JPH038755U - - Google Patents
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- JPH038755U JPH038755U JP6914689U JP6914689U JPH038755U JP H038755 U JPH038755 U JP H038755U JP 6914689 U JP6914689 U JP 6914689U JP 6914689 U JP6914689 U JP 6914689U JP H038755 U JPH038755 U JP H038755U
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- JP
- Japan
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- thin film
- semiconductor thin
- electrode
- film layer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
第1図は、半導体薄膜3が電極1の全域に形成
されているガス検知素子の概略平面図。第2図は
、半導体薄膜3が電極1の一部に形成されている
ガス検知素子の概略平面図。第3図は、金属マス
ク5を用いて半導体薄膜3を形成した場合の薄膜
の状態図。第4図は、金属マスク5を用いないで
半導体薄膜3を形成した場合の薄膜の状態図。第
5図は、パラレルギヤツプ方式による抵抗溶接の
状態図である。 6……溶接平行電極。
されているガス検知素子の概略平面図。第2図は
、半導体薄膜3が電極1の一部に形成されている
ガス検知素子の概略平面図。第3図は、金属マス
ク5を用いて半導体薄膜3を形成した場合の薄膜
の状態図。第4図は、金属マスク5を用いないで
半導体薄膜3を形成した場合の薄膜の状態図。第
5図は、パラレルギヤツプ方式による抵抗溶接の
状態図である。 6……溶接平行電極。
Claims (1)
- 電極1が形成してある基板2に半導体薄膜層3
を形成して成る半導体薄膜型ガス検出素子におい
て、前記半導体薄膜層3を基板2の電極1を形成
した面上の全域に形成し、尚かつ信号取り出し用
リード線4を半導体薄膜層3を挟んだ状態で電極
1に溶接することを特徴とするガス検出素子の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6914689U JPH038755U (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6914689U JPH038755U (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH038755U true JPH038755U (ja) | 1991-01-28 |
Family
ID=31604195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6914689U Pending JPH038755U (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH038755U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5294996U (ja) * | 1976-01-08 | 1977-07-15 | ||
KR20220081205A (ko) * | 2020-12-08 | 2022-06-15 | 고찬규 | 공병 자동회수 처리장치 |
-
1989
- 1989-06-13 JP JP6914689U patent/JPH038755U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5294996U (ja) * | 1976-01-08 | 1977-07-15 | ||
KR20220081205A (ko) * | 2020-12-08 | 2022-06-15 | 고찬규 | 공병 자동회수 처리장치 |
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