JPH0378577A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPH0378577A JPH0378577A JP21366889A JP21366889A JPH0378577A JP H0378577 A JPH0378577 A JP H0378577A JP 21366889 A JP21366889 A JP 21366889A JP 21366889 A JP21366889 A JP 21366889A JP H0378577 A JPH0378577 A JP H0378577A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- vacuum
- valve
- degree
- diffusion pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は1O−2〜100パスカル(Pa)程度の真
空度が必要とされるSEM等の真空装置に関するもので
ある。
空度が必要とされるSEM等の真空装置に関するもので
ある。
[従来の技術]
第2図は従来の真空装置を示すブロック図で、図におい
て、(1)はSEM等の試料室があるチャンバA、(2
)はバルブA(3)を介して、チャンバA (1)に連
結されてロータリーポンプ、(5)はバルブC(7)を
介してチャンバA (1)に連結された拡散ポンプであ
る。
て、(1)はSEM等の試料室があるチャンバA、(2
)はバルブA(3)を介して、チャンバA (1)に連
結されてロータリーポンプ、(5)はバルブC(7)を
介してチャンバA (1)に連結された拡散ポンプであ
る。
次に動作について説明する。試料室があるチャンバA(
りは、まずバルブA(3)を開き、ロータリーポンプ(
2)を動作させることにより〜10−’Pa程度の真空
度になされた後、バルブA(3)を閉じ5次にバルブC
(7)を開き、拡散ポンプ(5)を10−2〜1O−3
程度のSEM等の観察に必要とされる真空度になるまで
動作させる。
りは、まずバルブA(3)を開き、ロータリーポンプ(
2)を動作させることにより〜10−’Pa程度の真空
度になされた後、バルブA(3)を閉じ5次にバルブC
(7)を開き、拡散ポンプ(5)を10−2〜1O−3
程度のSEM等の観察に必要とされる真空度になるまで
動作させる。
[発明が解決しようとする課題]
従来の真空装置は以上のように構成されていたので、S
ME等の観察に必要な10−2〜10−’Pa程度の真
空度を達成するために、ロータリーポンプと拡散ポンプ
の2つのポンプを順次用いなければならないため、かな
りの時間が必要となるという問題点があった。
ME等の観察に必要な10−2〜10−’Pa程度の真
空度を達成するために、ロータリーポンプと拡散ポンプ
の2つのポンプを順次用いなければならないため、かな
りの時間が必要となるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、短時間でSEM等の観察に必要な1O−2〜
1O−3Pa程度の真空度を達成できる真空装置を得る
ことを目的とする。
たもので、短時間でSEM等の観察に必要な1O−2〜
1O−3Pa程度の真空度を達成できる真空装置を得る
ことを目的とする。
[問題を解決するための手段]
この発明に係る真空装置は、試料室のあるチャンバAに
比べて容積が数段大きいチャンバBをチャンバAとバル
ブを介して設け、そのチャンバBは拡散ポンプ等で常に
10−’Pa程度の高真空度に保ち、チャンバAを真空
にする時にはバルブの開閉を行うようにしたものである
。
比べて容積が数段大きいチャンバBをチャンバAとバル
ブを介して設け、そのチャンバBは拡散ポンプ等で常に
10−’Pa程度の高真空度に保ち、チャンバAを真空
にする時にはバルブの開閉を行うようにしたものである
。
[作用]
この発明における真空装置は、チャンバAより容積が大
きく、常に1O−5PaO高真空度に保たれているチャ
ンバBがチャンバAとのバルブを開くことにより、チャ
ンバAを短時間にてlロー2〜1O−3Pa程度の真空
度にする。
きく、常に1O−5PaO高真空度に保たれているチャ
ンバBがチャンバAとのバルブを開くことにより、チャ
ンバAを短時間にてlロー2〜1O−3Pa程度の真空
度にする。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、(1)は試料室のあるチャンバA、(2)
はバルブA(3)を介してチャンバA (1)に連結さ
れたロータリーポンプ、(4)はバルブB(6)を介し
てチャンバA (1)に連結されたチャンバA(1)
より容積の数段大きいチャンバB、(5)はチャンバB
(4)に連結された拡散ポンプである。
図において、(1)は試料室のあるチャンバA、(2)
はバルブA(3)を介してチャンバA (1)に連結さ
れたロータリーポンプ、(4)はバルブB(6)を介し
てチャンバA (1)に連結されたチャンバA(1)
より容積の数段大きいチャンバB、(5)はチャンバB
(4)に連結された拡散ポンプである。
次に動作について説明する。試料室があるチャンバA(
1)はまず、バルブA(3)を開き、ロータリーポンプ
(3)を動作させることにより〜10−’Pa程度の真
空度になされた後、バルブA(3)を閉じ、次に、拡散
ポンプ(5)によりlo−5程度の高真空度に保たれて
いるチャンバB(4)とチャンバA (1)の間のバル
ブB(6)を開くことにより、1O−2〜1O−3Pa
程度のSEM等の観察に必要な真空度が瞬時に達成され
る。
1)はまず、バルブA(3)を開き、ロータリーポンプ
(3)を動作させることにより〜10−’Pa程度の真
空度になされた後、バルブA(3)を閉じ、次に、拡散
ポンプ(5)によりlo−5程度の高真空度に保たれて
いるチャンバB(4)とチャンバA (1)の間のバル
ブB(6)を開くことにより、1O−2〜1O−3Pa
程度のSEM等の観察に必要な真空度が瞬時に達成され
る。
[発明の効果]
以上のようにこの発明によれば、試料室のあるチャンバ
Aに比べて容積の数段大きいチャンバBを設け、このチ
ャンバBは常に拡散ポンプ等で高真空度に保ち、必要に
応じてチャンバAとチャンバBを連結させるように構成
したので、チャンバAをSEM等の観察に必要とされる
10−2〜1O−3r’a程度の真空度まで瞬時に達成
できるという効果がある。
Aに比べて容積の数段大きいチャンバBを設け、このチ
ャンバBは常に拡散ポンプ等で高真空度に保ち、必要に
応じてチャンバAとチャンバBを連結させるように構成
したので、チャンバAをSEM等の観察に必要とされる
10−2〜1O−3r’a程度の真空度まで瞬時に達成
できるという効果がある。
第1図はこの発明の一実施例による真空装置を示すブロ
ック図、第2図は従来の真空装置を示すブロック図であ
る。 図において、(1)は試料室のあるチャンバA、(2)
はロータリーポンプ、(3)はバルブA、(4)はチャ
ンバB、(5)は拡散ポンプ、(6)はバルバBを示す
。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。 l:斗fiパA 2:ロータリーポンプ l:バノLブA 4、+YシバB f:〃ム嘴友ポジ7゜ 6゛バルフ′B 第2図
ック図、第2図は従来の真空装置を示すブロック図であ
る。 図において、(1)は試料室のあるチャンバA、(2)
はロータリーポンプ、(3)はバルブA、(4)はチャ
ンバB、(5)は拡散ポンプ、(6)はバルバBを示す
。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。 l:斗fiパA 2:ロータリーポンプ l:バノLブA 4、+YシバB f:〃ム嘴友ポジ7゜ 6゛バルフ′B 第2図
Claims (1)
- 10^−^2〜10^−^3パスカル(Pa)の真空
度が必要とされるSEM等の観察を行う試料室のあるチ
ャンバAに比べて、容積が数段に大きいチャンバBをチ
ャンバAとバルブを介して設け、チャンバBは常に拡散
ポンプ(D.P.)等にて、〜10^−^5Pa程度の
高真空度に保ち、チャンバAを真空にする必要がある時
に、バルブを開いて、チャンバAと高真空度のチャンバ
Bを連結できるようにしたことを特徴とする真空装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21366889A JPH0378577A (ja) | 1989-08-19 | 1989-08-19 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21366889A JPH0378577A (ja) | 1989-08-19 | 1989-08-19 | 真空装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0378577A true JPH0378577A (ja) | 1991-04-03 |
Family
ID=16642985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21366889A Pending JPH0378577A (ja) | 1989-08-19 | 1989-08-19 | 真空装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0378577A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4766492B2 (ja) * | 2003-07-28 | 2011-09-07 | エムジー インターナショナル | 界面の近隣に位置した区域におけるオブジェクトを検出するための方法およびシステム |
-
1989
- 1989-08-19 JP JP21366889A patent/JPH0378577A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4766492B2 (ja) * | 2003-07-28 | 2011-09-07 | エムジー インターナショナル | 界面の近隣に位置した区域におけるオブジェクトを検出するための方法およびシステム |
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