JPH0385723A - 縦型cvd装置 - Google Patents

縦型cvd装置

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Publication number
JPH0385723A
JPH0385723A JP22352089A JP22352089A JPH0385723A JP H0385723 A JPH0385723 A JP H0385723A JP 22352089 A JP22352089 A JP 22352089A JP 22352089 A JP22352089 A JP 22352089A JP H0385723 A JPH0385723 A JP H0385723A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
boat
reaction chamber
lock chamber
load lock
wafers
Prior art date
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Pending
Application number
JP22352089A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumihide Ikeda
文秀 池田
Shuichi Nakamura
修一 中村
Hideo Kobayashi
秀夫 小林
Mikio Tanabe
幹雄 田辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
Priority to JP22352089A priority Critical patent/JPH0385723A/ja
Publication of JPH0385723A publication Critical patent/JPH0385723A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、シリコンウェーハより半導体素子を製造する
装置の1つであるCVD (化学蒸着法〉装置、特に縦
型CVD装置に関するものである。
[従来の技術] シリコンウェーハより半導体素子を製造する装置の1つ
として、高温、希薄反応ガス雰囲気中にウェーハを保持
して化学蒸着法(CVD)でウェーハ表面に半導体薄膜
又は絶縁保護膜を生成するCVD装置がある。
従来のCVD装置、特にロードロック室を備えた縦型C
VD装置を第3図に於いて略述する。
図中、1は反応室であり、該反応室1の下方にロードロ
ック室2が気密に連設されている。
該反応室1と該ロードロック室2との間にはゲートバル
ブ3が設けられ、該ゲートバルブ3によって反応室1が
気密に閉塞され、ロードロック室2には扉4が設けられ
気密に密閉され或は開放される様になっている。又、反
応室1、ロードロック室2にはそれぞれ排気ポンプ5.
6が接続され、反応室1、ロードロック室2をそれぞれ
個別に真空引し得る様になっている。
該反応室1の周囲にはヒータ7が設けられ、反応室1は
所定の温度に加熱される6 前記ロードロック室2の内部にはエレベータm楕8か設
けられており、受台9に乗置されたボート10を昇降動
作により反応室1に装入、或は反応室1から取出し得る
様になっている。
又、11はウェーハが装填されるカセット、12はウェ
ーハ移載機、13はボート移載機であり、ウェーハ移載
機12はカセット11からボート移載機13に載置され
たボート10へ、或はボート10がらカセット11ヘウ
エーハを移載し、ボート移載813は、前記扉4が開放
されゲートバルブ3が閉塞された状態でウェーハが装填
されたボート10を受台9に移載し、受台9のボート1
0を受取る。
ボート移載機13によるボート10の移換えは、前記し
た様にゲートバルブ3が閉塞され、扉4が開放された状
態で行われる。ボート10の移載か完了すると、扉4か
閉じられ、排気ポンプ6によりロードロック室2が真空
引される。次に、ゲートバルブ3が開かれ、エレベータ
機i1!8によってウェーハか装填゛されたボート10
か反応室1に装入される。反応室1が排気ポンプ5で真
空引された後、反応カスが供給され、ヒータ7により加
熱されてウェーハに薄膜か蒸着される。
蒸着処理か完了すると、反応室1内でウェーハか冷却さ
れ、冷却後エレベータ機絹8によってボート10かロー
ドロック室2へ下降され、ゲートバルブ3が閉塞される
扉4が開放され、蒸着済のウェーハを装填するボート1
0と未蒸着ウェーハを装填するボート10とがボート移
載機によって移し換えられる。
[発明が解決しようとする課題] 上記した従来の縦型CVD装置に於いては、反応室とロ
ードロック室との間に高価な大口径のゲートバルブが必
要であり、又ロードロック室の外部にボート移載機13
を設置しなければならない為、構造が複雑となると共に
移換え作業か煩雑であるという問題かあった6 本発明は、斯かる実情に鑑みてなしたものであり、構造
か簡潔で而も稼動効率のよい縦型CVD装置を提供しよ
うとするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、直立型反応室の下方にロードロック室を気密
に設けると共に該ロードロック室の内部に2組のボート
エレベータを設け、該ボートエレベータに昇降可能且水
平方向に揺動可能に設けられると共にボートが載設され
たシールフランジにより前記反応室を密閉可能とし、前
記ロードロック室の各ボートエレベータと対応した位置
に扉を設け、該扉を挾みウェーハ移載機を設けたことを
特徴とするものである。
[作  用] 2組のうち一方のボートエレベータでボートを反応室に
装入しウェーハの蒸着処理を行っている状態では反応室
はシールフランジにより気密に密閉され、もう一方のボ
ートに対して扉を開け、ウェーハ移載機により蒸着済の
つ主−ハの取出し、未蒸着ウェーハの装填が行われ、扉
が密閉された状態で2組のボートエレベータの協働によ
り、反応室に対するボートの交換が行われる。
[実 旅 例] 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。
尚、第1図、第2図中、第3図中で示したらのと同一の
ものには同符号を付しである。
反応室1の下方にロードロック室15を設け、該ロード
ロック室15に2組の第1、第2ボートエレベータ16
.17を収納せしめる。
該第1、第2ボートエレベータ16.17はそれぞれエ
レベータ機m<図示せず)に水平方向に揺動可能に取付
けられたアーム18.19を有し、該アーム18.19
の先端にはそれぞれシールフランジ20,21が固着し
である。該シールフランジ20.21は反応室1を気密
に密閉可能な構成を有している。該シールフランジ20
.21には受台2223を介して第1、第2ボート24
.25が載設してあり、該第1、第2ボート24.25
はロードロック室15内に於いてボート挿入位置aとウ
ェーハ移載位置す、b’とを前記アーム18.19の揺
動により選択される様になっている。
又、ロードロック室15は前記ウェーハ移載位Wb、b
′に対応して第1、第2小扉26.27が設けられ、該
第1、第2小扉26.27の反対側に大扉28か設けで
ある。
該第1、第2小扉26.27を挾み前記ウェーハ移載位
置す、b’と対向する各位置に、第1、第2ウエーハ移
載機29,30を設け、該各第1、第2ウエーハ移載機
29.30に対してカセット11を垂直方向に多段に配
設したカセット群31.323334を各第1、第2各
ウエーハ移載機29,30に対して少なくとも一対設け
、対をなすカセ・ノド群の一方に未蒸着ウェーハを収納
し、他方のカセット群は蒸着処理後のウェーハを収納す
る様にする。
又、前記第1、第2ウエーハ移載[29,30は同一の
構成を有し、それぞれ垂直な軸心を中心に回転可能なハ
ンドリング部35と該ハンドリング部35に設けられた
水平方向に移動可能なつ工−ハチャック部36とを有し
ている。又、該ウェーハチャック部36は■枚又は複数
のチャックプレート37を有し、真空吸着により1枚の
ウェーハ、又は複数のウェーハを同時に吸着し得る様に
なってい蚤。
又、反応室1、ロードロック室15はそれぞれ排気ポン
プ5,6によって真空引される様になっている。
以下、作動を説明する。
大扉28を密閉し、第2ボートエレベータ17を上昇さ
せ、第2ボート25を反応室1に装入させ且シールフラ
ンジ21で反応室1を気密に密閉し、又第1ボー1−エ
レベータ16のアーム18を揺動させ、第1ボート24
をウェーハ移載位置すとする。
この状態で、第1小扉26を開き未蒸着ウェーハを収納
するカセット群31より、第1ウェー移載機29でウェ
ーハを第1ボート24へ移載する。
この時ウェーハチャック部36で吸着するウェーハの数
は例えば5枚とする。
第1ボート24へのウェーハの移載が完了すると、第1
小扉26を密閉し、排気ポンプ6でロードロック室15
内部の真空引をする。真空引が完了し、尚蒸着処理か完
了していない場合は、第1ボート24はウェーハ移載位
置すで待機させる。
第2ボート25のウェーハの蒸着処理か完了すると反応
室内を排気ポンプ5で真空引し、第2ボートエレベータ
−7を駆動し、第2ボート25を下降させ、更にアーム
19を揺動させウェーハ移載位Wb′とする。
前記第1ボートエレベータ16のアーム18を揺動させ
待機中の第1ボート24をボート挿入位置aとし、更に
エレベータ機構を駆動し、第1ボート24を反応室1内
に装入し、シールフランジ20を密着させて反応室1を
密閉する。密閉後反応ガスを供給し蒸着処理を行う。
次に、第2小扉27を開放し、蒸着処理済のウェーハを
第2ウエーハ移載8!I30によって空のカセット群3
4へ移載する。蒸着処理済のウェーハの移載が完了する
と、未蒸着ウェーハか収納されているカセット群33よ
り、ウェーハを第2ボート25へと移載する。
第2ボート25への未蒸着ウェーハの移載が完了すると
第2小扉27を密閉し、第1ボート24のウェーハの蒸
着処理か完了する迄ウェーハ移載位置b′で待機する。
第1ボート24のウェーハ蒸着処理が完了すると前記し
たと同様の手順で第2ボート25の反応室1への装入、
第1ボート24のウェーハ移載を行い、これら手順を繰
返して行う。
尚、反応室1をシールフランジに乗載可能とし、瓦本体
と反応室1とを分別可能とすると、反応室1をロードロ
ック室15の内部にポートエレベータ16.17によっ
て下降させることかでき、大扉28を開放することで反
応室1を外部に取出せ、反応室1の交換、或は所要時間
毎の反応室の清掃が可能となる。
尚、上記実施例に於いてウェーハ移載機を各ウェーハ移
載位置に対応させて2組設けたが、1組の移動可能なウ
ェーハ移載機を設けてもよい。
[発明の効果コ 以上述べた如く本発明によれば、下記の優れ0 た効果を発揮し得る。
(1)反応室とロードロック室との間の高価な大径のゲ
ートバルブが不要となる。
(11)ロードロック室外部のボート移載機が不要とな
り、構造が簡単となり、設置スペースも小さくてすむ6 (5)大気中でのボートの移載動作がなく、又機器に対
するボー1−の移動がないのでウェーハの塵に対する汚
染が防止できる6 CN)  ボートの移動はアームの揺動で行われるので
、迅速であり処理のサイクルタイムが短くなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略l1lI断面図、
第2図は同前概略平断面図、第3図は従来例の概略側断
面図である。 1は反応室、15はロードロック室、16は第1ボート
エレベータ、17は第2ボートエレベータ、20.21
はシールフランジ、24は第1ボート、25は第2ボー
ト、26は第1小扉、27は第2小扉、1 29は第1ウェーハ移載機、30は第2ウェーハ移載機
を示す。 許 国際電気株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)直立型反応室の下方にロードロック室を気密に設け
    ると共に該ロードロック室の内部に2組のボートエレベ
    ータを設け、該ボートエレベータに昇降可能且水平方向
    に揺動可能に設けられると共にボートが載設されたシー
    ルフランジにより前記反応室を密閉可能とし、前記ロー
    ドロック室の各ボートエレベータと対応した位置に扉を
    設け、該扉を挾みウェーハ移載機を設けたことを特徴と
    する縦型CVD装置。
JP22352089A 1989-08-30 1989-08-30 縦型cvd装置 Pending JPH0385723A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22352089A JPH0385723A (ja) 1989-08-30 1989-08-30 縦型cvd装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22352089A JPH0385723A (ja) 1989-08-30 1989-08-30 縦型cvd装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0385723A true JPH0385723A (ja) 1991-04-10

Family

ID=16799431

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22352089A Pending JPH0385723A (ja) 1989-08-30 1989-08-30 縦型cvd装置

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JP (1) JPH0385723A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6540469B2 (en) * 2000-09-05 2003-04-01 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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