JPH0380421A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents

垂直磁気記録媒体

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JPH0380421A
JPH0380421A JP21502689A JP21502689A JPH0380421A JP H0380421 A JPH0380421 A JP H0380421A JP 21502689 A JP21502689 A JP 21502689A JP 21502689 A JP21502689 A JP 21502689A JP H0380421 A JPH0380421 A JP H0380421A
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JP
Japan
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film
layer
layers
artificial lattice
perpendicular magnetic
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Pending
Application number
JP21502689A
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English (en)
Inventor
Shunichi Hashimoto
俊一 橋本
Yoshitaka Ochiai
落合 祥隆
Koichi Aso
阿蘇 興一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は記録層の層厚方向の磁化によって情報記録がな
される垂直磁気記録媒体に関し、特に高保磁力および高
角形比を有する垂直磁気記録媒体に関する。
〔発明の概要〕
本発明は、Co層とPd層および/またはPt層とが交
互に積層された人工格子膜を垂直磁気記録媒体の記録層
として底膜するにあたり、上記人工格子膜の微細構造を
互いに100λ以下の隙間を介して配列される直径10
00Å以下の柱状粒子から構成される隙間柱状構造とす
ることにより、高保磁力と高角形比を達成するものであ
る。
〔従来の技術〕
近年の情報記録の分野においては、高記録密度化、高記
録容量化への要求に応えるべく、垂直磁気記録に関する
研究が各所で進められている。垂直磁気記録は、記録波
長が記録層の層厚と同等以下の短波長となっても異極が
近接することにより減磁が抑制されて静磁気学的な安定
化が達成されること、急峻な磁化転移領域が形成される
ために再生ヘッドの誘導起電力を大きくできること等の
長所を有しており、本質的に高密度記録に適した方式と
言える。
この垂直磁気記録を実現するための記録層としては、こ
れまでにCo−Cr合金、Co−Mo合金、Co−V合
金、Co−Ru合金等を成膜したものが提案されている
。これらの中でも、高周波スパッタリングにより成膜さ
れたCo−Cr合金膜は、最も垂直磁気特性に優れる材
料として知られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、従来提案されている記録層の材料は一般に角形
比(飽和磁化M、に対する残留磁化M。
の比)が理想値の1よりもかなり低く、その値はCo−
Cr合金膜でも0.1〜0.4程度である。したがって
、再生時のS/N比が低く、実用化には至っていないの
が現状である。Co−Cr合金膜と同程度の保磁力を有
し、角形比が1に近い材料は今までに報告されていない
そこで本発明は、高保磁力と高角形比を同時に達成する
垂直磁気記録媒体の提供を目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは上述の目的を達成するために鋭意検討を行
った結果、記録層を00層とPd層および/またはpt
層を交互に積層した人工格子膜で構成し、かつ上記人工
格子膜の微細構造を特定することにより優れた垂直磁気
特性が発現することを見出し、本発明を完成するに至っ
たものである。
本発明の垂直磁気記録媒体は、かかる知見にもとづいて
提案されるものであり、00層とPd1ilおよび/ま
たはpt層とが交互に積層された人工格子膜を記録層と
し、上記人工格子膜が互いに100Å以下の隙間を介し
て配列される直径1000Å以下の柱状粒子から構成さ
れる隙間柱状構造を有することを特徴とするものである
まず、本発明の垂直磁気記録媒体において記録層として
利用できる人工格子膜は、00層とPd層を交互に積層
したCo−Pd系人工格子膜、00層とPt層を交互に
積層したCo−Pt系人工格子膜、およびCo層、Pd
層、ptli(ただし、後二者はPd−Pt合金層とし
ても良い。)を任意の順序にて積層したCo−Pd−P
t系人工格子膜のいずれかである。
いずれの場合にも人工格子膜の全厚は、実用上必要十分
な垂直磁気特性を達成する観点から、1000〜500
0人とすることが望ましい。
さらに、Co−Pd系人工格子膜においては00層の層
厚を1〜9人、Pd層の層厚を2〜40入に、またCo
−Pt系人工格子膜においてはC。
層の層厚を2〜8人、Pt層のN厚は3〜40人に選ぶ
ことが望ましい。これらの層厚の範囲は、垂直磁気異方
性を最適化する観点から設定されたものであり、0ずれ
の場合にも上記範囲外では面内磁化成分が発生して垂直
方向の角形比等が劣化する。
なお、上述の各人工格子膜は各金属層の界面が互いに入
り乱れずに平坦に形成された、いわゆる超格子構造とさ
れていることが理想的であるが、界面にやや乱れを生じ
なからも全体としては一定の周期を保って組成が変動す
る組成変調構造を有するものであっても良い。たとえば
、上述の金属層の層厚の範囲をみると、各金属の金属結
合半径(Co−1,25人、Pd層1.38入、Pt 
−1,39人)から考えて下限が1原子分に満たない場
合があるが、これも組成変調構造を考慮した結果である
本発明者らは、CoJiiとPd層および/またはPt
層を交互に積層した人工格子膜のうち、良好な垂直磁気
特性を示すものについてその微細構造を透過型電子顕微
鏡により観察した結果、人工格子膜がいわゆる隙間柱状
構造を呈する場合には、連続的な構造を呈する場合と比
べて著しく良好な垂直磁気特性が現れることを見出した
。上記隙間柱状構造においては、直径1000Å以下の
柱状粒子が互いに100人の隙間を介して配列されてお
り、該柱状粒子はその長軸方向をほぼ人工格子膜の膜厚
方向にならって配向させている。
上記人工格子膜は、最も一般的にはスパッタリングによ
り作成されるが、本発明者らは成膜時のアルゴンガス圧
を8 mTorr以上の比較的高い領域に選んだ場合に
上述のような隙間柱状構造が容易に得られることも見出
した。
スパッタリングの際の蒸発源は、Co  P d系。
Co−Pt系のような二元系の人工格子膜を作成する場
合には、各金属成分について独立に用意する必要がある
。また、Co−Pd−Pt系のような三元系の人工格子
膜を作成する場合には、各成分金属について独立に蒸発
源を用意する方法の他、特にPdおよびptに関しては
これらを組み合わせて合金蒸発源とする方法や、どちら
か少ない方の成分のチップを多い方の成分のターゲット
の上に載置した複合蒸発源とする方法が考えられる。
上記人工格子膜の成膜方法としては、上述のスパッタリ
ング以外にも、真空蒸着や分子線エピタキシー(MBE
)等が適用できる。
さらに、上記人工格子膜を基板上に成膜するに先立ち、
必要に応じて金属下地膜を成膜し、人工格子膜の膜質を
制御しても良い。この場合の金属下地膜としては、面心
立方構造を有し、格子定数が人工格子膜を構成する金属
層に近似しているものが特に好ましい。
〔作用〕
本発明の垂直磁気記録媒体は、記録層がCo層とPd層
および/またはPd層を交互に積層した人工格子膜から
なり、しかもその微細構造が互いに100A以下の隙間
を介して配列される直径1000Å以下の柱状粒子から
構成される隙間柱状構造とされている。
上記柱状粒子は、その長袖方向を人工格子膜の膜厚方向
とほぼ一致させており、形状磁気異方性に類似した効果
により垂直磁気異方性を強く発現させるのに有利な配向
をとっている。
さらに、上記柱状粒子は直径が1000Å以下であり、
隣接する柱状粒子と相互に100Å以下の間隙を介して
配列されている。このような粒子の形状および配列状態
は、大幅な保磁力の増大をもたらす。つまり、本発明で
は微細な柱状粒子が個々に隙間を保ちなから配列されて
いることから、単磁区が微小化されると共に減磁が抑制
されるからである。
〔実施例〕
以下、本発明の好適な実施例について実験結果にもとづ
いて説明する。
実施例1 本実施例は、垂直磁気記録媒体の記録層としてガラス基
板上にCo−Pd系人工格子膜を同時二元マグネトロン
・スパッタリングにより成膜した例である。
スパッタリング用ターゲットとしては100mm径のC
OディスクとPdディスクを用い、投入パワーは0.2
〜IA、300Vとした。
まず、スパッタリング雰囲気中のアルゴンガス圧による
保磁力および角形比の変化を検討した。
すなわち、アルゴンガス圧を2.5 mTorr+  
4mTorr。
8a+Torr+ 155Torr+ 20 mTor
r+ 25 mTorrと変化させ、各アルゴンガス圧
下で水冷ガラス基板上に層厚4人のCo層と層厚9入の
Pd層を交互に積層して全厚2000ÅのCo−Pd系
人工格子膜を成膜した。
これらの人工格子膜について、試料振動型磁力計により
得られた磁化曲線から保磁力と角形比を求めた結果を第
1図に示す0図中、縦軸は保磁力(koe)および角形
比、横軸はスパッタリング雰囲気中のアルゴンガス圧(
mTorr)を表し、黒丸(・〉のプロットは保磁力、
白丸(0)のプロットは角形比をそれぞれ表す。この図
より、アルゴンガス圧が増大するにしたがって保磁力と
角形比が共に増大する傾向がみられ、特にその変化はア
ルゴンガス圧8 n+Torr付近から顕著に現れるこ
とがわかる。
上述のCo−Pd系人工格子膜のうち、典型的な例にお
ける磁化曲線(M−Hループ)を第2図(A)および第
2図(B)に示す。第2図(A)はアルゴンガス圧を4
mT、orrとした場合、第2図(B)は同じ< 20
 mTorrとした場合にそれぞれ対応している。図中
、ループ■は垂直方向の磁化曲線、ループ■は面内方向
の磁化曲線を表す。これらの図より、アルゴンガス圧を
20 ’mTorrとした場合には、4 mTorrの
場合に比べて垂直方向の保磁力および角形比が格段に改
善されていることが明らかである。特に保磁力は数ko
eのレベルに達し、また角形比は理想値の1を達成した
そこで、次にアルゴンガス圧を20 mTorr 、人
工格子膜の全厚を2000人に固定し、種々の00層と
Pd層の層厚の組合せによる垂直磁気特性の変化につい
て検討した。
まず、第3図にはCo層とPdJiの層厚を変化させた
場合の保磁力の測定結果を示す。図中、縦軸はCo層の
層厚(人)、横軸はPd層の層厚(人)をそれぞれ表し
、各プロットの傍らに記入された数字は保磁力(koe
)を表す。
第4図には、同じCo層とPd層のN厚の組合せを有す
るCo−Pd系人工格子膜について角形比を測定した結
果を示す。図中、各プロットの傍らに記入された数字が
角形比である。
さらに第5図には、同しCo層とPd層のN厚の組合せ
を有するCo−Pd系人工格子膜について飽和磁化を測
定した結果を示す。図中、各プロットの傍らに記入され
た数字は飽和磁化(e+gu/c++’)を表す。
これら第3図ないし第5図から、各層の層厚が最適化さ
れた場合には、角形比が1、保磁力が2kOe以上、飽
和磁化が300〜500 emu/c−程度のCo−P
d系人工格子膜が得られることがわかる。
本発明者らは、これらの他にも種々の膜厚の組合せを有
する全厚2000人の人工格子膜を種々のアルゴンガス
圧下で成膜した。以上の中から、代表的な4m類の人工
格子膜1〜4のデータを選んで第1表に示す。なお、比
較のために、従来の代表的な記録材料であるCo−Cr
合金膜のデータも合わせて記載した。
(以下余白) 第1表より、Co−Pd系人工格子膜は、高いアルゴン
ガス圧下で成膜された場合に従来のC0−Cr合金膜と
比べて格段に優れた保磁力および角形比を示し、しかも
同等の飽和磁化を有することが明らかである。特に、人
工格子膜3,4では角形比1が達成された。
続いて本発明者らは、Co−Pd系人工格子膜の優れた
垂直磁気特性と微細構造との相関を探るため、人工格子
膜の断面を透過型電子顕微鏡により観察した。観察試料
は、前述の第2図(A)および第2図(B)に示したも
のと同じく、層厚4人のCo層と層厚9人のPd層を交
互に積層して全厚を2000人とした人工格子膜である
。写真を第6図(A)および第6図(B)に示す。第6
図(A)は成膜時のアルゴンガス圧が4 mTorrの
場合、第6図(B)は同じ< 20 +5Torrの場
合にそれぞれ対応している。これらの写真を比較すると
、成膜時のアルゴンガス圧が4 +5Torrと低い場
合には人工格子膜は連続的な構造となるが、アルゴンガ
ス圧が20 mTorrと高い場合には、いわゆる隙間
柱状構造が発達している様子が明らかである。
上記隙間柱状構造における個々の柱状粒子の直径は10
00Å以下、隣接する柱状粒子間の隙間は100Å以下
であり、それぞれ単磁区の微小化と減磁の抑制に寄与し
ているものと考えられる。
第7図には、上記第6図(B)に示す人工格子膜の磁化
曲線を示す。この図は、十分大きな外部磁界を印加して
飽和磁化が達成された場合に溝かれるメジャーループの
他に、初磁化曲線、および小さい外部磁界を印加した場
合に描かれるマイナーループも示している。磁化の強さ
を表す縦軸は任意スケールである。メジャーループとマ
イナーループとを比較すると、はぼ一定して高い保磁力
が達成されていることがわかる。これは、記録層の微細
構造に隙間が存在することにより磁区が固定される、い
わゆる磁壁のピン止め効果が働いているためであると考
えられる。
実施例2 本実施例は、垂直磁気記録媒体の記録層としてガラス基
板上にCo−Pt系人工格子膜を同時二元マグネトロン
・スパッタリングにより底膜した例である。
スパッタリング用ターゲットとしては100mm径のC
OディスクとPtディスクを用い、投入パワーは0.2
〜LA、300Vとした。
まず、スパッタリング雰囲気中のアルゴンガス圧による
保磁力および角形比の変化を検討した。
すなわち、アルゴンガス圧を2.5 mTorr、  
5+mTorr。
10mTorr+ 15 mTorr、 2On+To
rr+ 25 mTorrと変化させ、各アルゴンガス
圧下で水冷ガラス基板上に層厚5人OCO層と層厚11
人のPd層を交互に積層して全厚2000人のCo−P
t系人工格子膜を底膜した。
これらのCo−Pt系人工格子膜について、試料振動型
磁力計により得られた磁化曲線から保磁力と角形比を求
めた結果を第8図に示す。図中、縦軸は保磁力(koe
)および角形比、横軸はスパッタリング雰囲気中のアル
ゴンガス圧(mTorr)を表し、黒丸(・)のプロッ
トは保磁力、白丸(0)のプロットは角形比をそれぞれ
表す。この図より、前述の第1図に示したCo−Pd系
人工格子膜の場合と同様、アルゴンガス圧が増大するに
したがって保磁力と角形比が共に増大する傾向がみられ
、特にその変化はアルゴンガス圧5〜10mTorr付
近から顕著に現れることがわかる。
さらに、これらの他にもCo層とpt層の層厚を変え、
種々のアルゴンガス圧下で全厚2000人の人工格子膜
を放膜した。これらの中から、代表的な4種類の人工格
子膜5〜8のデータを選んで第2表に示す。なお、比較
のために、従来の代表的な記録材料であるGo−Cr合
金膜のデータも合わせて記載した。
(以下余白) 第2表より、Co−Pt系人工格子膜は、高いアルゴン
ガス圧下で成膜された場合に従来のG。
−Cr合金膜と比べて優れた保磁力および角形比を示す
ことがわかる。特に人工格子膜8においては、角形比1
が達成された。
なお、上記Co−Pt系人工格子膜8を透過型電子顕微
鏡により観察したところ、やはりCo−Pd系人工格子
膜の場合と同様、隙間柱状構造が確認された。
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明にかかる垂直
磁気記録媒体は、比較的高いアルゴンガス圧下で成膜さ
れ、隙間柱状構造を有するCo−Pd系人工格子膜、あ
るいはCo−Pt系人工格子膜の優れた垂直磁気異方性
を利用したものである。特に保磁力と角形比に優れるこ
とから、周波数特性、再生出力、感度、S/N比等に優
れる高密度記録再生が可能となる。また、従来の代表的
な垂直磁気記録媒体の記録材料であるCo−Cr合金膜
と比較して硬度も適正であることから、垂直磁気記録媒
体自身の耐久性の向上や、磁気ヘッドg耗の低減も可能
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はCo−Pd系人工格子膜の保磁力と角形比が成
膜時のアルゴンガス圧に依存する様子を示す特性図であ
る。第2図(A)および第2図(B)はCo−Pd系人
工格子膜の垂直磁気特性のアルゴンガス圧依存性を示す
磁化曲謔斃あり、第2図(A)はアルゴンガス圧が4 
mTorrの場合、第2図(B)は20 mTorrの
場合にそれぞれ対応する。第3図はGo−Pd系人工格
子膜においてCo層とPd層の層厚を種々に組み合わせ
た場合の保磁力の変化を示す特性図であり、第4図は同
じく角形比の変化を示す特性図であり、第5図は同じく
飽和磁化の変化を示す特性図である。第6図(A)およ
び第6図(B)はCo−Pd系人工格子膜の微細構造の
アルゴンガス圧依存性を示す透過型電子顕微鏡写真であ
り、第6図(A)はアルゴンガス圧が4 mTorrの
場合、第6図(B)は20 mTorrの場合にそれぞ
れ対応する。第7図は上子膜の保磁力と角形比が成膜時
のアルゴンガス圧に依存する様子を示す特性図である。 特許出廟人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 Co層とPd層および/またはPt層とが交互に積層さ
    れた人工格子膜を記録層とし、 上記人工格子膜が互いに100Å以下の隙間を介して配
    列される直径1000Å以下の柱状粒子から構成される
    隙間柱状構造を有することを特徴とする垂直磁気記録媒
    体。
JP21502689A 1989-08-23 1989-08-23 垂直磁気記録媒体 Pending JPH0380421A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21502689A JPH0380421A (ja) 1989-08-23 1989-08-23 垂直磁気記録媒体

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JP21502689A JPH0380421A (ja) 1989-08-23 1989-08-23 垂直磁気記録媒体

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JPH0380421A true JPH0380421A (ja) 1991-04-05

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ID=16665512

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JP21502689A Pending JPH0380421A (ja) 1989-08-23 1989-08-23 垂直磁気記録媒体

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JP (1) JPH0380421A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5942342A (en) * 1993-03-10 1999-08-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Perpendicular recording medium and magnetic recording apparatus
JP2015198203A (ja) * 2014-04-02 2015-11-09 株式会社豊田中央研究所 高保磁力化永久磁石

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