JPH0379779B2 - - Google Patents

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JPH0379779B2
JPH0379779B2 JP57149806A JP14980682A JPH0379779B2 JP H0379779 B2 JPH0379779 B2 JP H0379779B2 JP 57149806 A JP57149806 A JP 57149806A JP 14980682 A JP14980682 A JP 14980682A JP H0379779 B2 JPH0379779 B2 JP H0379779B2
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JP
Japan
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thin film
film
magnetic thin
amorphous magnetic
magneto
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57149806A
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English (en)
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JPS5938779A (ja
Inventor
Junji Hirokane
Hiroyuki Katayama
Akira Takahashi
Kenji Oota
Hideyoshi Yamaoka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPS5938779A publication Critical patent/JPS5938779A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明はレーザ光を用いて情報の記録・再生・
消去を行なうことのできる磁気光学記憶素子に関
する。
(従来技術) 近年、情報の記録・再生・消去が可能な光記憶
素子の開発が磁気光学記憶素子を中心に活発に推
進されている。又、この磁気光学記憶素子の構造
の中で高い評価を受けているものとして反射膜構
造の素子がある。第1図に反射膜構造の素子の一
例の側面図を示す。同図で1はガラス、アクリル
樹脂等よりなる透明基板、2はSiO、SiO2
Si3N4等の透明薄膜、3はGdTbFe、TbDyFe、
GdCo、TbFe、GdTbDyFe等の希土類・遷移金
属合金からなる非晶質磁性体薄膜、4はSiO、
SiO2、Si3N4等の透明薄膜、5はCu、Al、Au、
Ag等の反射膜である。以上の反射膜構造の素子
は非晶質磁性体薄膜3の厚みを100〓程度と非常
に薄くしている為透明基板1側から入射した入射
レーザ光が非晶質磁性体薄膜3を透過し該透過し
た光が反射膜5にて反射される。従つて非晶質磁
性体薄膜3表面にて入射レーザが反射された光の
カー効果と上記した非晶質磁性体薄膜3を透過し
該透過した光が反射膜属5にて反射され再び非晶
質磁性体薄膜3を透過する光のフアラデー効果と
が相乗作用を起こしカー回転角の増大を得るもの
である。又、透明薄膜2の内部で光が干渉しそれ
によつてもカー回転角の増大の作用を得るもので
ある。
(発明が解決しようとする問題点) 上述の反射膜構造の素子は磁気光学効果の点か
ら見れば極めて優れた構造であるが、その一方で
非晶質磁性体薄膜3の酸化による特性劣化が大き
い事が難点であることが判明している。つまり、
反射膜5及び透明薄膜4を通過して外気が侵入し
非晶質磁性体薄膜3を酸化せしめる、あるいは反
射膜5、透明薄膜4内部に含まれていた酸素が非
晶質磁性体薄膜3を酸化せしめる現象が発生する
のである。非晶質磁性体薄膜3が酸化すれば保磁
力が低下し磁気光学効果による再生が困難とな
り、極端な場合は非晶質磁性体薄膜3の垂直磁気
異方性が全く無くなり記録・再生共に不可能とな
るという著しく不都合な問題が発生する。
(問題点を解決する為の手段) 本発明は上記問題点を解決するために、透明基
板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する希
土類・遷移金属合金からなる非晶質磁性体薄膜を
形成してなる磁気光学記憶素子において、前記非
晶質磁性体薄膜に近接する反射膜を備え、該反射
膜が酸化容易性金属であるTi、Mg、希土類金属
のいずれか一つからなることを特徴とするもので
あつて、Ti、Mg、希土類金属等の酸化容易性金
属物質からなる反射膜によつて外部から侵入する
酸素を消費せしめ、非晶質磁性体薄膜の酸化を防
止して信頼性の高い磁気光学記憶素子を提供する
ものである。
(実施例) 第2図に示すものは本発明に係る磁気光学記憶
素子の一実施例の側面図である。同図で1はガラ
ス、アクリル樹脂等よりなる透明基板、2は
SiO、SiO2、Si3N4等の透明薄膜、3はGdTbFe、
TbDyFe、GdCo、TbFe、GdTbDyFe等の希土
類・遷移金属合金からなる非晶質磁性体薄膜、4
はSiO、SiO2、Si3N4等の透明薄膜、6はTi、
Mg、希土類金属(Gd、Tb、Dy、Ho、Y等)
のいずれかの酸化容易性金属からなる膜である。
該膜6は外部から侵入した酸素及び素子内部に存
在する酸素を吸収する作用と透明基板1側より入
射したレーザ光を反射する反射膜としての作用を
合わせもつ。同図の構成において透明薄膜2は無
くとも構わない。
第3図に示すものは本発明に係る磁気光学記憶
素子の他の実施例の側面図である。同図で1はガ
ラス、アクリル樹脂等よりなる透明基板、2は
SiO、SiO2、Si3N4等の透明薄膜、3はGdTbFe、
TbDyFe、GdCo、TbFe、GdTbDyFe等の希土
類・遷移金属合金からなる非晶質磁性体薄膜、4
はSiO、SiO2、Si3N4等の透明薄膜、5はCu、
Al、Au、Ag等の反射膜、7はTi、Mg、希土類
金属(Gd、Tb、Dy、Ho、Y等)のいずれかの
酸化容易性金属からなる膜である。該膜7は外部
から侵入した酸素及び素子内部に存在する酸素を
吸収する作用をなす。同図の構成において透明薄
膜2は無くとも構わない。
なお、本発明は非晶質磁性体薄膜の膜厚が十分
厚い(1000Å程度)厚膜形の構造の素子において
も適用が可能なものである。
(効果) 以上のように、本発明によれば非晶質磁性体薄
膜に近接する反射膜がTi、Mg、希土類金属等の
酸化容易性金属のいずれか一つからなるので、こ
の酸化容易性金属からなる反射膜が酸素を消費す
ることによつて非晶質磁性体薄膜の酸化を未然に
防止することができる。これによつて、非晶質磁
性体薄膜の磁気的特性を安定化することができる
ので素子の信頼性を著しく向上することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の磁気光学記憶素子の側面図、第
2図は本発明に係る磁気光学記憶素子の一実施例
の側面図、第3図は本発明に係る磁気光学記憶素
子の他の実施例の側面図を示す。 図中、1:透明基板、2:透明薄膜、3:非晶
質磁性体薄膜、4:透明薄膜、5:反射膜、6,
7:酸化容易性金属の膜。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 透明基板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸
    を有する希土類・遷移金属合金からなる非晶質磁
    性体薄膜を形成してなる磁気光学記憶素子におい
    て、 前記非晶質磁性体薄膜に近接する反射膜を備
    え、該反射膜が酸化容易性金属であるTi、Mg、
    希土類金属のいずれか一つからなることを特徴と
    する磁気光学記憶素子。
JP14980682A 1982-08-27 1982-08-27 磁気光学記憶素子 Granted JPS5938779A (ja)

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JPS5938779A JPS5938779A (ja) 1984-03-02
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DE3382791T2 (de) * 1982-12-15 1995-12-07 Sharp Kk Magneto-optischer Speicher.
JPS6252743A (ja) * 1985-09-02 1987-03-07 Canon Inc 光学的記録媒体
JPS62109440A (ja) * 1985-11-07 1987-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd マルチプレツクス復調装置
JPS62222445A (ja) * 1986-03-17 1987-09-30 Fujitsu Ltd 光ディスク

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57120253A (en) * 1981-01-14 1982-07-27 Sharp Corp Magnetooptical storage elemen

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