JPH0384411A - 複数方向基準ビーム放射装置 - Google Patents
複数方向基準ビーム放射装置Info
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- JPH0384411A JPH0384411A JP22095889A JP22095889A JPH0384411A JP H0384411 A JPH0384411 A JP H0384411A JP 22095889 A JP22095889 A JP 22095889A JP 22095889 A JP22095889 A JP 22095889A JP H0384411 A JPH0384411 A JP H0384411A
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 238000009435 building construction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
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- Control Of Position, Course, Altitude, Or Attitude Of Moving Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、工事測量等において基準として使用する基準
ビーム放射装置に関する。
ビーム放射装置に関する。
従来の技術と問題点
従来、建造物等の工事のための測量においては、直角を
求めるためにはトランシットを用い、水平を求めるため
にはレベルを用いるというように、２種類の測量機械を
使わなければならず、また、これらの測量機械ではいず
れも望遠鏡により一方向ずつ規準して指示し、別の作業
員がその指示に従って新設点を設けなければならず、最
低２名の作業員を必要とした。
求めるためにはトランシットを用い、水平を求めるため
にはレベルを用いるというように、２種類の測量機械を
使わなければならず、また、これらの測量機械ではいず
れも望遠鏡により一方向ずつ規準して指示し、別の作業
員がその指示に従って新設点を設けなければならず、最
低２名の作業員を必要とした。
問題点を解決するための手段
そこで、本発明は新°しい測量機械を提供することによ
り、一種類の機械で直角設定や水平設定を可能とし、且
つ、従来の測量機械を操作し規準や指示をする人員を省
略しようとするもので、具体的には、光源ユニットより
放射するビーム上に半透過反射面を設けると共に、該半
透過反射面による反射光と透過光の夫々のビーム上に更
に半透過反射面と反射面を設け、光源ユニットより放射
するビームを鉛直２方向と水平２方向へビームを放射す
るように構威したことを特徴とする複数方向基準ビーム
放射装置を提供すると共に、更には、光源ユニットによ
り放射するビーム上に、放射方向数より１を減じた数の
半透過反射面を設け、複数方向へビームを放射するよう
に構威した装置において、光源ユニットに対して反射面
を２面設けて前記半透過反射面にビームを放射するよう
に構威し、装置を小型にしたことを特徴とする複数方向
基準ビーム放射装置を提供しようとするものである。
り、一種類の機械で直角設定や水平設定を可能とし、且
つ、従来の測量機械を操作し規準や指示をする人員を省
略しようとするもので、具体的には、光源ユニットより
放射するビーム上に半透過反射面を設けると共に、該半
透過反射面による反射光と透過光の夫々のビーム上に更
に半透過反射面と反射面を設け、光源ユニットより放射
するビームを鉛直２方向と水平２方向へビームを放射す
るように構威したことを特徴とする複数方向基準ビーム
放射装置を提供すると共に、更には、光源ユニットによ
り放射するビーム上に、放射方向数より１を減じた数の
半透過反射面を設け、複数方向へビームを放射するよう
に構威した装置において、光源ユニットに対して反射面
を２面設けて前記半透過反射面にビームを放射するよう
に構威し、装置を小型にしたことを特徴とする複数方向
基準ビーム放射装置を提供しようとするものである。
作用
第１図は鉛直２方向と水平２方向の４方向へ基準ビーム
を放射するようにした本発明装置の一実施例の光路図を
原理的に示すもので、４は水平方向にビームを放射する
光源ユニットで、該ユニット４から放射された水平な基
準ビームは反射鏡３ａ、３ｂを介して半透過反射鏡１ａ
に射出され・、水平面内で９０°の角度で点５と点６に
向かう。
を放射するようにした本発明装置の一実施例の光路図を
原理的に示すもので、４は水平方向にビームを放射する
光源ユニットで、該ユニット４から放射された水平な基
準ビームは反射鏡３ａ、３ｂを介して半透過反射鏡１ａ
に射出され・、水平面内で９０°の角度で点５と点６に
向かう。
点５に向かうビームは半透過反射鏡１ｂにより一部が反
射され、反射鏡２ｂにより鉛直上方の点７に向かい、点
６に向かうビームは半透過反射鏡１Ｃにより一部が反射
され、反射鏡２ａにより鉛直下方の点０に向かう。この
実施例では、各基準ビームの延長線は一点Ｏ”で交叉し
て設けてあり、各基準ビームが照射指示する点をマーク
すれば、０点を基点として、定めるべき３方向の点５°
、６゛、７を新設点として決定することができ、更に、
点５．６に向かう各基準ビームは水平に設定しであるか
ら、配点５°、６゛の決定と同時に、同高点５．６を決
定することができる。また、光源ユニット４から放射さ
れた水平な基準ビームを反射鏡３ａ、３ｂを介して半透
過反射鏡１ａに射出する構成により、光源ユニット４を
ビーム光路に沿って並設することができるから、例えば
、第１図の４゛で示すように、光源ユニット４°がビー
ム光路の延長上にある場合に比較して装置をそれだけ小
型にすることができる。
射され、反射鏡２ｂにより鉛直上方の点７に向かい、点
６に向かうビームは半透過反射鏡１Ｃにより一部が反射
され、反射鏡２ａにより鉛直下方の点０に向かう。この
実施例では、各基準ビームの延長線は一点Ｏ”で交叉し
て設けてあり、各基準ビームが照射指示する点をマーク
すれば、０点を基点として、定めるべき３方向の点５°
、６゛、７を新設点として決定することができ、更に、
点５．６に向かう各基準ビームは水平に設定しであるか
ら、配点５°、６゛の決定と同時に、同高点５．６を決
定することができる。また、光源ユニット４から放射さ
れた水平な基準ビームを反射鏡３ａ、３ｂを介して半透
過反射鏡１ａに射出する構成により、光源ユニット４を
ビーム光路に沿って並設することができるから、例えば
、第１図の４゛で示すように、光源ユニット４°がビー
ム光路の延長上にある場合に比較して装置をそれだけ小
型にすることができる。
実施例
以下図示する実施例により、本発明装置を詳細に説明す
ると、第２図及び第３図は、第１図の鉛直２方向及び垂
直２方向に基準ビームを放射する原理に基づく装置本体
１０の一実施例を縦断して示し、４は測量機械内に水平
に配置された半導体レーザー等からなる光源ユニットで
、光源ユニット４のビーム光は、対をなす反射ｆｉ３ｂ
、３ａにより１８０°屈曲して反射されて、集光レンズ
系８及び放射レンズ系９により平行光として、光源ユニ
ット４と並列な光路を通って光路中心の半透過反射鏡１
ａに水平に入射されるように構威しである。半透過反射
８Ｍ１ａに水平に入射されたビーム光は、第１図示の如
く、透過して点５に行く透過光と、水平面内において、
９０”の角度間隔で反射して点６に行くものに分割され
る。透過して点５に行く透過光は、半透過反射鏡１ｂに
よりその一部が反射されて、更に反射鏡２ｂにより鉛直
上方の点７に照射されるように構成しである。反射して
点６に行くビーム光は、第３図に示す如く、半透過反射
１）１ｃによりその一部が反射されて、更に反射鏡２ａ
により鉛直下方の点Ｏに照射されるよろに構威しである
。鉛直下方の０点に向かうビームは従来公知の整準装置
により鉛直に維持されるように構威しである。
ると、第２図及び第３図は、第１図の鉛直２方向及び垂
直２方向に基準ビームを放射する原理に基づく装置本体
１０の一実施例を縦断して示し、４は測量機械内に水平
に配置された半導体レーザー等からなる光源ユニットで
、光源ユニット４のビーム光は、対をなす反射ｆｉ３ｂ
、３ａにより１８０°屈曲して反射されて、集光レンズ
系８及び放射レンズ系９により平行光として、光源ユニ
ット４と並列な光路を通って光路中心の半透過反射鏡１
ａに水平に入射されるように構威しである。半透過反射
８Ｍ１ａに水平に入射されたビーム光は、第１図示の如
く、透過して点５に行く透過光と、水平面内において、
９０”の角度間隔で反射して点６に行くものに分割され
る。透過して点５に行く透過光は、半透過反射鏡１ｂに
よりその一部が反射されて、更に反射鏡２ｂにより鉛直
上方の点７に照射されるように構成しである。反射して
点６に行くビーム光は、第３図に示す如く、半透過反射
１）１ｃによりその一部が反射されて、更に反射鏡２ａ
により鉛直下方の点Ｏに照射されるよろに構威しである
。鉛直下方の０点に向かうビームは従来公知の整準装置
により鉛直に維持されるように構威しである。
尚、第２図において、点６に向かうビーム光の光路は紙
面に直交しているため、その光線と反射鏡１ｃ、２ａは
省略して、第３図に示しである。
面に直交しているため、その光線と反射鏡１ｃ、２ａは
省略して、第３図に示しである。
また、この実施例の場合、先の作用の欄で説明した如く
、各基準ビームの延長線は一点Ｏ゛で交叉して設定しで
あると共に、各基準ビームは、９０°角度間隔の水平な
２方向と鉛直な２方向へ照射するようにしであるので、
第１図における０点を基点として、定めるべき３方向の
点５°、６゛７を決定することができるのは勿論、第１
図の互いに水平な同高点５．６を同時に決定することが
できるように構成しである。
、各基準ビームの延長線は一点Ｏ゛で交叉して設定しで
あると共に、各基準ビームは、９０°角度間隔の水平な
２方向と鉛直な２方向へ照射するようにしであるので、
第１図における０点を基点として、定めるべき３方向の
点５°、６゛７を決定することができるのは勿論、第１
図の互いに水平な同高点５．６を同時に決定することが
できるように構成しである。
第４図は、第１図と同様に鉛直２方向と水平２方向の４
方向へ基準ビームを放射するようにした本発明装置の他
の実施例の光路図を原理的に示すもので、４は水平方向
にビームを放射する光源ユニットで、該ユニット４から
放射された水平な基準ビームは反射鏡３ｂ、３ａを介し
て半透過反射鏡１ａに射出され、鉛直面内で９０°の角
度で点５と点７に向かう。点５に向かう水平ビームは半
透過反射鏡１ｂにより一部が反射され、反射鏡２ａによ
り鉛直下方の点Ｏに向かい、点７に向かう鉛直ビームは
半透過反射鏡１ｃにより一部が反射され、反射鏡２ｂに
より前記点５に向かう光軸に対して９０°の角度の水平
方向の点６に向かうように構成しである。
方向へ基準ビームを放射するようにした本発明装置の他
の実施例の光路図を原理的に示すもので、４は水平方向
にビームを放射する光源ユニットで、該ユニット４から
放射された水平な基準ビームは反射鏡３ｂ、３ａを介し
て半透過反射鏡１ａに射出され、鉛直面内で９０°の角
度で点５と点７に向かう。点５に向かう水平ビームは半
透過反射鏡１ｂにより一部が反射され、反射鏡２ａによ
り鉛直下方の点Ｏに向かい、点７に向かう鉛直ビームは
半透過反射鏡１ｃにより一部が反射され、反射鏡２ｂに
より前記点５に向かう光軸に対して９０°の角度の水平
方向の点６に向かうように構成しである。
この実施例でも、各基準ビームの延長線は一点Ｏ′で交
叉して設けてあり、各基準ビームが照射指示する点をマ
ークすれば、０点を基点として、定めるべき３方向の点
５°、６°、７を新設点として決定することができ、更
に、点５．６に向かう各基準ビームは水平に設定しであ
るから、配点５゛、６”の決定と同時に、同高点５．６
を決定することができる。また、光源ユニット４から放
射された水平な基準ビームを反射ｆｉ３ａ、３ｂを介し
て半透過反射鏡１ａに射出する構成により、光源ユニッ
ト４をビーム光路に沿って並設することができるから、
光源ユニットがビーム光路の延長上にある場合に比較し
て装置をそれだけ小型にすることができる。
叉して設けてあり、各基準ビームが照射指示する点をマ
ークすれば、０点を基点として、定めるべき３方向の点
５°、６°、７を新設点として決定することができ、更
に、点５．６に向かう各基準ビームは水平に設定しであ
るから、配点５゛、６”の決定と同時に、同高点５．６
を決定することができる。また、光源ユニット４から放
射された水平な基準ビームを反射ｆｉ３ａ、３ｂを介し
て半透過反射鏡１ａに射出する構成により、光源ユニッ
ト４をビーム光路に沿って並設することができるから、
光源ユニットがビーム光路の延長上にある場合に比較し
て装置をそれだけ小型にすることができる。
また、更に、上記第１図及び第４図の実施例では、光源
ユニット４から放射する基準ビームの方向を水平に設定
した場合を示しているが、光源ユニット４から放射する
基準ビームの方向を鉛直に設定してあっても反射面を２
面使用し、前記と同様の原理、構成により、光軸を折り
返すことにより、装置を小型にする同じ目的を遠戚する
ことができる。更に、基準ビームの数と方向は、装置の
使用目的に応じて適宜窓めることができると共に、各基
準ビームの照度も装置の使用目的に応じて適宜窓めるこ
とができる。
ユニット４から放射する基準ビームの方向を水平に設定
した場合を示しているが、光源ユニット４から放射する
基準ビームの方向を鉛直に設定してあっても反射面を２
面使用し、前記と同様の原理、構成により、光軸を折り
返すことにより、装置を小型にする同じ目的を遠戚する
ことができる。更に、基準ビームの数と方向は、装置の
使用目的に応じて適宜窓めることができると共に、各基
準ビームの照度も装置の使用目的に応じて適宜窓めるこ
とができる。
例えば、光源ユニット４からの光を各基準ビームに等分
に分配しようとするならば、半透過反射６Ｊ１）ａ、Ｉ
ｂ、ｌｃの反射率は５０％（従って透過率５０％）に設
定すれば良いが、一般に、光源ユニット４からの距離は
、鉛直方向の点０．７に比較して水平方向の点５．６が
遠くなるから、これを考慮して、半透過反射鏡１ａの反
射率は５０％（従って透過率５０％〉に対し、半透過反
射鏡１ｂ及びＩＣの反射率は３０ （従って透過率７０
％）程度に設定し、鉛直２方向より水平２方向に向かう
光量を増強することができ、各基準ビームの照度を装置
の使用目的に応じて適宜窓めることができるのである。
に分配しようとするならば、半透過反射６Ｊ１）ａ、Ｉ
ｂ、ｌｃの反射率は５０％（従って透過率５０％）に設
定すれば良いが、一般に、光源ユニット４からの距離は
、鉛直方向の点０．７に比較して水平方向の点５．６が
遠くなるから、これを考慮して、半透過反射鏡１ａの反
射率は５０％（従って透過率５０％〉に対し、半透過反
射鏡１ｂ及びＩＣの反射率は３０ （従って透過率７０
％）程度に設定し、鉛直２方向より水平２方向に向かう
光量を増強することができ、各基準ビームの照度を装置
の使用目的に応じて適宜窓めることができるのである。
効果
以上の通り、本発明に係る複数方向基準ビーム放射装置
によれば、光源ユニットより放射するビーム上に半透過
反射面を設けると共に、咳半透過反射面による反射光と
透過光の夫々のビーム上に更に半透過反射面と反射面を
設け、光源ユニットより放射するビームを鉛直２方向と
水平２方向へビームを放射するように構成したから、そ
のうちから選定したビームを基準として一旦設置すれば
、装置を操作することなく他の基準ビームが照射指示す
る点を新設点としてマークし設定することができ、従来
のトランシットやレベルを操作する人員が不要であり、
省力化が可能である。また、基準ビームが照射指示する
点をマークすることにより、同一装置、同一作業により
直角等の設定と同高点の決定が同時にでき、作業時間の
短縮と省力化を可能にする効果がある一方、光源ユニッ
トにより放射するビーム上に、放射方向数より１を減じ
た数の半透過反射面を設け、複数方向へビームを放射す
るように構成した装置において、光源ユニットに対して
反射面を２面設けて前記半透過反射面にビームを放射す
るように構成したから、光源ユニットの光路を前記２面
の反射面で折り返した形で、ビーム光路を並設すること
ができるから、光源ユニットがビーム光路の延長上にあ
る場合に比較して装置をそれだけ小型にすることができ
る効果がある。
によれば、光源ユニットより放射するビーム上に半透過
反射面を設けると共に、咳半透過反射面による反射光と
透過光の夫々のビーム上に更に半透過反射面と反射面を
設け、光源ユニットより放射するビームを鉛直２方向と
水平２方向へビームを放射するように構成したから、そ
のうちから選定したビームを基準として一旦設置すれば
、装置を操作することなく他の基準ビームが照射指示す
る点を新設点としてマークし設定することができ、従来
のトランシットやレベルを操作する人員が不要であり、
省力化が可能である。また、基準ビームが照射指示する
点をマークすることにより、同一装置、同一作業により
直角等の設定と同高点の決定が同時にでき、作業時間の
短縮と省力化を可能にする効果がある一方、光源ユニッ
トにより放射するビーム上に、放射方向数より１を減じ
た数の半透過反射面を設け、複数方向へビームを放射す
るように構成した装置において、光源ユニットに対して
反射面を２面設けて前記半透過反射面にビームを放射す
るように構成したから、光源ユニットの光路を前記２面
の反射面で折り返した形で、ビーム光路を並設すること
ができるから、光源ユニットがビーム光路の延長上にあ
る場合に比較して装置をそれだけ小型にすることができ
る効果がある。
第１図は本発明装置の一実施例の光路を原理的に示す分
解斜面図であり、第２図はその一実施例の概略縦断正面
図、第３図はその一実施例の概略縦断側面図であり、第
４図は本発明装置の他の実施例の光路を原理的に示す分
解斜面図である。 １ａ、１ｂ、ＩＣ二半透過反射鏡 ２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂ：反射鏡 ４：光源ユニット ８：集光レンズ系 ９：放射レンズ系 １０：装置本体 富 ］ 図 第 図
解斜面図であり、第２図はその一実施例の概略縦断正面
図、第３図はその一実施例の概略縦断側面図であり、第
４図は本発明装置の他の実施例の光路を原理的に示す分
解斜面図である。 １ａ、１ｂ、ＩＣ二半透過反射鏡 ２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂ：反射鏡 ４：光源ユニット ８：集光レンズ系 ９：放射レンズ系 １０：装置本体 富 ］ 図 第 図
Claims (4)
- （１）光源ユニットより放射するビーム上に半透過反射
面を設けると共に、該半透過反射面による反射光と透過
光の夫々のビーム上に更に半透過反射面と反射面を設け
、光源ユニットより放射するビームを鉛直２方向と水平
２方向へビームを放射するように構成したことを特徴と
する複数方向基準ビーム放射装置 - （２）光源ユニットにより放射するビーム上に、放射方
向数より１を減じた数の半透過反射面を設け、複数方向
へビームを放射するように構成した装置において、光源
ユニットに対して反射面を２面設けて前記半透過反射面
にビームを放射するように構成したことを特徴とする複
数方向基準ビーム放射装置 - （３）特許請求の範囲（１）又は（２）に記載の装置に
おいて、前記複数方向へ放射するビームが互いに直角関
係を維持していることを特徴とする複数方向基準ビーム
放射装置 - （４）特許請求の範囲（２）に記載の装置において、光
源ユニットより放射するビームが水平であることを特徴
とする複数方向基準ビーム放射装置（５）特許請求の範
囲（２）に記載の装置において、光源ユニットより放射
するビームが鉛直であることを特徴とする複数方向基準
ビーム放射装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22095889A JPH0384411A (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | 複数方向基準ビーム放射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22095889A JPH0384411A (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | 複数方向基準ビーム放射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0384411A true JPH0384411A (ja) | 1991-04-10 |
Family
ID=16759223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22095889A Pending JPH0384411A (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | 複数方向基準ビーム放射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0384411A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04244912A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-09-01 | Spectra Physics Laserplain Inc | 光ビーム投射装置 |
| JPH04372813A (ja) * | 1991-06-21 | 1992-12-25 | Seiwa Shoko:Kk | 水平指示器 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63191912A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-09 | Shinsuke Ito | レ−ザ光線によるレベル設定装置 |
| JPS63246611A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-13 | Nec Corp | 光束形成装置 |
-
1989
- 1989-08-28 JP JP22095889A patent/JPH0384411A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63191912A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-09 | Shinsuke Ito | レ−ザ光線によるレベル設定装置 |
| JPS63246611A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-13 | Nec Corp | 光束形成装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04244912A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-09-01 | Spectra Physics Laserplain Inc | 光ビーム投射装置 |
| JPH04372813A (ja) * | 1991-06-21 | 1992-12-25 | Seiwa Shoko:Kk | 水平指示器 |
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