JPH0377348A - 有機物除去装置 - Google Patents
有機物除去装置Info
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- JPH0377348A JPH0377348A JP1212910A JP21291089A JPH0377348A JP H0377348 A JPH0377348 A JP H0377348A JP 1212910 A JP1212910 A JP 1212910A JP 21291089 A JP21291089 A JP 21291089A JP H0377348 A JPH0377348 A JP H0377348A
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- Japan
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- vacuum suction
- during
- wafer
- vacuum
- route
- Prior art date
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- Pending
Links
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- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレジストなどの有機物を除去する装置において
、処理対象基体の真空吸着経路に有機物が付着すること
を防止する手段に関する。
、処理対象基体の真空吸着経路に有機物が付着すること
を防止する手段に関する。
従来は、例えば特開昭６１−２７６３５号公報に記載さ
れている如く、ウェーハ（基体）を真空吸着せず、テー
ブル上に単に載置している。
れている如く、ウェーハ（基体）を真空吸着せず、テー
ブル上に単に載置している。
上記従来技術では真空吸着しないため、ウェーハ（基体
）の温度均一性の劣り最近はウェーハを真空吸着する方
向にきている。この場合真空吸着経路にレジストの中間
分解物が付着するということが超こり、ついには真空吸
着経路にレジストの中間分解物が詰まり、真空吸着でき
なくなるというトラブルが発生する。
）の温度均一性の劣り最近はウェーハを真空吸着する方
向にきている。この場合真空吸着経路にレジストの中間
分解物が付着するということが超こり、ついには真空吸
着経路にレジストの中間分解物が詰まり、真空吸着でき
なくなるというトラブルが発生する。
本発明の目的はこの欠点を解決した有機物除去装置を提
供することにある。
供することにある。
上記目的を達成するため有機物除去処理中だけでなく、
ウェーハ搬送中や待機中などの非処理中にも真空吸着動
作を行うようにした。
ウェーハ搬送中や待機中などの非処理中にも真空吸着動
作を行うようにした。
ウェーハ搬送中や待機中などの非処理中にも真空吸着動
作を行うことにより常に真空吸着経路での浄化効果を発
生させる。
作を行うことにより常に真空吸着経路での浄化効果を発
生させる。
以ト本発明の一実施例を第１図により説明する。
ウェーハエは処理室１０内のヒータ兼用のステージ２の
上に置かれ、真空吸着経路３によりステージ２上に真空
吸着される。ノズル４からオゾンヒ酸素の混合ガスを導
入されさらにランプ室９内の紫外線ランプ５から石英板
８を介して紫外線が照射され、ウェーハ１上のレジスｈ
が除去される。
上に置かれ、真空吸着経路３によりステージ２上に真空
吸着される。ノズル４からオゾンヒ酸素の混合ガスを導
入されさらにランプ室９内の紫外線ランプ５から石英板
８を介して紫外線が照射され、ウェーハ１上のレジスｈ
が除去される。
この後ウェーハ１は図示していない搬送機構にょリアン
ロードされ、新たに未処理のウェーハ１がロードされて
くる。処理条件の一例を以−ドに示す。
ロードされ、新たに未処理のウェーハ１がロードされて
くる。処理条件の一例を以−ドに示す。
ウェーハ温度 ：２５０℃
オゾン、＃素混合ガス流量： ５ Ｑ ／ｍｊ、ｎオゾ
ン＃＊ ：５ｖｏＱ％紫外線照度
：１３０ｒｎｗ／ｃｄこのアンロード、ロード
間の非処理時間中も真空吸着経路３により真空吸着動作
を行い、真空吸着経路３に処理室１０内の空気を流し、
真空吸着経路３を浄化する。またアンロード、ロード間
以外の非処理時間中、即ち所謂待機時間中も真空吸着動
作を行い真空吸着経路３に処理室１０内の空気を流し、
真空吸着経路３を浄化しても良い。
ン＃＊ ：５ｖｏＱ％紫外線照度
：１３０ｒｎｗ／ｃｄこのアンロード、ロード
間の非処理時間中も真空吸着経路３により真空吸着動作
を行い、真空吸着経路３に処理室１０内の空気を流し、
真空吸着経路３を浄化する。またアンロード、ロード間
以外の非処理時間中、即ち所謂待機時間中も真空吸着動
作を行い真空吸着経路３に処理室１０内の空気を流し、
真空吸着経路３を浄化しても良い。
さらに非処理時間における真空吸着動作中にオゾン、酸
素混合ガスのような反応ガスを処理室１０に流すこヒに
より真空吸着経路３に反応ガスを洸せば、有機物を酸化
分解できるためより効果的に真空吸着経路３の浄化がで
きる。
素混合ガスのような反応ガスを処理室１０に流すこヒに
より真空吸着経路３に反応ガスを洸せば、有機物を酸化
分解できるためより効果的に真空吸着経路３の浄化がで
きる。
また真空吸着経路３の少なくとも一部（この場合はシャ
フト部分７）をヒータ６により加熱すれば、有機物の酸
化分触効果を促進でき、さらにその温度を２００℃以上
にすればより効果的である。
フト部分７）をヒータ６により加熱すれば、有機物の酸
化分触効果を促進でき、さらにその温度を２００℃以上
にすればより効果的である。
加熱温度のド限はオゾンの熱分解効果により決まるが、
一般には２００℃以上でオゾンの熱分解が顕著になる。
一般には２００℃以上でオゾンの熱分解が顕著になる。
また加熱温度の上限はシャフＦ−構成部品７の耐熱温度
により決まる。
により決まる。
非処理時間中も真空吸着経路３により真空吸着助動を行
うことにより、さらに好適には開時に処理室１０内に反
応ガスを流すことにより真空吸着経路３を浄化し、レジ
ストの付着を防止することができる。
うことにより、さらに好適には開時に処理室１０内に反
応ガスを流すことにより真空吸着経路３を浄化し、レジ
ストの付着を防止することができる。
また真空吸着経路３の少なくとも一部（この場合はシャ
フト部分’７）ｔ（加熱すること、好適には２００℃以
上に加熱することにより、レジストの酸化分解を促進し
、より効果的に真空吸着経路３の浄化ができる。
フト部分’７）ｔ（加熱すること、好適には２００℃以
上に加熱することにより、レジストの酸化分解を促進し
、より効果的に真空吸着経路３の浄化ができる。
第１図は本発明の一実施例を示す概念図。
１・・・ウェーハ、２・・・ステージ、３・・・真空吸
着経路、４・・・ノズル、５・・・紫外線ランプ、６・
・・ヒータ、７・・シャフト、８・・・石英板、９・・
・ランプ室、１０・・・茅 ｌ 目 ０２＋０゜ ｌ ウエーハ
着経路、４・・・ノズル、５・・・紫外線ランプ、６・
・・ヒータ、７・・シャフト、８・・・石英板、９・・
・ランプ室、１０・・・茅 ｌ 目 ０２＋０゜ ｌ ウエーハ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、オゾンガスを反応ガスとし、処理中に処理対象基体
を真空吸着する有機物除去装置において、非処理中も真
空吸着動作をすることを特徴とした有機物除去装置。 ２、上記非処理中に行う真空吸着動作中に反応ガスを流
すことを特徴とした第１項の有機物除去装置。 ３、真空吸着経路の少なくとも一部を加熱することを特
徴とした第２項の有機物除去装置。 ４、真空吸着経路の少なくとも一部を２００℃以上に加
熱することを特徴とした第２項の有機物除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1212910A JPH0377348A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 有機物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1212910A JPH0377348A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 有機物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0377348A true JPH0377348A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=16630307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1212910A Pending JPH0377348A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 有機物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0377348A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012129471A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Tatsumo Kk | 基板処理装置 |
-
1989
- 1989-08-21 JP JP1212910A patent/JPH0377348A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012129471A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Tatsumo Kk | 基板処理装置 |
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