JPH0381360U - - Google Patents

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JPH0381360U
JPH0381360U JP14068889U JP14068889U JPH0381360U JP H0381360 U JPH0381360 U JP H0381360U JP 14068889 U JP14068889 U JP 14068889U JP 14068889 U JP14068889 U JP 14068889U JP H0381360 U JPH0381360 U JP H0381360U
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JP
Japan
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processing chamber
plasma
processing
reduced pressure
sample
Prior art date
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JP14068889U
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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例のプラズマ処理装置
の要部縦断面図である。 1……処理室、3……試料台、5……試料設置
台、6……冷媒流路、9……加温媒体流路、12
……カバー、13……空間、14……試料。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 処理室と、該処理室内を減圧排気する手段と、
    前記処理室内に処理ガスを導入する手段と、前記
    処理ガスをプラズマ化する手段と、該プラズマを
    利用して処理される試料が前記処理室内で設置さ
    れる試料台と、前記試料を0℃以下の低温に冷却
    可能に前記試料台を冷却する手段より成るプラズ
    マ処理装置において該試料台の試料載置面を除く
    少なくとも前記処理室内の露出面に前記処理室内
    と気密に隔離された減圧空間を設け、さらに該減
    圧空間の試料載置面側の周りに前記処理室および
    減圧空間と気密に隔離された加温空間を設け該露
    出面を前記処理室内にあるガスの露点温度以上の
    温度に保持することを特徴としたプラズマ処理装
    置。
JP14068889U 1989-12-06 1989-12-06 Pending JPH0381360U (ja)

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JP14068889U JPH0381360U (ja) 1989-12-06 1989-12-06

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JPH0381360U true JPH0381360U (ja) 1991-08-20

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