JPH0376139U - - Google Patents
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- JPH0376139U JPH0376139U JP13813789U JP13813789U JPH0376139U JP H0376139 U JPH0376139 U JP H0376139U JP 13813789 U JP13813789 U JP 13813789U JP 13813789 U JP13813789 U JP 13813789U JP H0376139 U JPH0376139 U JP H0376139U
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- JP
- Japan
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- semiconductor
- insulating layer
- semiconductor substrate
- group
- pressure
- Prior art date
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- Pending
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
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- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
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Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例の半導体感圧ダイア
フラムの断面図、第2図は第1図の半導体感圧ダ
イアフラムの製造工程中の断面図、第3図は従来
の一例の半導体感圧ダイアフラムの断面図、第4
図は第3図の半導体感圧ダイアフラムの製造工程
中の断面図、第5図は半導体感圧ダイアフラムを
使用した一例の半導体変換装置の断面図である。 11……半導体基板(P型)、12……絶縁層
、14……エピタキシヤル層(N型)、15……
感圧部、18……ダイアフラム。
フラムの断面図、第2図は第1図の半導体感圧ダ
イアフラムの製造工程中の断面図、第3図は従来
の一例の半導体感圧ダイアフラムの断面図、第4
図は第3図の半導体感圧ダイアフラムの製造工程
中の断面図、第5図は半導体感圧ダイアフラムを
使用した一例の半導体変換装置の断面図である。 11……半導体基板(P型)、12……絶縁層
、14……エピタキシヤル層(N型)、15……
感圧部、18……ダイアフラム。
Claims (1)
- 半導体基板と、この一面上に酸素および窒素か
らなる群の一つをイオン注入し、高温熱処理によ
り形成された、前記群の一つと半導体との化合物
からなる絶縁層と、この上に成長させたエピタキ
シヤル層と、この層の一部に不純物拡散により形
成された感圧部とからなり、この感圧部の下部が
前記半導体基板の他面からエツチングで前記絶縁
層まで除かれていることを特徴とする半導体感圧
ダイアフラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13813789U JPH0376139U (ja) | 1989-11-29 | 1989-11-29 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13813789U JPH0376139U (ja) | 1989-11-29 | 1989-11-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0376139U true JPH0376139U (ja) | 1991-07-30 |
Family
ID=31685259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13813789U Pending JPH0376139U (ja) | 1989-11-29 | 1989-11-29 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0376139U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6211772B1 (en) | 1995-01-30 | 2001-04-03 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor composite sensor |
-
1989
- 1989-11-29 JP JP13813789U patent/JPH0376139U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6211772B1 (en) | 1995-01-30 | 2001-04-03 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor composite sensor |
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