JPH0373289A - 吸着保持装置 - Google Patents

吸着保持装置

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JPH0373289A
JPH0373289A JP20932689A JP20932689A JPH0373289A JP H0373289 A JPH0373289 A JP H0373289A JP 20932689 A JP20932689 A JP 20932689A JP 20932689 A JP20932689 A JP 20932689A JP H0373289 A JPH0373289 A JP H0373289A
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JP
Japan
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suction
holding device
negative pressure
recess
valve seat
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Eiichi Miyake
栄一 三宅
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San Ei Giken Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 この発明は、真空吸引により被吸着物を吸着保持するた
めの吸着保持装置に関するもので、特に、たとえばプリ
ント回路基板のような板状物のハンドリングのために有
利に用いられる吸着保持装置に関するものである。
〔従来の技術] たとえばプリント回路基板の製造装置において、基板を
ハンドリングするため、負圧を利用した吸着保持装置が
数多く使用されている。このような吸着保持装置は、基
板を甲面状態で保持する場合に用いられ、たとえば、検
査装置、露光装置等において使用されている。
第12図には、従来の吸着保持装置が断面で示されてい
る。このような吸着保持装置は、たとえば、特開昭62
−253175号公報に開示されている。第12図に示
すように、吸着保持装置1は、被吸着物としてのプリン
ト回路基板2を吸着保持するための負圧を与える複数個
の吸着部3が分布して設けられた吸着面4を有する吸着
板5を備える。吸着板5の後方には、空間6を規定する
容器状部7が形成される。空間6には、たとえば真空ポ
ンプのような負圧源8が連結される。
したがって、負圧源8によって、まず、空間6内に負圧
が与えられ、次いで、この負圧が、空間6に共通に連通
ずる吸着部3のすべてに与えられる。これによって、基
板2は、吸着面4上に吸着保持される。
[発明が解決しようとする課題] このような吸着保持装置1は、単一種のプリント回路基
板2のみを対象とする専用機に用いられることもあるが
、はとんどの場合、多品種のプリント回路基板2、換言
すれば、様々な大きさや形状の基板2や、様々な位置に
様々な大きさのスルーホールのような穴が存在する基板
2を吸着保持するのに用いられる。しかしながら、たと
えば第12図に示すように、基板2の大きさが、吸着面
4において吸着部3が分布する範囲より小さい場合、矢
印9で示すように、特定の吸着部3において、基板2の
吸着に寄与しない空気の流れが生じ、しかも、このよう
な特定の吸着部3を流れる空気によって、空間6に与え
られる負圧の多くが消費されてしまう。同様の現象が、
図示しないが、基板2に設けられた穴の位置が吸着部3
の位置と一致するときに生じる。このように、特定の吸
着部3において、基板2の吸着に寄与しない無駄な空気
が大量に流れると、吸着保持装置1による基板2の吸着
力が弱くなり、吸着の確実性が低下する。
それゆえに、従来、様々な大きさや形状の基板2、また
は様々な位置に様々な大きさの穴が設けられた基板2を
確実に吸着するようにするため、次のような対策が講じ
られていた。すなわち、(1) 吸着部3が分布する領
域を区域分けし、区域ごとに負圧源8からの空気通路の
開閉を制御し、基板2の大きさの範囲内に位置する吸着
部3にのみ負圧を供給するようにする。
(2) 基板2に設けられた穴に合致する吸着部3を一
時的に塞ぐ。
(3) 基板2の穴を介して吸着部3に流れ込む空気が
あっても、基板2を確実に吸着保持し得るほど強力な負
圧源8を用いる。
上述した対策(1)〜(3)のうち、穴が設けられてい
ない基板2を適用する場合には、主として、(1)の対
策が講じられ、他方、穴が設けられている基板の場合に
は、(1)、(2)および(3)の対策が採用されてい
た。
しかしながら、これらの対策(1)〜(3)には、それ
ぞれ、次のような問題点があった。
(1)の対策に関しては、それを実現するための機構が
煩雑となるばかりでなく、区域数が自ずと限定される。
そのため、適切に適用され得る基板2の大きさまたは形
状に関する種類数が限られるとともに、ロット換えのた
びに何らかの前述の制御にかかわる作業が伴なう。
(2)の対策に関しては、特定の吸着部を塞ぐ作業(加
えて、塞がれていた特定の吸着部を開放する作業)は、
ロット換え時に行なわれるが、現実には全くの手作業で
行なわれるため、長時間のロスタイムを招く。
(3)の対策に関しては、負圧源に要する設備的負担お
よびエネルギ的負担が大きくなるとともに、基板2の受
渡し時等において、基板2を通して相手側の機構または
装置を強力に吸引するところとなり、そのため、機構ま
たは装置の円滑な動きを妨げるなどの様々な不都合が生
じる。
そこで、この発明の目的は、上述したような問題点を解
決しようとすることであり、より具体的には、被吸着物
の大きさおよび寸法、ならびに穴の存否および形成態様
にかかわらず、また、比較的小さな能力の負圧源をもっ
てしても、確実に被吸着物を吸着保持し得る、吸着保持
装置を提供しようとすることである。
[課題を解決するための手段] この発明は、基本的には、前述したように、被吸着物を
吸着保持するための負圧を与える複数個の吸着部が分布
して設けられた吸着面を有する吸着板、および前記吸着
部のすべてに共通に連通ずる空間を介して前記吸着部に
負圧を与える負圧源を備える、吸着保持装置に向けられ
るものであって、上述した技術的課題を解決するため、
次のような構成を備えることを特徴としている。
すなわち、複数個の吸着部それぞれに、空気の流量また
は圧力を感じて自動的に開閉する自動弁が設けられてい
る。
この発明のより具体的な一局面によれば、前記吸着部は
、前記吸着板の前記吸着面に形成された四部、および前
記凹部内に負圧を与えるための空気通路を備える。また
、前記自動弁は、前記四部の底部中央に設けられた弁座
、および前記四部を覆うように前記吸着面に貼付けられ
かつ前記門部内に連通ずる貫通穴が設けられた弾性体か
らなるダイヤフラムを備える。
前述した空気通路および貫通穴が設けられる各位置に関
連して、好ましくは、次の2つの態様があり得る。第1
の態様においては、空気通路が弁座を避けて形成され、
かつ、貫通穴が弁座と対向する位置に設けられる。この
とき、弁座に、細い溝を設けることが好ましい。第2の
態様においては、空気通路が弁座に設けられ、かつ、貫
通穴が弁座と対向しない位置に設けられる。この場合に
おいても、弁座に細い溝が設けられてもよい。
また、ダイヤフラムは、四部を覆う部分において、外方
に向かって膨出した形状を有していてもよい。
また、この発明のより具体的な他の局面によれば、前記
吸着部は、前記吸着板の前記吸着面に形成された凹部、
および前記凹部内に負圧を与えるための空気通路を備え
るとともに、前記自動弁は、その一方端が前記空気通路
に連結された状態で前記凹部内に配置される筒状弾性体
を備え、この筒状弾性体は、その他方端にスリット状の
開口を有する。
[作用] この発明にかかる吸着保持装置においては、被吸着物に
よって塞がれた吸着部は、開放状態となり、負圧を被吸
着物に及ぼし、被吸着物を吸着保持する。他方、被吸着
物によって塞がれていない吸着部に関しては、吸着部を
介して多量の空気が流れ込み、それによって、自動弁が
作動して、そのような吸着部は実質的に閉しられる。閉
じられた吸着部は、その内部の圧力が所定値以下にされ
ることによって、この閉じた状態が維持される。
[発明の効果] このように、この発明によれば、上述のように、空気の
流量または圧力を感じて自動的に開閉する自動弁をそれ
ぞれの吸着部に備えているので、被吸着物の寸法および
形状、ならびに被吸着物に設けられる穴を自動的に判別
し、被吸着物に対して吸着力を伝達し得る吸着部にのみ
、負圧が与えられ、他方、被吸着物に吸着力を及ぼさな
い吸着部においては、空気が流れ込むことが実質的に防
止される。
したがって、従来のように、被吸着物の大きさまたは形
状の変更に対応するように、吸着部が設けられた領域の
区域分けを行なうことが不要なため、構造が簡単になる
また、被吸着物にスルーホールのような穴が設けられて
いる場合、この穴に合致する吸着部を塞ぐ作業が不要と
なる。
このようなことから、被吸着物のロフト換えにかかわる
作業が不要となり、応じて、ロスタイムの削減を図るこ
とができる。
また、被吸着物を吸着面のあらゆる領域においテ吸着す
ることができるため、吸着作業前に、被吸着物を必ず所
定の位置に位置させておく必要がない。そのため、吸着
作業を安易に行なうことができる。
また、負圧を有効な吸着部にのみ供給し、従来、空気の
漏れを許していた吸着部を実質的に塞ぐ構造であるため
、従来に比して、負圧源の負担が軽くなる。そのため、
真空ポンプ、排風機、エゼクタ等の負圧発生装置の容量
が小さくて済み、省エネルギにも寄与する。
[実施例] 第1図ないし第3図には、この発明の第1の実施例が示
されている。
これらの図面に示された吸着保持装置1.1 aは、被
吸着物として、板状物、より特定的にはプリント回路基
板12を吸着保持するように用いられる。
吸着保持装置11aは、基板12を吸着保持するための
負圧を与える複数個の吸着部13aが分布して設けられ
た吸着面14aを有する吸着板15aを備える。また、
吸着部13aのすべてに共通に連通ずる空間16aを規
定するように、吸着板15aの後方には、容器状部17
aが形成される。
空間16aには、たとえば、真空ポンプ、排風機、エゼ
クタ等の負圧発生装置によって構成される負圧源18a
が接続される。
上述した複数個の吸着部13aのそれぞれには、空気の
流量または圧力を感じて自動的に開閉する自動弁19a
が設けられる。このような自動弁19aおよび吸着部1
3aの構成の詳細について、以下に説明する。
吸着部13aは、吸着板15aの吸着面14aに形成さ
れた凹部20a)f:備える。この凹部20aの底部周
辺部には、空間16aからの負圧を凹部2Oa内に与え
るための空気通路21.、 aが設けられる。
自動弁19aは、凹部20aの底部中央に設けられた弁
座22aを備える。また、凹部420 aを覆うように
、たとえばシリコーンゴムのような弾性体からなるダイ
ヤフラム23aが、吸着面14aに貼付けられる。ダイ
ヤプラム23aには、弁座22 aと対向する位置に貫
通穴24aが設けられ、貫通穴24aによって、四部2
0aの内部と外部とが連通ずる状態とされる。
なお、この実施例では、1枚のダイヤフラム23aが複
数個の四部20aをすべて覆うように設けられたが、個
々の四部20aに関連して、別々のダイヤプラムが吸着
面14aに貼付けられてもよい。
好ましくは、弁座22aには、細い/:425が設けら
れる。
第1図には、ダイヤフラム23aの状態に関して、基板
12を吸着しているときと基板12によって覆われてい
ないときの双方が示されている。
基板12を吸着している状態にあるダイヤフラム23a
が、第2図に拡大されて示され、基板12によって覆わ
れていない状態にあるダイヤフラム23aが第3図に拡
大されて示されている。
第1図および第2図を参照して、基板12が吸着部13
aを覆う状態にあるとき、負圧源18aから空間16a
を介して与えられた負圧は、空気通路21aを通って四
部2Oa内に供給され、さらに、貫通穴24aを介して
基板12に吸引力を及ぼす。これによって、基板12は
、ダイヤフラム23a上において吸着保持される。
他方、第1図および第3図を参照して、基板12によっ
て覆われない吸着部13aにおいては、貫通穴24aが
完全に開放されているので、凹部2Oa内に与えられた
負圧によって、貫通穴24aから所定量以上の空気が流
れ込む。このような空気の流れに従って、ダイヤフラム
23aは、弁座22aに接触する方向に変形され、貫通
穴24aが弁座22aによって閉じられ、外部からの空
気が凹部2Oa内に供給されることを実質的に防止する
。このように、ダイヤフラム23aが弁座22aに接触
した状態は、四部2Oa内の圧力が、負圧源18aから
与えられる負圧のために所定値以ドに保たれることによ
って、維持される。
なお、後述する理由から、弁座22aには、細い溝25
が形成されていて、ダイヤフラム23aが弁座22aに
接触している場合であっても、貫通穴24aを通って空
気がわずかに流れ込むようにされることが好ましい。し
かしながら、このような空気の漏れは、第3図に示した
状態を維持するのに、実質的な影響を及ぼすものではな
い。
吸着保持装置11aは、通常、負圧源18aが駆動され
ている状態で、基板12を吸着する動作に入る。したが
って、基板12を吸着する直前までは、すべての吸着部
13aが第3図に示したような状態となっている。この
状態において、基板12を吸着するため、基板12によ
って吸着部13aが覆われたとき、細い溝25および貫
通穴24aを通じて、基板12とダイヤフラム23aと
によって囲まれた空間29(第3図)にまで負圧が供給
されることにより、ダイヤフラム23aで隔てられた2
つの空間における圧力差がほとんどなくなり、ダイヤフ
ラム23aは、それ自身の弾性により、第2図に示すよ
うに、平坦な状態となり、貫通穴24aを介して負圧が
基板12に与えられ、基板12が吸着保持されるように
なる。弁座22aに設けられた細い溝25は、このよう
なダイヤフラム23aの復帰動作をより円滑に進行させ
るものであるが、基板12を吸着面14aに向けて配置
してから空間16aに負圧を供給する場合や、ダイヤプ
ラム23aと弁座22aとの間で所定以上の空気の漏れ
が生じる場合には、特に設ける必要がない。なお、細い
溝25のように、空気の漏れを積極的に生じさせるため
の構造は、ダイヤフラム23a側に設けられてもよい。
また、このような細い溝25は、後で説明する第4図、
第5図および第8図にそれぞれ示した各実施例に設けて
もよい。
第4図は、この発明の第2の実施例を示している。
第4図に示した吸着保持装置11bは、前述した第1の
実施例による吸着保持装置11aと実質的に同じ構成を
多く含んでいる。したがって、第4図において、第1図
に示した参照符号に含まれる添字“a′を“b′に変更
した参照符号を対応の部分に付すことにより、重複する
説明は省略する。
第4図に示した吸着保持装置11bは、そのダイヤフラ
ム23bが、凹部20bを覆う部分において、外方に向
かって膨出した形状を有していることが特徴である。第
4図に示すように、ダイヤフラム23bが外方に向かっ
て膨出した形状をとるとき、基板12を吸着する動作が
開始され、基板12が完全に吸着保持されたときには、
第1図に示すような状態となる。
この第2の実施例によれば、基板12にたとえば反り等
が生じている場合であっても、そのような反り等に対す
る追従性が向上する。
第5図ないし第7図は、この発明の第3の実施例を示し
ている。
第3の実施例による吸着保持装置11cもまた、第1図
ないし第3図に示した吸着保持装置11aと実質的に同
じ要素を含んでいる。したがって、第5図ないし第7図
において、第1図ないし第3図に示した参照符号に含ま
れる添字“a′に代えて“C′を用いた参照符号を、対
応する要素に付すことによって、重複する説明は省略す
る。
第3の実施例による吸着保持装置11cは、空気通路2
1cが弁座22cに設けられ、貫通穴24cが弁座22
cと対向しない位置に設けられていることが特徴である
動作において、基板12を吸着している吸着部13cに
おいては、第5図および第6図に示すように、空間16
cに与えられた負圧が、空気通路21cおよび凹部20
cを介して貫通穴24cに与えられ、それによって、基
板12がダイヤフラム23cに沿って吸着保持される。
他方、基板12によって覆われない吸着部13cにおい
ては、第5図および第7図に示すように、貫通穴24c
、凹部20cおよび空気通路21cを通って大量の空気
が入り込むことにより、ダイヤフラム23cが弁座22
cに接触するように変形される。このようにして、ダイ
ヤプラム23cは、空気通路21Cを閉じる。
第8図ないし第11図は、この発明の第4の実施例を示
している。
この第4の実施例による吸着保持装置11dも、第1図
ないし第3図に示した吸着保持装置11aと共通する要
素をいくつか含んでいる。したがって、第8図ないし第
11図において、第1図ないし第3図に示した参照符号
に含まれる添字“aに代えて“d“を含む参照符号を、
対応の要素に付すことによって、重複する説明は省略す
る。
吸着保持装置1.1. dは、吸着部13dにおいて、
吸着板15dの吸着面14dに形式された四部20dを
備える。四部20dの底部中央には、空気通路21dが
設けられる。
吸着保持装置lidにおける自動弁19dは、その一方
端が空気通路21dに連結された状態で凹部20d内に
配置される筒状弾性体26を備える。第9図には、第8
図の左側から見た筒状弾性体26の形状が単独で図示さ
れている。第8図の部分Xを拡大して示す第10図と上
述の第9図とを共に参照すればわかるように、筒状弾性
体26は、その一方端において円形の開口27を形成し
、その他方端においてスリット状の開口28を形成して
いる。スリット状の開口28は、第9図によく示されて
いるように、たとえば楕円の形状とされる。
第8図および第10図に示すように、基板12に覆われ
た吸着部13dにおいては、負圧R(図示せず)から空
間1.6 d内に与えられた負圧は、空気通路21. 
dおよび筒状弾性体26を介して凹部20.d内に供給
される。したがって、凹部2゜d内に供給された負圧に
よって、基板12が吸着面14d上に吸着保持される。
他方、基板12によって覆われない吸着部13dにおい
ては、筒状弾性体26内に大量の空気が流れ込む。これ
に応じて、第9図に想像線で示すように、スリット状の
開口28は閉じた状態に強制され、第8図および第11
図に示すように、筒状弾性体26によって、空気通路2
1dは実質的に閉じられた状態となる。
以上、この発明を図示した種々の実施例に関連して説明
したが、この発明にかかる吸着保持装置に備える自動弁
は、これら図示されたものに限らず、空気の流量または
圧力を感じて自動的に開閉するものであれば、他の形式
のものであってもよい。
また、ダイヤフラムの被吸着物に接する面に、比較的薄
い保護板または保護膜を貼り付けてもよい。この場合、
保護板または保護膜には、ダイヤフラムに設けられた貫
通穴を閉じないように、穴等が形成される。
また、この発明にかかる吸着保持装置が適用されるのは
、プリント回路基板のような板状物には限らない。その
他、種々の形状を有する物品に対しても、この発明にか
かる吸着保持装置を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の第1の実施例による吸着保持装置
11aを示す断面図である。第2図は、第1図の部分■
の拡大図である。第3図は、第1図の部分■の拡大図で
ある。 第4図は、この発明の第2の実施例による吸着保持装置
11bの断面図である。 第5図は、この発明の第3の実施例による吸着保持装置
11cの断面図である。第6図は、第5錫の部分■の拡
大図である。第7図は、第5図の部分■の拡大図である
。 第8図は、この発明の第4の実施例による吸着保持装置
lidを示す断面図である。第9図は、第8図に示した
筒状弾性体26を第8図の左側から見た拡大図である。 第10図は、第8図の部分Xの拡大図である。第11図
は、第8図の部分XIの拡大図である。 第12図は、従来の吸着保持装置1を示す断面図である
。 図において、11 a、  1 l b、  11 c
、  11 dは吸着保持装置、12はプリント回路基
板(被吸着物)、13a、13b、13c、13dは吸
着部、14a、14b、14c、14dは吸着面、15
a、15b、15c、15dは吸着板、16a、16b
、16c、16dは空間、18aは負圧源、19a、1
9b、19c、19dは自動弁、20a、20b、20
c、20dは凹部、21a。 21b、21c、21dは空気通路、22a、22b、
22cは弁座、23 a、  23 b、  23 c
はダイヤフラム、24a、24b、24cは貫通穴、2
5は細い溝、26は筒状弾性体、28はスリット状の開
口である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被吸着物を吸着保持するための負圧を与える複数
    個の吸着部が分布して設けられた吸着面を有する吸着板
    、および前記吸着部のすべてに共通に連通する空間を介
    して前記吸着部に負圧を与える負圧源を備える、吸着保
    持装置において、前記複数個の吸着部それぞれに、空気
    の流量または圧力を感じて自動的に開閉する自動弁を設
    けたことを特徴とする、吸着保持装置。
  2. (2)前記吸着部は、前記吸着板の前記吸着面に形成さ
    れた凹部、および前記凹部内に負圧を与えるための空気
    通路を備え、かつ、前記自動弁は、前記凹部の底部中央
    に設けられた弁座、および前記凹部を覆うように前記吸
    着面に貼付けられかつ前記凹部内に連通する貫通穴が設
    けられた弾性体からなるダイヤフラムを備える、請求項
    1記載の吸着保持装置。
  3. (3)前記空気通路は、前記弁座を避けて形成され、か
    つ、前記貫通穴は、前記弁座と対向する位置に設けられ
    る、請求項2記載の吸着保持装置。
  4. (4)前記空気通路は、前記弁座に設けられ、かつ、前
    記貫通穴は、前記弁座と対向しない位置に設けられる、
    請求項2記載の吸着保持装置。
  5. (5)前記弁座には、細い溝が設けられる、請求項3ま
    たは4記載の吸着保持装置。
  6. (6)前記ダイヤフラムは、前記凹部を覆う部分におい
    て、外方に向かって膨出した形状を有する、請求項2な
    いし5のいずれかに記載の吸着保持装置。
  7. (7)前記吸着部は、前記吸着板の前記吸着面に形成さ
    れた凹部、および前記凹部内に負圧を与えるための空気
    通路を備え、かつ、前記自動弁は、その一方端が前記空
    気通路に連結された状態で前記凹部内に配置される筒状
    弾性体を備え、前記筒状弾性体は、その他方端にスリッ
    ト状の開口を有する、請求項1記載の吸着保持装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0556376U (ja) * 1992-01-16 1993-07-27 茂男 広瀬 吸着装置
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JP2016539019A (ja) * 2013-11-04 2016-12-15 イョット. シュマルツ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 吸引把持装置

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