JPH0376139U - - Google Patents

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JPH0376139U
JPH0376139U JP13813789U JP13813789U JPH0376139U JP H0376139 U JPH0376139 U JP H0376139U JP 13813789 U JP13813789 U JP 13813789U JP 13813789 U JP13813789 U JP 13813789U JP H0376139 U JPH0376139 U JP H0376139U
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semiconductor substrate
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pressure
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【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例の半導体感圧ダイア
フラムの断面図、第2図は第1図の半導体感圧ダ
イアフラムの製造工程中の断面図、第3図は従来
の一例の半導体感圧ダイアフラムの断面図、第4
図は第3図の半導体感圧ダイアフラムの製造工程
中の断面図、第5図は半導体感圧ダイアフラムを
使用した一例の半導体変換装置の断面図である。 11……半導体基板(P型)、12……絶縁層
、14……エピタキシヤル層(N型)、15……
感圧部、18……ダイアフラム。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体基板と、この一面上に酸素および窒素か
    らなる群の一つをイオン注入し、高温熱処理によ
    り形成された、前記群の一つと半導体との化合物
    からなる絶縁層と、この上に成長させたエピタキ
    シヤル層と、この層の一部に不純物拡散により形
    成された感圧部とからなり、この感圧部の下部が
    前記半導体基板の他面からエツチングで前記絶縁
    層まで除かれていることを特徴とする半導体感圧
    ダイアフラム。
JP13813789U 1989-11-29 1989-11-29 Pending JPH0376139U (ja)

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JP13813789U JPH0376139U (ja) 1989-11-29 1989-11-29

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JPH0376139U true JPH0376139U (ja) 1991-07-30

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JP13813789U Pending JPH0376139U (ja) 1989-11-29 1989-11-29

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6211772B1 (en) 1995-01-30 2001-04-03 Hitachi, Ltd. Semiconductor composite sensor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6211772B1 (en) 1995-01-30 2001-04-03 Hitachi, Ltd. Semiconductor composite sensor

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