JPH0381245A - ポリエーテルケトンおよびその製造方法 - Google Patents

ポリエーテルケトンおよびその製造方法

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JPH0381245A
JPH0381245A JP21770589A JP21770589A JPH0381245A JP H0381245 A JPH0381245 A JP H0381245A JP 21770589 A JP21770589 A JP 21770589A JP 21770589 A JP21770589 A JP 21770589A JP H0381245 A JPH0381245 A JP H0381245A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、新規なポリエーテルケトンおよびその合成に
有用なモノマー並びにそれらの製造方法に間するもので
あり、さらに詳しくは、溶融成型が可能で、耐熱性、機
械特性、寸法安定性、耐溶剤性、溶融時の耐酸化性等に
優れており、かつ吸水性が低く、エンジニアリングプラ
スチック、繊維、フィルム等として有用なポリエーテル
ケトンおよびその合成に有用なモノマーに関するもので
ある。
〈従来技術〉 従来も、溶融異方性を示し、高強度、高弾性率を持ち、
寸法安定性、耐溶剤性などに優れ、しかも、溶融粘度が
低いために成型時の圧力が低く、複雑な成形をするのが
容易な液晶性ポリエステルが知られている。しかし、こ
れはエステル結合を有するため耐酸性、耐アルカリ性が
弱いという欠点がある。
一方、この耐酸性、耐アルカリ性に優れたポリマーとし
て、ポリエーテルケトン(PEK)や、ポリエーテルエ
ーテルケトン(PEEK)などが知られている。これは
、ポリエステルと異なり、エーテル結合や、ケトン結合
により結合されているため、耐酸性、耐アルカリ性に優
れ、しかも結晶性のため、耐溶剤性、高耐熱性、高強度
、高弾性率などの優れた点がある。従来ポリアリールエ
ーテルケトンの原料としては4.4′−ジハロベンゾフ
ェノン、ビス(p−ハロベンゾイル〉ベンゼン等が知ら
れているが、これらは分子量の高いものを合成すると、
溶融時の粘度が高くなってしまい、成形性が悪く問題が
あった。
〈発明の目的〉 そこで本発明者らは、成形性ならびに成形品の機械的性
質に優れたポリエーテルケトンおよびその原料について
鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は下記式(I) X<I>−Go−Ar−0+CH2 +、、0−Ar−Co<I>−X ・・・(I) で表わされるビス(ハロベンゾイルアリールオキシ)ア
ルカン、その製造方法、式(I>の化合物とジヒドロキ
シアリール化合物とをアルカリの存在下反応させること
を特徴とするポリエーテルケトンの製造方法および下記
式(n) Q−Go−Ar−0+cH2+。0−Ar−C0<I>
0−Ar’ −0−・・・(n) 粘度が0.2以上のポリエーテルケトンである。
以下、本発明について詳細に説明する。
式(I)においてXはハロゲン原子である。具体的には
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素であり、好ましくはフッ素
または塩素である。
式(I)においてArは核置換されていてもよい2価の
芳香族基である。芳香族基はp−配向性のものが好まし
く、特にp−フェニレン基、p。
好ましい。
これらの基は、任意の独立な1〜4の置換基によって核
置換されていてもよく、その置換基の例として、cH3
−、cH3cH2−、C)t3cH2cH2(CH3)
 2 CH、(CHa) 3 C、Br  、  l0
2N−、HO3S−、CH3C0NH−などをあげるこ
とができる。
式(I>においてnは2〜6の整数であり、好ましくは
偶数である。ここで、nが6よりも大になると、これを
原料として得られるポリマーの融点が低くなってしまい
、また、nが2よりも小になると、成形性が悪くなって
良くない。
ビス〈ハロペンシイlレアリールオキシ〉アlレカンと
しては、具体的には、例えばビス(p−フルオロベンゾ
イルフェノキシ〉エタン、ビス<p−フルオロベンゾイ
ルフェノキシ〉ブタン、ビス(p−クロロベンゾイルフ
ェノキシ)エタン、ビス〈p−クロロベンゾイルビフェ
ニルオキシ〉ブタン、ビス(p−フルオロベンゾイルビ
フェニルオキシ〉エタン、ビス〈p−フルオロベンゾイ
ルビフェニルオキシ〉ブタン等を挙げることができる。
本発明のビス〈ハロベンゾイルアリールオキシ〉アルカ
ンは種々の方法によって合成することができるが、具体
的には下記の方法が挙げられる。
(i)  ジアリールオキシアルカンとハロゲン化ベン
ゾイルハライドとをルイス酸の存在下で反応させる。
GOジアリールオキシアルカンジカルボン酸ハロゲン化
物とハロベンゼンとをルイス酸の存在下反応させる。
0 くp−ヒドロキシアリール)(p−ハロフェニル〉
ケトンとアルキレンシバライドとをルイス酸の存在下反
応させる。
上記(1)の方法においては相当するジアリールオキシ
アフレカンと、ハロゲン化ペンシイlレバライドと、ル
イス酸とを任意の溶媒の存在下、混合加熱することによ
って、合成することができる。ここでジ(アリールオキ
シ〉アルカンのモル数を(A+ハロゲン化ベンゾイルハ
ライドのモル数を(B)とするとき、 (B) /(A)≧2    ・・・(III)を満た
すことが必要である。ここで、望ましくは(B) /(
A)の値は、2.0〜3.0であることが望ましく、さ
らに望ましくは2.0〜2.5である。この値が大きす
ぎるとハロゲン化ベンゾイルハライドの量が多すぎて無
駄になってしまい、2.0よりも小さい場合は収率よく
所定の物質が得られずよくない。
また、ハロゲン化ベンゾイルハライドのカルボニル基と
結合するハロゲンは、任意のものを用いることができる
が、CIであることが望ましい。
溶媒としては、フリーデル・クラフッ反応に有用な溶媒
を全て用いることができ、例えばニトロベンゼン、 C
82、CH2Cl2 、 CCl4 。
CCIH2CCIH2等を例示できるが、特にニトロベ
ンゼンを用いることが好ましい。
溶媒の量としては、反応基質の総重量に対して、任意の
量を選ぶことができるが、望ましくは重量比で0.5〜
10倍、さらに望ましくは1.0〜5.0倍であること
が望ましい。これより、溶媒の量が少ないと、反応基質
が析出してしまい、これより、溶媒量が多いと、生成物
の精製操作が煩雑になったり、触媒の効力が充分に出な
かったりして良くない。
ルイス酸としては、公知のものを用いることができる。
例えば、塩化第2鉄、塩化アルミニウム、BFi  、
  HF 、  5bCIs  、  FeCl2 、
  TiCl4 、 5nCI4 。
2:nCIzなどを例示できるが、AlCl3 、 F
eCl3を使用することが望ましい。
ルイス酸の量としては、ハロゲン化ベンゾイルハライド
に対して0.01〜1,5当量程度用いるが、これはル
イス酸の種類、溶媒等の反応条件によっても異なる。例
えばルイス酸としてFeCl3を用い溶媒としてニトロ
ベンゼンを使用する場合にはFeCl、はハロゲン化ベ
ンゾイルハライドに対して0.01〜0.1当量程度の
少量でも良いがAlCl3を使用する場合には1.0当
量以上使用するのが好ましい。
反応温度は、室温より高い温度を用いるなら、どのよう
な温度を用いることもできるが、望ましくは20〜20
0℃、さらに望ましくは100〜150℃である。温度
が高すぎる時は、副反応をおこして、目的の物質の収量
が減ってしまい、温度が低すぎる時は反応速度が遅くな
ってしまい良くない。
上記GOの方法においては、相当するジアリールオキシ
アルカンジカルボン酸ハロゲン化物とハロベンゼンとを
、ルイス酸の存在下任意に溶媒と共に混合、反応させる
ことによって合成することができる。
ジ〈アリールオキシ〉アルカンジカルボン酸ハライドの
モル数を(C)、ハロベンゼンのモル数を(D)とする
とき、 (DJ /(C)  ≧2      ・・・(rV)
を満たすことが必要である。2.0よりも小さい場合は
収率よく所定の物質が得られずよくない。
またジアリールオキシアルカンジカルボン酸ハライドの
カルボニル基と結合するハロゲンは、任意のものを用い
ることができるが、塩素であることが望ましい。
ルイス酸としては、前記(i)の方法で例示したものと
同じものを用いることができ、使用量はこれに準する。
溶媒としては、ハロベンゼンを過剰に用いて溶媒と兼ね
てもよく、通常のフリーデル・クラフッ反応に有用な溶
媒を用いることもできる。
溶媒としては特にハロベンゼンまたはニトロベンゼンが
好ましい。溶媒の量および温度は前記(i)の方法に準
じる。
前記GiDの方法においては、相当する(ヒドロキシア
リール)(p′−ハロアリール)ケトンと、アルキルシ
バライドとを、塩基および任意に溶媒の存在下、混合、
反応させることによって、所定の目的物を合成すること
ができる。ここで(ヒドロキシアリール)(p′−ハロ
フェニル〉ケトンのモル数を(E)、アルキレンシバラ
イドのモル数を(F)とすると、理論的には、 (E) /(F)  =2 であるが、実際には、アルキレンシバライドの脱ハロゲ
ン化水素反応がおこるため、 (E) /(P) ≦2      ・・・(V)であ
ることが好ましい。
拳法で用いる(p−ヒドロキシフェニル〉(p′−ハロ
アリール)ケトンのハロゲンは、フッ素または塩素であ
ることが好ましい。アルキレンシバライドにおけるハロ
ゲンは、ヨウ素、臭素または塩素であることが好ましい
ここで用いられるアルカリとしては、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム、NaOH,KOH,NaHCO3、KH
CO3などが挙げられるが、特にNaOHが好ましい。
拳法で用いる塩基の量は、理論的に〈p−ヒドロキシフ
ェニル〉(p′−ハロアリール〉ケトンのモル数に等当
量だけ必要であるが1.0〜1.2倍の範囲で過剰に用
いても良い。これを超える場合には塩基が無駄になって
しまい、1.0以下の場合には、所定の生成物の収率が
低くなってしまい良くない。
溶媒としては、通常の有機溶媒を用いることができる。
例をあげれば、ジオキサン、グリム、ジグライム、トリ
グリム、エタノール、メタノール、イソプロパツール、
n−プロパツール、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、プロピレングリコールなとであるが、特にエ
タノールおよびジオキサンが好ましい。
反応温度は、室温以上の任意の温度を用いることができ
る。が、好ましくは30〜150°C1より好ましくは
50〜120℃である。
上記(i)、 GO,GiDの方法のうち(i)、 G
Dの方法が好ましい。
本発明は、上記式(I>で表わされるビス(ハロペンゾ
イルアリールオキシ)アルカンとジヒドロキシアリール
化合物とをアルカリの存在下、反応させることによりポ
リエーテルケトンを製造することが可能である。ここで
ジヒドロキシアリール化合物は、下記式(VI) HO−Ar’  −0H (VI) 反応は式(I)で表わされるビス〈ハロベンゾイルアリ
ールオキシ〉アルカンと、式(■〉で表わされるジヒド
ロキシアリール化合物とを、モル比で、実質的に等モル
で混合し任意に、適当な溶媒の存在下、アルカリと共に
反応せしめる。化合物(1)と化合物(Vl)のモル比
は、100 /102〜100 /98が好ましく、こ
れより比の値が、大きくても小さくても、重合度があが
りにくい。反応温度は、任意に選ぶことができるが、好
ましくは、例えば150〜500℃、より好ましくは2
00〜350℃である。温度が高すぎると、副反応が起
こったり、原料の昇華がおこりやすく、また、低すぎる
と反応が遅くなる。脅威に用いるアルカリとしては、ア
ルカリ金属炭酸塩、または、水酸化物が好ましく、例え
ば、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸水素リチウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウ
ムなどを、挙げることができるが、中でも炭酸塩、特に
炭酸カリウムが好ましい。
アルカリの量は反応中に発生するハロゲン化水素を、実
質的に中和する量あることが必要であるが、実際は理論
量よりも5%程度多くても、少なくても、反応させるこ
とはできる。実際の反応には適当な可塑剤、溶媒を用い
ることもできる。例示すれば、ジフェニルスルフォン、
スルフオラン、N−メチルピロリドン、N、N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルフオキシド等を挙げるこ
とができるが、中でもジフェニルスルフォンが好ましい
。反応に際してその促進のために添加剤を加えることが
できる。かかる例として金属またはその塩、包接化合物
、キレート剤、有機金属化合物などを挙げることができ
る。
さらに、上記式(I[>においてA「またはAr’は同
一または異なっていてもよく、式(1)の定義に同じで
ある。またnも式(1)の定義に同じである。式(II
)で表わされる繰返し単位がら主としてなるポリエーテ
ルケトンの固有粘度は0.2以上であり、0.3以上で
あることが好ましい。固有粘度が0.2未満の場合には
、ポリマーの機械特性が不充分であり好ましくない。
[実施例] 以下に実施例によって、本発明を説明する。ただし、以
下の実施例は本発明を限定するものではない。また1部
」は、「重量部」を表わす。
実施例1 ジフェノキシエタン64.3部、p−フルオロベンゾイ
ルクロリド95.1部、FeCl34.9部、ニトロベ
ンゼン150部を西下でモーター付き攪拌機、拠導入口
、抽パーシロのついた3つロフラスコ中に仕込み、12
0℃で10時間攪拌反応せしめた。これを約20倍量の
メタノール中で再沈し、濾過、メタノール洗浄、後ジオ
キサンで再結晶を行い、白色うろこ状結晶101.0部
を得た。生成物の融点は228〜231℃であり、また
元素分析値はC=73.40%。
H= 4.30%であった。またIRは図1のようにな
り、NMRは図2のようになった。従ってこの生成物は
1,2−ビス(p−フルオロベンゾイルフェノキシ〉エ
タンであることが確認された。
実施例2 4.4′−ジフェノキシエタンジカルボン酸塩化物34
部、無水塩化アルミニウム27部、クロロベンゼン15
0部を攪拌機付フラスコに仕込み、クロロベンゼンの還
流下7時間攪拌反応せしめた。過剰のクロロベンゼンを
減圧下留去し、次いで生成物を多量のメタノールおよび
水で洗浄した後ジオキサンより再結晶し、白色結晶14
.3部を得た。生成物の融点は229〜233℃で、ま
たIRも実施例1で得た1、2−ビス(4−クロロベン
ゾイルフェノキシ)エタンに一致した。
実施例3 1.4−ジフェノキシブタン72.6部、9−フルオロ
ベンゾイルクロリド95.1部、Feels 4.9部
、ニトロベンゼン160部を実施例1と同様にして反応
させた。これを実施例1と同様な方法で精製を行ったと
ころ、36,3部の白色うろこ状結晶を得た。
この融点は199〜201 ”Cであった。
元素分析値はC= 73.79%、H= 4.92%で
あった。IR,NMRの結果から、この生成物はビス(
p−フルオロベンゾイルフェノキシ)ブタンであること
を確認した。
実施例4 (p−ヒドロキシフェニル)(p−クロロフェニル〉ケ
トン23.3部、ジブロムエタン9.4部、NaOH4
,0部、水7部0部、エタノール100部を実施例1と
同様の容器中、抽気流下90℃で15時間加熱反応させ
た。反応液は水に投じた後、ジオキサンより結晶を析出
させた。得られた結晶は4.2部であり、融点は220
〜222℃であった。元素分析値はC= 68.40%
、H= 4.08%であった。IR,NMRの結果から
この生成物はビス(p−クロロベンゾイルフェノキシ)
エタンであることが確認された。
実施例5 ジフェノキシエタン109.1部、パラクロロベンゾイ
ルクロリド178.2部、AlCl374.7部、ニト
ロベンゼン300部を実施例1と同様な容器に仕込み、
120℃で7時間反応せしめた。これを約20倍量のメ
タノール中に再沈し、濾過、メータノール洗浄後、ジオ
キサンで再結晶を行い、白色うろこ状結晶77.4部を
得た。融点、IR,NMRより生成物は実施例4のもの
と同一であることが確認できた。
実施例6 1.4−ビス(p−フルオロベンゾイルフェノキシ)ブ
タン7.3部、ヒドロキノン1.65部、K2CO32
,07部、ジフェニルスルフォン16.94部を窒素導
入口と排出口をもった、3つ目フラスコに入れ窒素置換
を行い、200℃テ30分、220’Cテ1時間、25
0℃で1時間、300℃で4時間半反応せしめた。得ら
れた固体はアセトンおよび水で抽出し、乾燥した。10
mgのポリマーをメタンスルフォン酸10m1に溶解さ
せ、固有粘度を測定したところ1.09であった。ま、
た、このポリマーの融点を、DSCで測定したところ3
13℃であった。
実施例7 1.4−ビス(p−フルオロベンゾイルフェノキシ)エ
タン6.88部、ヒドロキノン1.65部、K2CO3
2,07部、ジフェニルスルフォン16.68部を窒素
導入口と排出口をもった、3つロフラスコに入、れ窒素
置換を行い、200℃で30分、220℃で1時間、2
50℃で1時間、300℃で4時間半反応せしめた。得
られた固体はアセトンおよび水で抽出し、乾燥した。1
0mgのポリマーをメタンスルフォン酸10m1に溶解
させ、固有粘度を測定したところ0.36であった。ま
た、このポリマーの融点を、DSCで測定したところ3
19℃であった。
実施例8 実施例6で重合したポリマーを、330℃で紡糸し、次
いで150℃で5倍に延伸し、引張強度、ヤング率、伸
度の測定を行った。その結果、それぞれ5.6g/de
 、 103g/de 、 19%の値が得られた。
【図面の簡単な説明】
図1は実施例で得られたビス(p−フルオロベンゾイル
フェノ尤シ〉エタンのIRの測定結果であり、図2は実
施例で得られたビス(p−フルオロベンゾイルフェノキ
シ〉エタンのNMRの測定結果である。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) [ここで、Xはハロゲン原子であり、Arは核置換され
    ていてもよい2価の芳香族基である。 nは2〜6の整数である。] で表わされるビス(ハロベンゾイルアリールオキシ)ア
    ルカン。
  2. (2)ジアリールオキシアルカンとハロゲン化ベンゾイ
    ルハライドとをルイス酸の存在下で反応させることを特
    徴とする請求項1記載のビス(ハロベンゾイルアリール
    オキシ)アルカンの製造方法。
  3. (3)ジアリールオキシアルカンジカルボン酸ハロゲン
    化物とハロベンゼンとをルイス酸の存在下反応させるこ
    とを特徴とする請求項1記載のビス(ハロベンゾイルア
    リールオキシ)アルカンの製造方法。
  4. (4)(p−ヒドロキシアリール)(p′−ハロフェニ
    ル)ケトンとアルキレンジアライドとを塩基の存在下反
    応させることを特徴とする請求項1記載のビス(ハロベ
    ンゾイルアリールオキシ)アルカンの製造方法。
  5. (5)請求項1記載のビス(ハロベンゾイルアリールオ
    キシ)アルカンとジヒドロキシアリール化合物とを、ア
    ルカリの存在下、反応させることを特徴とするポリエー
    テルケトンの製造方法。
  6. (6)下記式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) [式中、ArまたはAr′は同一または異なっていても
    よく、式( I )のArの定義に同じであり、nも式(
    I )の定義に同じである。] で表わされる繰返し単位から主としてなり、固有粘度が
    0.2以上のポリエーテルケトン。
JP1217705A 1989-08-24 1989-08-24 ポリエーテルケトンおよびその製造方法 Expired - Lifetime JPH0768341B2 (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011064192A1 (en) * 2009-11-27 2011-06-03 Basf Se Photovoltaic module with uv-stabilized encapsulant

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JPS4913207A (ja) * 1972-05-18 1974-02-05
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