JPH0361331A - 金属ストリップの熱処理法およびこの方法を実施する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野コ 本発明は、金属ストリップを熱処理する方法および装置
に関するものである。

フランス特願第８８１００９０４号およびｍ　８８１０
８４２５号は実際上強制循環されないガスを収容した管
を使用して金属線材のパーライト化およびオーステナイ
ト化を実施する方法および装置を記載している。

これらの方法および装置は下記の利点を示す。

−溶融金属または溶融塩を使用せずまたガスの強制ｗｔ
環に必要なコンプレッサまたはタービンを使用しないの
で、簡単で、投資コストおよび運転コストが低い、 一正確な冷却法則が得られ、またパーライト化の場合に
再熱減少を避ける事ができる、−同一プラントについて
線材直径を大幅に変動させる事ができる、 一パーライト化の場合に溶融金属または塩を使用しない
ので衛生上の問題がなくまた線材浄化が不必要である。

［発明の目的および効果コ 本発明の目的は、金属ストリップの熱処理に際してこれ
らの利点を一般化するにある。

［発明の概要コ 従って本発明は、実際上強制循環されないガスを収容し
たケーシングの中に金属ストリップを通過させ、前記ス
トリップと前記ケーシングの壁体との間において前記ケ
ーシング中のガスを介して伝熱が実施される段階と、 実施される熱処理に対応して下記の式によって定義され
る係数ＫＴが選定され、 ここに、Ｊはストリップとケーシングとの間のガス層の
ミリメートル厚さ、Ｅはストリップのミリメートル厚さ
、またＣは８００’Ｃで特定されたガスの伝熱係数、ワ
ット＊　　ｍ−’、’に−”とする段階とを含む少なく
とも１つの金属ストリップの熱処理法に関するものであ
る。

また本発明は、 （、）実際上強制循環されないガスを収容した少なくと
も１つのケーシングと、前記ケーシングの中に少なくと
も１つの金属ストリップを通過させる手段とを含み、 （ｂ）前記装置は、前記金属ストリップと前記ケーシン
グの壁体との間に前記ケーシング中のガスを介して伝熱
作用が生じるように構成され、実施される熱処理に対応
して下記の式によって定義される係数ＫＴが選定され、 ここに、Ｊはストリップとケーシングとの間のガス層の
ミリメートル厚さ、Ｅはストリップのミリメートル厚さ
、またＣは６００℃で特定されたガスの伝熱係数、ワン
ドａｍ−”、″に−１とする事を特徴とする少なくとも
１つの金属ストリップの熱処理装置に関するものである
。

また本発明は本発明の方法および装置によって得られた
金属ストリップに関するものである。

このような金属ストリップは例えば製品の補強のため、
特にタイヤ外皮の補強のために使用する事ができる。

以下１本発明を図面に示す実施例について詳細に説明す
る。

［実施例］ 用語「ストリップｊとは、厚さより著しく大きい幅を持
つ長手方に対して垂直な断面を有する任意の細長い要素
を包括し、この要素はほぼ平坦な形状または型材形状を
有する事ができる。好ましくはストリップの幅とその厚
さの比率は少なくとも１０に等しくなし、ストリップの
櫂はその長手方に垂直な断面においてストリップの表面
に沿って測定される。

第１図と第２図は、金属ストリップｌを熱処理する事の
できる本発明による装置１００を示す、　＄１図はスト
リップの長手方に沿った装ｆｌｏＯの断面図であり、第
２図はストリップの長芋方に垂直に取られたこの装置の
断面図である。

第工図の断面図は第２図の線１−Ｉに沿った断面図であ
り、第２図は第１図のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図であ
る。

装置１００はストリップ１を熱処理する事ができ、実際
上弦８１ｉｆＩＷ！環されないガス３を含むケーシング
を有する。

装置ｌｏｏはケーシング２の中にストリップｌを繰り出
すための手段を有し、この手段は簡略化の目的で図示さ
れていないが、公知の手段であって、例えばストリップ
１を巻取るローラとし、これらのローラの少なくとも１
つがモータによって駆動される。

用語「実際上強制循環されない」とは、ケーシング２の
中のガス３が不動である事、あるいはストリップ１とガ
ス３の間の熱交換を実際上変動しない弱い通気作用を受
け、この弱い通気作用が例えばストリップ１そのものの
移動のみから生じる事を言う。

ケーシング２内部のストリップの移動は第工図において
矢印Ｆによって示されている。

装置１００は、ケーシング２を包囲するスリーブ５の中
においてケーシング２の外側を循環する熱交換流体４を
含む、熱交換流体４は導管６からスリーブ５の中に入り
、導管７から出る。この流体４の循環は第１図において
矢印Ｆ４によって図示される。流体４を循環させるため
の公知手段は簡略化のために図示されていないが、この
手段は例えばポンプを含む、流体４は例えば水とする。

熱処理に際して、伝熱は、ストリップ１とこのストリッ
プ１に対向したケーシング２の壁体２ａとの間において
ガス３を介して実施される。また伝熱は壁体２ａと流体
４との間で実施される。ケーシング２とスリーブ５は伝
熱物質、例えば金属材料によって作られ、ストリップｌ
の冷却処理の場合には、このストリップエから流体４に
向かって伝熱が生じる。

例えばセラくンクスの案内部材８がストリップ１の案内
を保証する。

伝熱係数ＫＴは下記の式によって与えられる。

Ｊはストリップ１とケーシング２との間のガスＮ３のミ
リメートル厚さ、Ｅはストリップのミリメートル厚さ、
Ｃは６００℃で特定されたガス３の伝熱係数、ワット、
ｍ−”、’に−”、好ましくはＪは少なくとも０．２ｍ
ｍに等しい、この係数ＫＴは後で述べるように実施例さ
れる熱処理に対応して選定される。

好ましくは式０．０１≦ＫＴ；５１００を得る。Ｄは厚
さＥの方向に測定された壁体２ａの間隔であり、Ｄ＝２
Ｊ＋Ｅが得られる。ストリップｌの幅はＬで表される。

ガス３は非常に種々のものであって例えば水素。

窒素、ヘリウム、水素と窒素の混合物、水素とメタンの
混合物、窒素とメタン混合物、ヘリウムとメタンの混合
物、水素、窒素およびメタンの混合物とする事ができる
。

第１図と第２図に図示のストリップ１は平坦な板状を成
すが１本発明はこのストリップが平坦でない形状を有す
る場合にも適用される。すなわち、第３図に図示の本発
明による装置２００は、山形材の形状を有するストリッ
プ位置を処理し、この場合ケーシング２は、ストリップ
１とケーシング２との間に実際上一定の厚さＪのガス３
を得るようにｌｉＩ威され、このケーシング２そのもの
が例えば円筒形の外側スリーブ５の中に配置される。厚
さＪは実施される熱処理に対応し、または処理されるス
トリップに適合させる事ができる０例えば第４図に図示
の本発明による装！３００の場合、軸線０まわりに回転
する半円筒形断面の軸１２によってこの厚さＪがｔｌ！
！整され、この軸がケーシング２の壁体２ａの間隔を変
更する。他の手段、例えばネジを使用する事ができる。

第３図と第４図は、それぞれストリップ１の長手方に対
して垂直にとられた断面および長手方にとられた断面で
ある。

第５図は本発明による他の装置４００を示し、この第５
図は装置の平面図であって、スリーブ５を除去した図で
ある。各壁体２ａはこれらの壁体と流体４との間の熱交
換を改良するため流体４の側に配置された複数のリブ２
０を備える。これらのリブ２０は、矢印Ｆで示すストリ
ップ１の長手方方向に対して直角配向を有する。これら
のそらせ板２１は導入管６と排出管７との間において流
体４をジクザグに循環させる。このような構造により、
ストリップエと流体４との間の熱交換を改良する事がで
きる。

第６図は、ストリップｌの長手方に、ストリップ対して
直角な断面°に取られた４本のリブ２０を示す。この第
６図において、リブ２０はケーシング２と密封継手９と
の間において高さＨを有し、またこれらのリブは相互間
隔Ｒにより分離され、またリブの厚さはＥａによって示
される。

第７図は本発明による装置５００の熱交換流体４の循環
の平面図である。この装置５００はリブ２０が層の長手
方に沿って、すなわち矢印Ｆ方向に配向されている事以
外は装置４００と類似であり、流体４の導入管６と排出
管７は矢印Ｆ方向に関して装置の同一側に配置される。

この装置において流体４はストリップの長手方に対して
平行に流れるが、ストリップの長手方に配置された単数
または複数のそらせ板２１番７よって逆方向に流れる。

第７図には図面を簡単にするため単一のそらせ板２１の
みを示す。

また本発明は第８図に図示の装Ｒ６００のような熱交換
流体を使用しない装置をも含む。この装置６００のケー
シング２の壁体２ａは相互に間隔りで離間された２枚の
セラミック板３０によって構成される。これらの板３０
はグループ３１を含み、これらのグループの中に、板３
０と接触した加熱用電気抵抗素子３２が配置される。ま
た第９図に示すように、各セラミックス板３２は１本の
グループを含み、その中に蛇管様の電気抵抗３２が配置
されている。第９図はそらせ板３０とその電気抵抗素子
の平面図である。この装置６００はストリップエを加熱
するため、またはその冷却を防止するために使用される
。

実１１例 下記の実施例は本発明によって実施されるストリップ熱
処理を説明するためのものである。

処理されたすべてのストリップはこれらの実施例におい
ては平坦な板の形状を威す。すなわち長方形の長手方に
垂直な断面を有する板である。

実１己４よ 鋼の２段階（二重）処理 好ましい処理は均質なオーステナイトをえるためにスト
リップを加熱する段階と、フェライト＋ベイナイト組織
を得るための冷却段階とから成る。

−ストリップの特性：厚さＥ＝３．５ｍｍ；ｆＪＬ：５
５０ｍｎ１；−ストリップの網の組ＩＩｉ：　Ｃ：０．
１０％；　Ｍｎ：０−６５％；Ｓｉ：０．５％；　Ｓ：
０．００７％；　Ｐ：０．０１５％；　Ａ１：０．０３
％；　Ｃｕ：０．２５ぢ；　Ｎｂ：０．０２□； −繰り出だし速度＝０．５鳳／Ｓ ストリップ処理装置は３部分、すなわち加熱部と２冷却
部とを含み、これらの特性は下記である。

−加熱部 前記の装置６００と同様の直列の２要素を使用する第１
要素の全公称出力は３０００に％ｌまた第２要素は１６
００ＫＷである。赤外線カメラによる温度ｍ整、ガス３
の性質：純粋水素、板３０の温度：　１２００℃、厚さ
Ｊ　：　０．２５ｍｍ、ストリップ温度：入口２０℃、
出口８５０℃±３℃、加熱部中のストリップの滞留時間
：４．８ｓ、　この部分について、ＫＴ＝７．２９゜−
第１冷却部 ケーシング２の両側に、リブを備えず、５つのそらせ板
２１を備えた装！　５００と類似の直列に配置された２
つの要素を使用する。水の流ｉ：　１１　１／ｓ、ガス
３の性質：水素と窒素の混合物、水素体ｆＪＲ６０％、
　　Ｊ＝１．７ｍ口、ストリップ滞留時間１０秒におい
て入口のストリップの温度：８５０℃、出口のストリッ
プ温度＝７５０℃。

この冷却部において＋　　ＫＴ＝９４．８６゜−第２冷
却部 この冷却部は、ケーシング２の両側においてリブを備え
５個のそらせ板２１を有する前記装置４００と類似の要
素を有する。水流量：　４０　１／ｓ、　　ガスの性質
：純粋水素＋　　Ｊ　＝０．２ｍｍ、ストリップの滞留
時間４秒においてストリンプ温度：入ロア５０℃、出口
３５０℃、ＫＴ＝　　５．８３゜ この処理全体によって得られたＮ果： 鋼組成：フェライト（８５％）＋ベイナイト、弾性限度
：　４ｇ０．７ＭＰａ、 引っ張り破断芯カニ　６１２．５ＭＰａ、破断伸び＝２
９τ 弾性限度は０．２２の伸びの存在する場合の応力である
。

好ましくは、このような２段階処理が実施される場合、
熱処理法全体は下記の式が得られるように実施される。

４≦ＫＴ≦１００ 実」Ｌ例−一２ この実施例はフランスｎ％　２，３１１．８５４号に記
載の焼き戻しマルテンサイト組織の炭素鋼の処理に関す
るものである１次の組ＩＩｉ、：　Ｃ：０．０８５％；
　Ｍｎ：０．３％；Ｓｉ：０．０５％；　Ｓ：０．０２
４％；　Ｐ：０．０２４％；　Ｃｕ：０．０５６％；　
Ｃｒ：０．０５％；　Ｎｉ：０．０２５％；　Ｎ：０．
００３％；合計０：０．０１４５％を有する鋼の厚さ２
ｍｍのストリップを冷間圧延する事によって得られた厚
さＥが１００μｍ、４１Ｌが３００ｍｍの銅ストリップ
を使用した。

ストリップの繰り出し速度：１ｍ／ｓゆプラントは８段
階の処理に対応する８処理部を含む。

一処理１：　浸炭。

前記の装置８００による直列２要素を使用し、各要素は
２ｍの長さを有する。公称加熱出カニ第１要素：　１５
０ｋＷ；第２要素：５０ｋＷ、　Ｊ　＝０．８ｍｍ；　
ＫＴ＝０．０１９゜ 浸炭ガスは下記の組成を有する：　Ｈ２：　８５％；Ｃ
Ｈ４：　、１２％；　Ｎ２：　３％（体積％）。

ストリンプ温度：入ロ２０℃：出口１０００℃。

浸炭炉の出口における炭素含有量は０．８ｚである。

好ましくは、この軟鋼の浸炭に際して、０．４−０．９
％の炭素含有量の鋼が得られる。積Ｃ％×○％は１１．
６ｘｌＯりである。引っ張り破ｔＦｔｍ抗は１１０ｋｇ
／ｍｎ２である。

一処理２ニオーステナイト化 この処理は２段階、すなわち温度上昇段階と温度保持段
階とを含む。

・温度上昇段階： この段階において、ストリップは均質なオーステナイト
を得るように（炭素の良好な溶体化を生じるように）加
熱される。装ａ　ｓｏｏと類似の２直列要素を使用する
。公称量カニ第１要素、１００ｋＷ　：第２要素、６０
ｋＷ。　　Ｊ＝０．８ｍｍ、ガス３の性質：純粋水素、
ストリップ温度：入口で２０℃、出口で９５０±３℃、
ストリップ滞留時間：’１．５ｓ。

この段階に際して、ＫＴ＝０．０１９ ・温度保持段階： 装置６００とｌ！［似の要素を使用、公称加熱出力＝５
０ｋＷ、ガス３の性質：純粋水素、Ｊ＝２ｍｍ。

ストリップは９５０±３℃に保持される。

ストリップ滞留時間：ＩＳ。

この段階においては、ＫＴ＝０．０４８゜−処理３：第
１急速冷却 装置４００に類似の２直列要素を使用、ケーシング２の
両側にリブと、５枚のそらせ板を具備、この段階の余水
：ｌ：　１．５Ｑ／ｓ、　　ガス３の性質：Ｈ２＋Ｎ２
混合物、Ｈ２は７５体積％、　　Ｊ＝０．７ｍａ＋＊ス
トリップ温度二人ロ＝９５０℃、出口：５００℃。

ストリップ滞留時間：　０．５ｓ。

この処理に際して、ＫＴ＝０．０２５゜−処３１４：第
工緩徐冷却 装［５００に類似の、リブを具備しない２直列要素を使
用、各要素はケーシング２の両側に５個のそらせ板２１
を具備、全水流′ｊｋ＝　１．：３Ｑ　／　ｓ、　　ガ
ス３の性質：　Ｈ２＋Ｎ２混合物、Ｈ２は７５体積％、
　　Ｊ＝１ｍｍｓストリップ温度二人ロ＝５００℃、出
口：５０℃。

ストリップ滞留時間：３５゜ この処理に際して、　　ＫＴ＝０．０３６゜−処理５：
低温でのオーステナイト化 この処理では、低温オーステナイト化を実施し＋　　Ａ
Ｃ３以上の温度に短時間保持する。これはオーステナイ
ト粒子の粗大化を防止し、製品の機械特性を改良させる
。

装置６００に類似の加熱要素を使用。公称加熱出カニｊ
ｌｌ要素：　８５ｋＷ、第２要素：　４５ｋＷ。赤外線
カメラによる温度調整。

ガス３の性質：純粋水素：　Ｊ　＝２．２ｍｍ。

ストリップ温度二人口＝２０℃、出口；８００±３℃。

ストリップ滞留時間：　１．５ｓ。

この処理に際して＋　　ＫＴ＝０．０５２゜−処理６：
　＠２急速冷却 装置５００に類似の、リブを具備しない２直列要素を使
用６　ケーシング２の両側に、５枚のそらせ板２１を具
備。この段階の全水量：１．Ｉ２／ｓ、　　ガス３の性
質：Ｈ２＋Ｎ２混合物、Ｈ２は６０体積％、Ｊ＝１．５
ｍｍ。

ストリップ温度二人口＝８００℃、出口；５００℃。

ストリップ滞留時間：　０．５ｓ。

この処理に際して、ＫＴ＝０−０６８゜−処理７：第２
緩徐冷却 処理４と類似の条件。

一処理８：急速焼き戻し この処理は２段階、すなわち温度上昇段階と温度保持段
階とを含む。

・温度上昇段階： 装置６００と類似の要素を使用する。公称出カニ５０ｋ
Ｗ、　Ｊ　＝　１．３ｍｍ、ガス３の性質：純粋水素、
ストリップ温度二人口で２０℃、出口で３５０±３℃。

ストリップ滞留時間：　０．５ｓ。

この段階に際して、ＫＴ＝０．０３１゜・温度保持段階
： 装置６００と類似の要素を使用。公称加熱出カニ３０ｋ
Ｗ、赤外線カメラにより出口で積層温度調整。

ガス３の性質：純粋水素、Ｊ＝２ｍｍ。

ストリップ温度：入口と出口で３５０±３℃に保持され
る。

ストリップ滞留時間：　２−５ｓ。

この段階においては＋　　ＫＴ＝０．０４８゜前記の８
処理の終了時に得られたストリップは下記の特性を有す
る： 炭素含有量：　ｏ、ａ％；積Ｃ％×○％＝　１６．６　
Ｘ　１０−’：引っ張り破断抵抗：　２６３０　ＭＰａ
。伸び：　５．３％。

好ましくはマルテンサイト組織を得るために炭素鋼を処
理する場合、下記の式を得る：０．０１≦ＫＴ≦０．１ 実」１倒−一旦 ７この実施例は、溶融亜鉛浴の中での急冷によって亜鉛
メンキする前に錆ストリップを加熱する処理にある。こ
の予熱処理は公称加熱出力１３００ｋＷの装置６００に
よって実施される。層のサイズ：厚さＥ：　２ｍｍｔ　
　＠Ｌ：　１００１００ＯＪ＝Ｏ−４ｍｍｓストリップ
の繰り出し速度：　０．２ｍ／ｓ　、　ｆｉｔ＃温度：
入口：２５℃、出口：６２０±３℃；使用ガス：純枠水
素。

ストリップ滞留時間：　３．２５ｓ。

この実施例において、ＫＴ＝３．８１゜好ましくは、亜
鉛メッキ前の予熱のため下記とする。

１≦ＫＴ≦１０ 実」（例−一生 この実施例は、加熱処理と２冷却処理とによって綱スト
リップをパーライト化処理するにある。

ストリップの鋼の組成：　Ｃ：０．８０％；　Ｍｎ：０
．６９％；Ｓｉ：０．２１％；　Ｓ：０−０２５％；　
Ｐ：０．０１８％；＾ｌ：０．０８１％；　Ｃａ：０．
０４４％；　　Ｃｒ：０．０５９％；　　Ｎｉ：０．０
１５ストリツプのサイズ：厚さＥ＝２　ｍｍ；Ｉｔｉｆ
ｉＬ：３００ｍｍ；繰り出だし速度：　０．５ｍ／ｓ ストリップ処理装置は３部分、すなわち加熱部と２冷却
部とを含み、これらの特性は下記である。

−加熱部 この処理においてはオーステナイト化を実施する。前記
の装置６００を使用する。この要素の公称加熱出力は１
７００ＫＷである。ガス３の性質：純粋水素、Ｊ　：　
０．２５ｍｒａ、ストリｙプｉ１１度：　入口２０℃、
出口９８０℃±３℃、加熱部中のストリップの滞留時間
＝５５、この処理について、ＫＴ＝２．３８゜−第１冷
却部 ケーシング２の画側に、リブを備え５枚のそらせ板２１
を備えた装置４００と類似の直列に配置された２つの要
素を使用する。

水の全流量：３０１／ｓ、ガス３の性質：純粋水素、Ｊ
＝０．３ｍｍ、ストリップ滞留時間８秒において入口の
ストリップの温度＝９８０℃、出口のストリップ温度：
２５０℃。

この冷却部において、ＫＴ＝２．８６゜−第２冷却部 この冷却部は、公知のように水槽を使用し、その中にス
トリップを浸漬する。これにより、ストリップは常温に
威される。

この処理全体によって得られたストリップは下記の特性
を有する： 鋼組成：パーライト１００％。

引っ張り破断応カニ　１１５０　ＭＰａ、破断伸びニア
％。

好ましくは、このようなパーライト化において。

好ましくは下記の式が得られるように実施される。

１≦ＫＴ≦８ 前記のすべての実施例において、本発明は下記の利点を
有する。

一実施の簡単さ、 −ｍ整の柔軟性、この故に同一のプラントで種々の厚さ
のストリップを処理する事ができる。

−投資コストと運転コストが低い、これは強制循環がな
いので、コンプレフサまたはタービンを使用せず、また
金属または溶融塩の使用が避けられるからである。

一金属または溶融塩を使用しないので、衛生上のすべて
の問題が避けられ、また処理後のストリップの浄化の必
要がない。

本発明は前記の説明のみに限定されるものでなく、その
主旨の範囲内において任意に変更実施できる。特に、本
発明は多数ウェブのストリップを同時に処理する場合を
含む。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置の縦断面図、第２図は第１図
のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図、第３図は本発明による
他の装置の横断面図、第４図は本発明によるさらに他の
装置の縦断面図、第５図はリブを備えた本発明の他の装
置の一部の平面図、第６図は第５図の装置のリブ部分の
一部の縦断面図、第７図は本発明による他の装置の一部
の平面図、第８図は本発明よの他の装置の第９図のＶＩ
ＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った縦断面図、また第９図は第８
図の装置の一部の平面図である。 １００．２００，４００，５００，８００．、、熱処理
装置、　　１．、、ストリップ、２００．ケーシング、
３．・・ガス、４・・・流体・５゛１．スリーブ、８６
６．案内部材、１２．、、回転軸、２０．、。 リブ、２１．、、そらせ板、３０．、、セラミックス板
、３１１０．グループ、３２．、、電気抵抗、Ｆｏｏ、
ストリップの方向、Ｆ４．、、流体方向。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、実際上強制循環されないガスを収容したケーシング
   の中に金属ストリップを通過させ、前記ストリップと前
   記ケーシングの壁体との間において前記ケーシング中の
   ガスを介して伝熱が実施される段階と、 実施される熱処理に対応して下記の式によつて定義され
   る係数ＫＴが選定され、 ＫＴ＝Ｊ／Ｃ×Ｅ＾２ ここに、Ｊはストリップとケーシングとの間のガス層の
   ミリメートル厚さ、Ｅはストリップのミリメートル厚さ
   、またＣは６００℃で特定されたガスの伝熱係数、ワッ
   ト．ｍ＾−＾１・°Ｋ＾−＾１とする段階とを含む事を
   特徴とする少なくとも１つの金属ストリップの熱処理法
   。 ２、関係式０．２ｍｍ≦Ｊ≦２ｍｍとする事を特徴とす
   る請求項１に記載の方法。 ３、関係式０．０１≦ＫＴ≦１００とする事を特徴とす
   る請求項１または２に記載の方法。 ４、銅ストリップの処理を実施する事を特徴とする請求
   項１乃至３のいずれかに記載の方法。 ５、式４≦ＫＴ≦１００をもつてフェライトとベイナイ
   トの２相銅ストリップを製造する事を特徴とする請求項
   ４に記載の方法。 ６、式０．０１≦ＫＴ≦０．１をもってマルテンサイト
   組織の銅ストリップを製造する事を特徴とする請求項４
   に記載の方法。 ７、０．４乃至０．９％の炭素含有量を得るように浸炭
   処理を実施する事を特徴とする請求項６に記載の方法。 ８、式１≦ＫＴ≦１０をもって、銅ストリップの亜鉛メ
   ッキ処理を実施する前に予熱処理を実施する事を特徴と
   する請求項４に記載の方法。 ９、式１≦ＫＴ≦８をもって、パーライト化処理を実施
   する事を特徴とする請求項４に記載の方法。 １０、 （ａ）実際上強制循環されないガスを収容した少なくと
   も１つのケーシングと、前記ケーシングの中に少なくと
   も１つの金属ストリップを通過させる手段とを含み、 （ｂ）前記装置は、前記金属ストリップと前記ケーシン
   グの壁体との間に前記ケーシング中のガスを介して伝熱
   作用が生じるように構成され、実施される熱処理に対応
   して下記の式によって定義される係数ＫＴが選定され、 ＫＴ＝Ｊ／Ｃ×Ｅ＾２ ここに、Ｊはストリップとケーシングとの間のガス層の
   ミリメートル厚さ、Ｅはストリップのミリメートル厚さ
   、またＣは６００℃で特定されたガスの伝熱係数、ワッ
   ト．ｍ＾−＾１・°Ｋ＾−＾１とする事を特徴とする少
   なくとも１つの金属ストリップの熱処理装置。 １１、関係式０．２ｍｍ≦Ｊ≦２ｍｍとする事を特徴と
   する請求項１０に記載の装置。 １２、関係式０．０１≦ＫＴ≦１００とする事を特徴と
   する請求項１０または１１に記載の方法。 １３、Ｊを変動させる手段を含む事を特徴とする請求項
   １０乃至１２のいずれかに記載の方法。 １４、前記ケーシングの壁体と接触する少なくとも１つ
   の電気抵抗を含む事を特徴とする請求項１０乃至１３の
   いずれかに記載の方法。 １５、前記ケーシングの外部に伝熱流体を循環させる手
   段を含む事を特徴とする請求項１０乃至１４のいずれか
   に記載の方法。 １６、請求項１乃至９のいずれかに記載の方法によつて
   得られた金属ストリップ。 １７、請求項１０乃至１５のいずれかに記載の装置によ
   つて得られた金属ストリップ。