bにより制i卸している。
図を示し、制御動作を説明する。第3図において、制御
装置24は、磁気軸受は制御回路31、周波数制御回路
32.モータ駆動回路33回転数指示制御回路34.保
護回路35.直流電源回路36から構成されている。磁
気軸受側i卸回路31は半径方向センサ9や軸方向セン
サ11からの信号31c、31dに基ついて、回転軸2
か所定の位置を維持しながら安定して回転するよう、半
径方向マクネット8や軸方向マクネッI・10に印加す
る電流を信’j31a、31bにより制i卸している。
周波数制御回路32ては、回転数指示制御回路34の回
転数指示信号34aに応してモータ駆動周波数信号32
aをモータ駆動回路33に送り、モータ駆動信号33a
を高周波モータ7に送られる。なお、保護回路35は半
径方向センサ9や軸方向センサ11.位置検出センサ1
2からの信号、及びモータ駆動回路33の負荷状態を監
視する回路であり、直流電源回路3Gはそれ等の回路に
電流を供給する回路である。
転数指示信号34aに応してモータ駆動周波数信号32
aをモータ駆動回路33に送り、モータ駆動信号33a
を高周波モータ7に送られる。なお、保護回路35は半
径方向センサ9や軸方向センサ11.位置検出センサ1
2からの信号、及びモータ駆動回路33の負荷状態を監
視する回路であり、直流電源回路3Gはそれ等の回路に
電流を供給する回路である。
このよ・うな制御装置24により、ビームチョッパ1の
スリブl−111jは、該ビームチョッパ1内を真空状
態とすることて、無塵て100.000rl)m以」二
の回転数を?qることかでき、パルスビーム16Aの周
期を数μmまで安定に形成することかできる。これによ
り、高周波パルスを得る装置としては小型かつ安価とす
ることができ、試料の測定、分析、試験等をより高精度
に行うことかできる。
スリブl−111jは、該ビームチョッパ1内を真空状
態とすることて、無塵て100.000rl)m以」二
の回転数を?qることかでき、パルスビーム16Aの周
期を数μmまで安定に形成することかできる。これによ
り、高周波パルスを得る装置としては小型かつ安価とす
ることができ、試料の測定、分析、試験等をより高精度
に行うことかできる。
以上のように本発明によれば、スリット板を磁気t”?
−上により非接触で高速回転させることにより、より周
期の短い高周波数のパルスビームを発生させることかで
きると共に、無塵化を図ることかできる。
−上により非接触で高速回転させることにより、より周
期の短い高周波数のパルスビームを発生させることかで
きると共に、無塵化を図ることかできる。
6は固定軸、
7は高周波モータ、
15はビーム取出口、
16はビーム、
16Aはパルスビーム
を示す。
第1図は本発明の一実施例の構成図、
第2図は本発明のビームチョッパか適用される照射装置
の構成図、 第3図は第2図における制御装置を示したブロック図で
ある。 特許出願人 富 士 通 株式会社 図において、 よピームチ−コッパ ま回転軸、 まスリット板、 よスリブI・孔、 ま磁気軸受、 し −」
の構成図、 第3図は第2図における制御装置を示したブロック図で
ある。 特許出願人 富 士 通 株式会社 図において、 よピームチ−コッパ ま回転軸、 まスリット板、 よスリブI・孔、 ま磁気軸受、 し −」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 所定数のスリット孔(4)が形成されて回転するスリッ
ト板(3)にビーム(16)を照射し、該スリット孔(
4)を該ビーム(16)が通過したときにパルス状のビ
ーム(16_A)を得るビームチョッパにおいて、 前記スリット板(3)は、固定軸(6)より磁気浮上で
回転する回転軸(2)に設けられ、前記スリット孔(4
)を通過するビーム(16)をパルス状(16_A)に
軸方向より取出すことを特徴とするビームチョッパ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21937190A JPH04104442A (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-21 | ビームチョッパ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21937190A JPH04104442A (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-21 | ビームチョッパ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04104442A true JPH04104442A (ja) | 1992-04-06 |
Family
ID=16734370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21937190A Pending JPH04104442A (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-21 | ビームチョッパ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04104442A (ja) |
-
1990
- 1990-08-21 JP JP21937190A patent/JPH04104442A/ja active Pending
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