JPH0368450B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
- G11B5/825—Disk carriers flexible discs
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
技術分野
この発明は、トラツキングミスの回避できる磁
気記録フレキシブルデイスクに関する。 従来技術 磁気フレキシブルデイスク記録再生装置自体の
温度変化を抑制する手段や記録再生装置にトラツ
ク検出の特別な回路(トラツクサーボ等)を設け
てトラツキングミスを防止することが従来から知
られているが、これらの方法では記録再生装置が
複雑となる。 そこで、一般には磁気デイスクの方を改良し
て、支持体フイルムを磁性材料を熱膨張率や湿度
膨張率の低い材質に改良したり、選択して磁気フ
レキシブルデイスクを製造することによつてトラ
ツキングミスを防止することが行われている。 しかしながら、改良タイプの磁気フレキシブル
デイスクでも、高温(40〜50℃)・高温(約80%
RH)で使用すると、トラツキングミスが発生す
る。殊に低温(10℃程度)・低湿(20%RH程度)
で記録した磁気フレキシブルデイスクは常温(25
℃程度)・通常の湿度(60%RH程度)の雰囲気
のもとで再生するとトラツキングミスが発生する
という欠点があつた。このトラツキングミスによ
つて出力エンペロープの低下が起りS/N比が悪
くなるという問題点は未解決である。 発明の目的 本発明者は、上記の欠点を解消するため研究を
重ねた結果、実質的にポリーp−フエニレンスル
フイドよりなる2軸配向フイルムの温度・湿度膨
張率を特定範囲に調整することにより、寸法安定
性の優れたフイルムを得、これを支持体として磁
気記録フレキシブルデイスクを造ることによつて
トラツキングミスの発生を回避できることを知見
し本発明に到達した。 本発明の目的は、使用可能な雰囲気条件(温
度・湿度範囲)を拡大して高温高湿でもトラツク
ミスが発生しない様に改善した磁気記録フレキシ
ブルデイスクを提供することにある。 更にこの様な温度・湿度による寸法安定性の高
い磁気記録フレキシブルデイスクは、磁気記録の
高密度化も可能にするものであつて、かかる磁気
デイスクを提供することも本発明の目的である。 発明の構成 本発明は90モル%以上が、ポリーp−フエニレ
ンスルフイドよりなる2軸配向フイルムを支持体
とする磁気デイスクである。このフイルムの長手
方向及び巾方向を含む平面における最大の温度膨
張率が9〜35×10-6℃-1、最大の湿度膨張率が0
〜5.0×10-6%RH-1、温度膨張率の最大値と最小
値との差が、0〜8.0×10-6℃-1かつ湿度膨張率
の最大値と最小値との差が0〜2.0×10-6%RH-1
である膨張特性を備えた2軸配向ポリーp−フエ
ニレンサルフイドフイルムが本発明のデイスクの
支持体となる。本発明はこの支持体に磁性層を塗
布し、カレンダーロール処理を施して、表面を平
滑化せしめてなる磁気記録フレキシブルデイスク
である。 本発明の磁気デイスクの支持体となるポリーp
−フエニレンスルフイド2軸配向フイルムは、前
記の様な温度・湿度膨張率の条件を満足する様
に、製膜条件を適宜にコントロールすることによ
つて得られる。 本発明の磁気記録フレキシブルデイスクは前記
支持体と磁性層とによつて構成されている。磁性
層は磁性粉体又は金属よりなる。本発明に使用す
る強磁性粉体や金属としては、γ−Fe2O3,CO
含有のγ−Fe2O3,Fe3O4,Co含有のFe3O4,
CrO2,CO−Ni−P合金、Co−Ni−Fe合金、Co
−Cr合金、Co−Ni合金、バリウムフエライト等
の公知の強磁性体が使用できる。 本発明において磁性粉体と共に使用するバイン
ダーとしては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、反応型樹脂又はこれらの混合物が挙げられ
る。具体的には、塩化ビニル酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステ
ルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリフ
ツ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共
重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、
ポリアミド、ポリビニルブチラール、セルロース
誘導体(セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエス
テル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エス
テル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が使用され
る。 支持体フイルム上への前記の磁性層を塗布する
方法としては、エアードクターコート、プレード
コート、エアナイフコート、スクイズコート、含
浸コート、リバースロールコート、トランスフア
ーロールコート、グラビアコート、キスコート、
キヤストコート、スプレイコート等が利用でき
る。 支持体フイルムには磁性層を0.1〜20μの厚さに
塗布する。 本発明における支持体フイルムでありポリーp
−フエニレンスルフイドはその90モル%以上が構
成単位
気記録フレキシブルデイスクに関する。 従来技術 磁気フレキシブルデイスク記録再生装置自体の
温度変化を抑制する手段や記録再生装置にトラツ
ク検出の特別な回路(トラツクサーボ等)を設け
てトラツキングミスを防止することが従来から知
られているが、これらの方法では記録再生装置が
複雑となる。 そこで、一般には磁気デイスクの方を改良し
て、支持体フイルムを磁性材料を熱膨張率や湿度
膨張率の低い材質に改良したり、選択して磁気フ
レキシブルデイスクを製造することによつてトラ
ツキングミスを防止することが行われている。 しかしながら、改良タイプの磁気フレキシブル
デイスクでも、高温(40〜50℃)・高温(約80%
RH)で使用すると、トラツキングミスが発生す
る。殊に低温(10℃程度)・低湿(20%RH程度)
で記録した磁気フレキシブルデイスクは常温(25
℃程度)・通常の湿度(60%RH程度)の雰囲気
のもとで再生するとトラツキングミスが発生する
という欠点があつた。このトラツキングミスによ
つて出力エンペロープの低下が起りS/N比が悪
くなるという問題点は未解決である。 発明の目的 本発明者は、上記の欠点を解消するため研究を
重ねた結果、実質的にポリーp−フエニレンスル
フイドよりなる2軸配向フイルムの温度・湿度膨
張率を特定範囲に調整することにより、寸法安定
性の優れたフイルムを得、これを支持体として磁
気記録フレキシブルデイスクを造ることによつて
トラツキングミスの発生を回避できることを知見
し本発明に到達した。 本発明の目的は、使用可能な雰囲気条件(温
度・湿度範囲)を拡大して高温高湿でもトラツク
ミスが発生しない様に改善した磁気記録フレキシ
ブルデイスクを提供することにある。 更にこの様な温度・湿度による寸法安定性の高
い磁気記録フレキシブルデイスクは、磁気記録の
高密度化も可能にするものであつて、かかる磁気
デイスクを提供することも本発明の目的である。 発明の構成 本発明は90モル%以上が、ポリーp−フエニレ
ンスルフイドよりなる2軸配向フイルムを支持体
とする磁気デイスクである。このフイルムの長手
方向及び巾方向を含む平面における最大の温度膨
張率が9〜35×10-6℃-1、最大の湿度膨張率が0
〜5.0×10-6%RH-1、温度膨張率の最大値と最小
値との差が、0〜8.0×10-6℃-1かつ湿度膨張率
の最大値と最小値との差が0〜2.0×10-6%RH-1
である膨張特性を備えた2軸配向ポリーp−フエ
ニレンサルフイドフイルムが本発明のデイスクの
支持体となる。本発明はこの支持体に磁性層を塗
布し、カレンダーロール処理を施して、表面を平
滑化せしめてなる磁気記録フレキシブルデイスク
である。 本発明の磁気デイスクの支持体となるポリーp
−フエニレンスルフイド2軸配向フイルムは、前
記の様な温度・湿度膨張率の条件を満足する様
に、製膜条件を適宜にコントロールすることによ
つて得られる。 本発明の磁気記録フレキシブルデイスクは前記
支持体と磁性層とによつて構成されている。磁性
層は磁性粉体又は金属よりなる。本発明に使用す
る強磁性粉体や金属としては、γ−Fe2O3,CO
含有のγ−Fe2O3,Fe3O4,Co含有のFe3O4,
CrO2,CO−Ni−P合金、Co−Ni−Fe合金、Co
−Cr合金、Co−Ni合金、バリウムフエライト等
の公知の強磁性体が使用できる。 本発明において磁性粉体と共に使用するバイン
ダーとしては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、反応型樹脂又はこれらの混合物が挙げられ
る。具体的には、塩化ビニル酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステ
ルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリフ
ツ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共
重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、
ポリアミド、ポリビニルブチラール、セルロース
誘導体(セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエス
テル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エス
テル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が使用され
る。 支持体フイルム上への前記の磁性層を塗布する
方法としては、エアードクターコート、プレード
コート、エアナイフコート、スクイズコート、含
浸コート、リバースロールコート、トランスフア
ーロールコート、グラビアコート、キスコート、
キヤストコート、スプレイコート等が利用でき
る。 支持体フイルムには磁性層を0.1〜20μの厚さに
塗布する。 本発明における支持体フイルムでありポリーp
−フエニレンスルフイドはその90モル%以上が構
成単位
【式】からなることが必須で
あり、90モル%以下になるとポリマーの結晶性が
低下し、温度膨張率の増大をもたらすので好まし
くない。前記ポリマーの構成単位のうち、10モル
%未満であれば、
低下し、温度膨張率の増大をもたらすので好まし
くない。前記ポリマーの構成単位のうち、10モル
%未満であれば、
【式】等の共重合単位を含んでいても
差支えない。
この様なポリーp−フエニレンスルフイドの重
合法としては、パラーハロベンゼンと硫化アルカ
リを極性溶媒中で反応させるのが一般的である。 重合条件は、250〜350℃の温度を選び重合時間
は使用される触媒の種類や重合系内の圧力、重合
度によつて適宜決定できる。ポリーp−フエニレ
ンスルフイドフイルムの中には、例えば劣化防止
剤、微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウ
ム、リン酸カルシウム等の艶消剤、滑剤等を含
有・分散せしめることもできる。 本発明で用いられるポリーp−フエニレンスル
フイドからなる2種配向フイルムにおいて、フイ
ルムの長手方向及び巾方向を含む面における最大
の温度膨張率が9〜35×10-6℃-1、好ましくは9
〜25×10-6℃-1、最大の湿度膨張率が0〜5.0×
10-6%RH-1(好ましくは0〜2.5×10-6%RH-1)、
温度膨張率の最大値と最小値との差が0〜8.0×
10-6℃-1(好ましくは0〜5.0×10-6℃-1)、湿度膨
張率の最大値と最小値との差が0〜2.0×10-6%
RH-1(好ましくは0〜1.5×10-6%RH-1)の条件
を満足するとき、トラツキングミスが回避でき、
広い温度・湿度範囲で磁気デイスクの使用が可能
になる。温度膨張率及び(又は)湿度膨張率が前
記の範囲を超えると、磁気記録フレキシブルデイ
スクに記録した時と異なつた温度で再生した場合
に、温度膨張率・湿度膨張率の差によつて磁気フ
レキシブルデイスクの中心からの伸びが異なり、
磁気ヘツドと記録トラツクがずれてトラツキング
ミスを発生することが多くなる。この結果出力が
変化してドロツプアウトを生ずる。 現在、磁気記録フレキシブルデイスクとして最
も一般的に用いられているポリエチレンテレフタ
レート系ポリエステルフイルムでは、最大の温度
膨張率は約17×10-6℃-1、温度膨張率の最大と最
小の差は8×10-6℃-1程度であつて、温度膨張率
の面では記録再生装置の温度膨張率と概略一致し
ているものの、温度膨張率の方向差すなわち異方
性のため、トラツクずれを生ずるおそれがある。
また湿度膨張率については約11×10-6%RH程度
とかなり大きく、湿度変化に対応してトラツクず
れは、記録再生装置の湿度膨張率が0とみなせる
ので、かなり大きなものとなる。一方、本発明の
ポリーp−フエニレンスルフイドよりなる2軸配
向フイルムを支持体として用いることによつて一
般に用いられているポリエチレンテレフタレート
系ポリエステルよりなる2軸配向フイルムよりも
温度膨張や湿度膨張によるトラツクずれが小さ
く、温度膨張率の最大と最小の差、湿度膨張率の
最大と最小の差を小さくすることによつて、トラ
ツクずれを更に小さく抑え得る。この結果、磁気
デイスクは、広い温度・湿度範囲雰囲気での使用
が可能となり、しかも磁気記録の高密度化が可能
な磁気記録フレキシブルデイスクが得られる。 上述に特性を得るためのポリーp−フエニレン
スルフイドフイルムの製膜は、ポリエチレンテレ
フタレートやポリブチレンテレフタレート等のポ
リエステルフイルムの製膜法に準じて製造し得
る。例えば、T−ダイ法、インフレシヨン法等に
よつて融点に対応して300〜350℃で溶融押出し、
未延伸フイルムをキヤストすることができる。次
いで2軸方向に延伸して2軸配向フイルムとする
がこの時の延伸温度はポリエチレンテレフタレー
トフイルムの場合とほぼ同温乃至高温で実施でき
る。延伸温度としては80〜140℃程度が好ましい。
延伸倍率としては縦方向に3.0〜5.0倍(好ましく
は3.5〜4.5倍)、横方向に3.0〜5.0倍(好ましくは
3.5〜4.5倍)程度である。得られた2軸配向フイ
ルムを150〜280℃(好ましくは180〜270℃)で1
〜100秒熱固定することによつて本発明の温度・
湿度の変化によつてもトラツクずれの小さいフイ
ルムが得られる。しかし、本発明のポリーp−フ
エニレンスルフイドよりなる2軸配向フイルムは
この様な方法で得られたもののみには限られな
い。例えば上記熱固定工程を走行方向と変えて2
度実施し、2回目の熱固定塩度を初回の熱固定よ
り高くすることで温湿度膨張巻の最大値と最小値
の差を極小してフイルム全幅に亘つて保持するこ
とができる。 2軸配向フイルムは、その用途によつて適宜の
厚さにできるが通常25〜125μ程度の範囲から選
び得るが、この範囲に限定されるものではない。 本発明における特性値の測定方法は次の通りで
ある。 (1) 温度膨張率 日本自動制御社製の定荷重伸び試験機
(ITL2型)を恒温恒湿槽に収め、そこで測定す
る。測定サンプルは予め所定の条件(例えば70
℃30分)で熱処理を施しておき、試験機にサン
プルを取付け20℃、湿度60%RH(相対湿度)
と40℃、相対湿度60%の間での寸法変化を読取
することによつて温度膨張率を求める。 この時のサンプル長は505mmサンプル、巾は
1/インチである。測定時に加える加重は5g
(1/4インチ巾)当りで一定とする。長いサンプ
ルが得られない場合は、真空理工社製の熱機械
分析装置TM−3000を用い、測定し得る。温度
膨張率の最大値、最小値の差を求める場合は、
この方法でもよい。サンプルのサイズは長さ15
mm、巾5mmであり、20℃湿度0%RHと40℃で
湿度0%RHにおける寸法変化を読取すること
によつて温度膨張率の最大と最小の差を求め
る。勿論、両者の測定機によつて得られる値は
完全に一致する。 (2) 湿度膨張率 温度膨張率を求める場合と同様に、日本自動
制御社製の定荷重伸び試験機を用い、40℃、湿
度90%RHの条件で予め処理を行施しておき、
測定機にサンプルを取付け、20℃湿度30%RH
と20℃湿度70%RHの間での寸法変化を読取る
ことによつて湿度膨張率を求める。サンプルが
短かい場合には温度膨張測定と同様に真空理工
社製の熱機械分析装置を恒温恒室機に置き、同
一条件で計測する。 (3) トラツキングずれ(温度変化) トラツキングずれテストとしては次の様な方
法を用いた。磁性層を塗布しカレンダーロール
を施され、デイスク状に打抜かれた磁気記録フ
レキシブルデイスクを15℃湿度60%RHで記録
し、その時の最大出力と磁気シートの出力エン
ベロープを調べる。次に雰囲気温度を40℃湿度
60%RHになる様に維持して、その温度におけ
る最大出力と出力エンベロープを測定し、15℃
湿度60%RHのときの出力エンベロープと40℃
湿度60%RHのときの出力エンベロープを比較
して、トラツキングが良好であるか否かを測定
する。この差が小さいほど優れたトラツキング
特性を有している。この差が3dB以上になると
トラツキングが悪く、評価としては×であり、
3dB以内のものは〇として評価する。 (4) トラツキングずれテスト(湿度変化) 前項と同様に25℃、湿度20%RHで記録し、
更に雰囲気条件を25℃湿度70%RHに保持し、
25℃湿度20%RHのときと、25℃湿度70%RH
のときの出力エンベロープを比較して、前項と
同様に、トラツキングの良好さを評価する。評
価方法は3項と同様である。 実施例 次に、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例1〜4及び比較例1〜2 Na2S・9H2Oを1モル、NaOHを0.05モル、安
息香酸ナトリウム0.6モル、Nメチルピロリドン
3.5モルをオートクレーブに入れ210℃に加熱し、
脱水を行つた。脱水終了後、糸を160℃に降温し、
1モルのP−ジクロルベンゼンを添加し、280℃
にて撹拌下で重合を行つた。重合終了後、室温ま
で降温し、水とアセトンで洗浄をくり返し洗浄を
行いポリーp−フエニレンフルフイドポリマーを
得た。 比較例として実施例と同様にして、(但し、P
−ジクロルベンゼン1モルの代わりにPジクロル
ベンゼン0.85モル、m−ジクロルベンゼン0.15モ
ルを用いた)280℃にて撹拌下で重合を行い、ポ
−P−フエニレンスルフイドとポリ−m−フエニ
レンスルフイドの共重合ポリマーを得た。 更に、比較例としてポリエチレンテレフタレー
トを常法により重合した。 これらのポリマーを300℃で溶融押出し、
1050μの未延伸フイルムを得た。次いで90〜120
℃にて縦方向に3.3〜3.7倍、100〜130℃で横方向
に3.4〜3.8倍延伸し、更に200〜270℃で10〜30秒
間型固定して厚み75μの製膜条件の異なつたフイ
ルムを得た。この様にして得られた2軸配向フイ
ルムに下記組成物の磁性塗布液を5μの厚さに塗
布した。 (磁性塗布液) γ−Fe2O3 200重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂(UCC製
VAGH) 30 〃 ポリウレタン(日本ポリウレタン工業製PP−
88) 20 〃 イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業
製コロネートHL) 40 〃 カーボン(平均サイズ0.5μφ) 20 〃 ジメチルシロキサン 2 〃 トルエン 70 〃 メチルエチルケトン 70 〃 シクロヘキサノン 70 〃 上記塗料を充分に混合・撹拌し、ポリーp−フ
エニレンスルフイドフイルムの表面上に塗布し、
次いでカレンダーロール処理を施した。この後、
外径20cm内径3.8cmの磁気記録フレキシブルデイ
スクを切抜き記録再生装置によつて試験した。 シートレコーダーは360r.p.mで回転し、磁気ヘ
ツドの位置はデイスクの中心より8cmにした。ト
ラツクの巾は300μ、ヘツドの材質はフエライト
であつた。磁気記録フレキシブルデイスクには
1MHzの信号を所定の条件で記録し、所定の条件
で再生して、出力エンベロープの差で評価した。
この磁気記録フレキシブルデイスクの15℃、60%
RH及び25℃、20%RHの場合のエンベロープは
0.2dB以下であつた。 このポリーp−フエニレンスルフイドを種々製
膜条件を変化させたフイルムについて温度・湿度
膨張率、トラツクずれテストを行施し、その結果
を第1表に示した。 第1表の結果から、実施例1〜4のものについ
てはトラツキングミスが改善されており、高温高
湿雰囲気下で磁気デイスクの使用が可能であるこ
とが判つた。これに対し、比較例1〜2のものは
高温高湿雰囲気での使用が不可能であることが判
つた。
合法としては、パラーハロベンゼンと硫化アルカ
リを極性溶媒中で反応させるのが一般的である。 重合条件は、250〜350℃の温度を選び重合時間
は使用される触媒の種類や重合系内の圧力、重合
度によつて適宜決定できる。ポリーp−フエニレ
ンスルフイドフイルムの中には、例えば劣化防止
剤、微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウ
ム、リン酸カルシウム等の艶消剤、滑剤等を含
有・分散せしめることもできる。 本発明で用いられるポリーp−フエニレンスル
フイドからなる2種配向フイルムにおいて、フイ
ルムの長手方向及び巾方向を含む面における最大
の温度膨張率が9〜35×10-6℃-1、好ましくは9
〜25×10-6℃-1、最大の湿度膨張率が0〜5.0×
10-6%RH-1(好ましくは0〜2.5×10-6%RH-1)、
温度膨張率の最大値と最小値との差が0〜8.0×
10-6℃-1(好ましくは0〜5.0×10-6℃-1)、湿度膨
張率の最大値と最小値との差が0〜2.0×10-6%
RH-1(好ましくは0〜1.5×10-6%RH-1)の条件
を満足するとき、トラツキングミスが回避でき、
広い温度・湿度範囲で磁気デイスクの使用が可能
になる。温度膨張率及び(又は)湿度膨張率が前
記の範囲を超えると、磁気記録フレキシブルデイ
スクに記録した時と異なつた温度で再生した場合
に、温度膨張率・湿度膨張率の差によつて磁気フ
レキシブルデイスクの中心からの伸びが異なり、
磁気ヘツドと記録トラツクがずれてトラツキング
ミスを発生することが多くなる。この結果出力が
変化してドロツプアウトを生ずる。 現在、磁気記録フレキシブルデイスクとして最
も一般的に用いられているポリエチレンテレフタ
レート系ポリエステルフイルムでは、最大の温度
膨張率は約17×10-6℃-1、温度膨張率の最大と最
小の差は8×10-6℃-1程度であつて、温度膨張率
の面では記録再生装置の温度膨張率と概略一致し
ているものの、温度膨張率の方向差すなわち異方
性のため、トラツクずれを生ずるおそれがある。
また湿度膨張率については約11×10-6%RH程度
とかなり大きく、湿度変化に対応してトラツクず
れは、記録再生装置の湿度膨張率が0とみなせる
ので、かなり大きなものとなる。一方、本発明の
ポリーp−フエニレンスルフイドよりなる2軸配
向フイルムを支持体として用いることによつて一
般に用いられているポリエチレンテレフタレート
系ポリエステルよりなる2軸配向フイルムよりも
温度膨張や湿度膨張によるトラツクずれが小さ
く、温度膨張率の最大と最小の差、湿度膨張率の
最大と最小の差を小さくすることによつて、トラ
ツクずれを更に小さく抑え得る。この結果、磁気
デイスクは、広い温度・湿度範囲雰囲気での使用
が可能となり、しかも磁気記録の高密度化が可能
な磁気記録フレキシブルデイスクが得られる。 上述に特性を得るためのポリーp−フエニレン
スルフイドフイルムの製膜は、ポリエチレンテレ
フタレートやポリブチレンテレフタレート等のポ
リエステルフイルムの製膜法に準じて製造し得
る。例えば、T−ダイ法、インフレシヨン法等に
よつて融点に対応して300〜350℃で溶融押出し、
未延伸フイルムをキヤストすることができる。次
いで2軸方向に延伸して2軸配向フイルムとする
がこの時の延伸温度はポリエチレンテレフタレー
トフイルムの場合とほぼ同温乃至高温で実施でき
る。延伸温度としては80〜140℃程度が好ましい。
延伸倍率としては縦方向に3.0〜5.0倍(好ましく
は3.5〜4.5倍)、横方向に3.0〜5.0倍(好ましくは
3.5〜4.5倍)程度である。得られた2軸配向フイ
ルムを150〜280℃(好ましくは180〜270℃)で1
〜100秒熱固定することによつて本発明の温度・
湿度の変化によつてもトラツクずれの小さいフイ
ルムが得られる。しかし、本発明のポリーp−フ
エニレンスルフイドよりなる2軸配向フイルムは
この様な方法で得られたもののみには限られな
い。例えば上記熱固定工程を走行方向と変えて2
度実施し、2回目の熱固定塩度を初回の熱固定よ
り高くすることで温湿度膨張巻の最大値と最小値
の差を極小してフイルム全幅に亘つて保持するこ
とができる。 2軸配向フイルムは、その用途によつて適宜の
厚さにできるが通常25〜125μ程度の範囲から選
び得るが、この範囲に限定されるものではない。 本発明における特性値の測定方法は次の通りで
ある。 (1) 温度膨張率 日本自動制御社製の定荷重伸び試験機
(ITL2型)を恒温恒湿槽に収め、そこで測定す
る。測定サンプルは予め所定の条件(例えば70
℃30分)で熱処理を施しておき、試験機にサン
プルを取付け20℃、湿度60%RH(相対湿度)
と40℃、相対湿度60%の間での寸法変化を読取
することによつて温度膨張率を求める。 この時のサンプル長は505mmサンプル、巾は
1/インチである。測定時に加える加重は5g
(1/4インチ巾)当りで一定とする。長いサンプ
ルが得られない場合は、真空理工社製の熱機械
分析装置TM−3000を用い、測定し得る。温度
膨張率の最大値、最小値の差を求める場合は、
この方法でもよい。サンプルのサイズは長さ15
mm、巾5mmであり、20℃湿度0%RHと40℃で
湿度0%RHにおける寸法変化を読取すること
によつて温度膨張率の最大と最小の差を求め
る。勿論、両者の測定機によつて得られる値は
完全に一致する。 (2) 湿度膨張率 温度膨張率を求める場合と同様に、日本自動
制御社製の定荷重伸び試験機を用い、40℃、湿
度90%RHの条件で予め処理を行施しておき、
測定機にサンプルを取付け、20℃湿度30%RH
と20℃湿度70%RHの間での寸法変化を読取る
ことによつて湿度膨張率を求める。サンプルが
短かい場合には温度膨張測定と同様に真空理工
社製の熱機械分析装置を恒温恒室機に置き、同
一条件で計測する。 (3) トラツキングずれ(温度変化) トラツキングずれテストとしては次の様な方
法を用いた。磁性層を塗布しカレンダーロール
を施され、デイスク状に打抜かれた磁気記録フ
レキシブルデイスクを15℃湿度60%RHで記録
し、その時の最大出力と磁気シートの出力エン
ベロープを調べる。次に雰囲気温度を40℃湿度
60%RHになる様に維持して、その温度におけ
る最大出力と出力エンベロープを測定し、15℃
湿度60%RHのときの出力エンベロープと40℃
湿度60%RHのときの出力エンベロープを比較
して、トラツキングが良好であるか否かを測定
する。この差が小さいほど優れたトラツキング
特性を有している。この差が3dB以上になると
トラツキングが悪く、評価としては×であり、
3dB以内のものは〇として評価する。 (4) トラツキングずれテスト(湿度変化) 前項と同様に25℃、湿度20%RHで記録し、
更に雰囲気条件を25℃湿度70%RHに保持し、
25℃湿度20%RHのときと、25℃湿度70%RH
のときの出力エンベロープを比較して、前項と
同様に、トラツキングの良好さを評価する。評
価方法は3項と同様である。 実施例 次に、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例1〜4及び比較例1〜2 Na2S・9H2Oを1モル、NaOHを0.05モル、安
息香酸ナトリウム0.6モル、Nメチルピロリドン
3.5モルをオートクレーブに入れ210℃に加熱し、
脱水を行つた。脱水終了後、糸を160℃に降温し、
1モルのP−ジクロルベンゼンを添加し、280℃
にて撹拌下で重合を行つた。重合終了後、室温ま
で降温し、水とアセトンで洗浄をくり返し洗浄を
行いポリーp−フエニレンフルフイドポリマーを
得た。 比較例として実施例と同様にして、(但し、P
−ジクロルベンゼン1モルの代わりにPジクロル
ベンゼン0.85モル、m−ジクロルベンゼン0.15モ
ルを用いた)280℃にて撹拌下で重合を行い、ポ
−P−フエニレンスルフイドとポリ−m−フエニ
レンスルフイドの共重合ポリマーを得た。 更に、比較例としてポリエチレンテレフタレー
トを常法により重合した。 これらのポリマーを300℃で溶融押出し、
1050μの未延伸フイルムを得た。次いで90〜120
℃にて縦方向に3.3〜3.7倍、100〜130℃で横方向
に3.4〜3.8倍延伸し、更に200〜270℃で10〜30秒
間型固定して厚み75μの製膜条件の異なつたフイ
ルムを得た。この様にして得られた2軸配向フイ
ルムに下記組成物の磁性塗布液を5μの厚さに塗
布した。 (磁性塗布液) γ−Fe2O3 200重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂(UCC製
VAGH) 30 〃 ポリウレタン(日本ポリウレタン工業製PP−
88) 20 〃 イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業
製コロネートHL) 40 〃 カーボン(平均サイズ0.5μφ) 20 〃 ジメチルシロキサン 2 〃 トルエン 70 〃 メチルエチルケトン 70 〃 シクロヘキサノン 70 〃 上記塗料を充分に混合・撹拌し、ポリーp−フ
エニレンスルフイドフイルムの表面上に塗布し、
次いでカレンダーロール処理を施した。この後、
外径20cm内径3.8cmの磁気記録フレキシブルデイ
スクを切抜き記録再生装置によつて試験した。 シートレコーダーは360r.p.mで回転し、磁気ヘ
ツドの位置はデイスクの中心より8cmにした。ト
ラツクの巾は300μ、ヘツドの材質はフエライト
であつた。磁気記録フレキシブルデイスクには
1MHzの信号を所定の条件で記録し、所定の条件
で再生して、出力エンベロープの差で評価した。
この磁気記録フレキシブルデイスクの15℃、60%
RH及び25℃、20%RHの場合のエンベロープは
0.2dB以下であつた。 このポリーp−フエニレンスルフイドを種々製
膜条件を変化させたフイルムについて温度・湿度
膨張率、トラツクずれテストを行施し、その結果
を第1表に示した。 第1表の結果から、実施例1〜4のものについ
てはトラツキングミスが改善されており、高温高
湿雰囲気下で磁気デイスクの使用が可能であるこ
とが判つた。これに対し、比較例1〜2のものは
高温高湿雰囲気での使用が不可能であることが判
つた。
【表】
発明の効果
磁気記録デイスクとして、その支持体に特定の
温度・湿度膨張率のポリーp−フエニレンスルフ
イド2軸配向フイルムを適用することによつて、
トラツキングミスのないものが得られる。また、
トラツク密度を高くすることによつて高密度記録
も可能となる。本発明の磁気記録デイスクは温
度・湿度による膨張率の変化が小さいため、広い
雰囲気条件に適応できる利点がある。
温度・湿度膨張率のポリーp−フエニレンスルフ
イド2軸配向フイルムを適用することによつて、
トラツキングミスのないものが得られる。また、
トラツク密度を高くすることによつて高密度記録
も可能となる。本発明の磁気記録デイスクは温
度・湿度による膨張率の変化が小さいため、広い
雰囲気条件に適応できる利点がある。
Claims (1)
- 1 プラスチツクフイルムを支持体として該支持
体に磁性層を設け表面を平滑化してなる磁気記録
デイスクにおいて、プラスチツクフイルムが90モ
ル%以上をポリ−p−フエニレンスルフイドより
なる二軸配向フイルムであつて、該フイルムの長
手方向及び巾方向を含む平面における最大の温度
膨張率が(9〜35)×10-6℃-1、最大の湿度膨張
率が(0〜5.0)×10-6%RH-1、温度膨張率の最
大値と最小値との差が(0〜8.0)×10-6℃-1かつ
湿度膨張率の最大値と最小値との差が(0〜2.0)
×10-6%RH-1であることを特徴とする磁気記録
フレキシブルデイスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5874483A JPS59185029A (ja) | 1983-04-05 | 1983-04-05 | 磁気記録フレキシブルデイスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5874483A JPS59185029A (ja) | 1983-04-05 | 1983-04-05 | 磁気記録フレキシブルデイスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59185029A JPS59185029A (ja) | 1984-10-20 |
JPH0368450B2 true JPH0368450B2 (ja) | 1991-10-28 |
Family
ID=13093038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5874483A Granted JPS59185029A (ja) | 1983-04-05 | 1983-04-05 | 磁気記録フレキシブルデイスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59185029A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0697500B2 (ja) * | 1985-10-08 | 1994-11-30 | 帝人株式会社 | 高密度磁気記録媒体 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5538613A (en) * | 1978-09-05 | 1980-03-18 | Toray Ind Inc | Base film for magnetic recording medium |
JPS5616938A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57162122A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-05 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
JPS59195321A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-06 | Toray Ind Inc | 可撓性磁気デイスク |
JPS59207022A (ja) * | 1983-05-09 | 1984-11-24 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-04-05 JP JP5874483A patent/JPS59185029A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5538613A (en) * | 1978-09-05 | 1980-03-18 | Toray Ind Inc | Base film for magnetic recording medium |
JPS5616938A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57162122A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-05 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
JPS59195321A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-06 | Toray Ind Inc | 可撓性磁気デイスク |
JPS59207022A (ja) * | 1983-05-09 | 1984-11-24 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59185029A (ja) | 1984-10-20 |
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