JPH0356435A - パーフルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法 - Google Patents
パーフルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法Info
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- JPH0356435A JPH0356435A JP1190238A JP19023889A JPH0356435A JP H0356435 A JPH0356435 A JP H0356435A JP 1190238 A JP1190238 A JP 1190238A JP 19023889 A JP19023889 A JP 19023889A JP H0356435 A JPH0356435 A JP H0356435A
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-
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は,パーフルオロ(ビニルエーテル)類の低重合
法に関する.更に詳しくは,アニオン重合法によるバー
フルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法に関する。
法に関する.更に詳しくは,アニオン重合法によるバー
フルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法に関する。
〔従来の技術〕および〔発明が解決しようとする課題〕
特開昭50−117705号公報にはへキサフルオ口プ
口ペンの、またPolymer J.第19巻第8号第
985頁(19g?)にはトリフルオロスチレンのア二
オン重合がそれぞれ記載されているが,パーフルオロ(
ビニルエーテル)類のア二オン重合については未だ知ら
れていない。
特開昭50−117705号公報にはへキサフルオ口プ
口ペンの、またPolymer J.第19巻第8号第
985頁(19g?)にはトリフルオロスチレンのア二
オン重合がそれぞれ記載されているが,パーフルオロ(
ビニルエーテル)類のア二オン重合については未だ知ら
れていない。
本発明は、パーフルオロ(ビニルエーテル)類のア二オ
ン低重合を可能とする新規な低重合法を提供することを
その目的としている。
ン低重合を可能とする新規な低重合法を提供することを
その目的としている。
本発明のかかる目的は,一般式
RfO(C,F,,0)。CF = CF,(ここで.
Rfはパーフルオ口低級アルキル基であり、CIIF
IIImはバーフルオロ低級アルキレン基であり,モし
てnは0または1〜8である)で表されるパーフルオロ
(ビニルエーテル)類を、非プロトン性極性溶媒中、l
価金属フッ化物あるいは第4級アンモニウムフロライド
またはホスホニウムフ口ライド触媒の存在下で反応させ
、パホスホニウムフロラード触媒を低重合させることに
よって達成される. 低重合させるバーフルオロ(ビニルエーテル)類として
は、前記一般式のRfO(C,F2.0)。基において
,n=oのパーフルオロ低級アルキル基(Cl〜CS)
あるいはn=1〜8である CF, OCF (CF. )CF, −CF,CF.
CF,OCF(CF3)CF2−CF,CF,CF,0
[CF(CF.)CF,0]nCF(CF.)CF,
一CF, CF, CF, 0 (CF, CF2CF
20)nCF, CF, CF, −などのパーフルオ
口ビニルエーテルが用いられる.触媒として用いられる
1価金属フロライドとしては,セシウム、カリウム,ル
ビジウム、ナトリウム、リチウム、銀のフロライドが用
いられ,また第4級アンモニウムフロライドとしては、
例えばテトラメチルアンモニウムフロライド,テトラエ
チルアンモニウムフロライド、テトラプロビルアンモニ
ウムフロライド,ペンジルトリエチルアンモニウムフロ
ライド,セチルベンジルジメチルアンモニウムフロライ
ド,フェニルトリエチルアンモニウムフロライドむどが
,第4級ホスホニウムフロライドとしては、例えばペン
ジルトリフェニルホスホニウムフロライド、n−プチル
トリフエニルホスホニウムフロライド、セチルトリ(n
−ブチル)ホスホニウムフロライドなどがそれぞれ用い
られる. これらの触媒は,バホスホニウムフロラード触媒に対し
て約1〜50重量2、好ましくは約5〜30重Jlフの
割合で用いられる.反応上からは,これ以上の割合で用
いることもできるが,高価であるため経済的に好ましく
ない。一方、これ以下の使用割合では、反応時間が長く
なり、また反応の安定性も得られ難くなる。
Rfはパーフルオ口低級アルキル基であり、CIIF
IIImはバーフルオロ低級アルキレン基であり,モし
てnは0または1〜8である)で表されるパーフルオロ
(ビニルエーテル)類を、非プロトン性極性溶媒中、l
価金属フッ化物あるいは第4級アンモニウムフロライド
またはホスホニウムフ口ライド触媒の存在下で反応させ
、パホスホニウムフロラード触媒を低重合させることに
よって達成される. 低重合させるバーフルオロ(ビニルエーテル)類として
は、前記一般式のRfO(C,F2.0)。基において
,n=oのパーフルオロ低級アルキル基(Cl〜CS)
あるいはn=1〜8である CF, OCF (CF. )CF, −CF,CF.
CF,OCF(CF3)CF2−CF,CF,CF,0
[CF(CF.)CF,0]nCF(CF.)CF,
一CF, CF, CF, 0 (CF, CF2CF
20)nCF, CF, CF, −などのパーフルオ
口ビニルエーテルが用いられる.触媒として用いられる
1価金属フロライドとしては,セシウム、カリウム,ル
ビジウム、ナトリウム、リチウム、銀のフロライドが用
いられ,また第4級アンモニウムフロライドとしては、
例えばテトラメチルアンモニウムフロライド,テトラエ
チルアンモニウムフロライド、テトラプロビルアンモニ
ウムフロライド,ペンジルトリエチルアンモニウムフロ
ライド,セチルベンジルジメチルアンモニウムフロライ
ド,フェニルトリエチルアンモニウムフロライドむどが
,第4級ホスホニウムフロライドとしては、例えばペン
ジルトリフェニルホスホニウムフロライド、n−プチル
トリフエニルホスホニウムフロライド、セチルトリ(n
−ブチル)ホスホニウムフロライドなどがそれぞれ用い
られる. これらの触媒は,バホスホニウムフロラード触媒に対し
て約1〜50重量2、好ましくは約5〜30重Jlフの
割合で用いられる.反応上からは,これ以上の割合で用
いることもできるが,高価であるため経済的に好ましく
ない。一方、これ以下の使用割合では、反応時間が長く
なり、また反応の安定性も得られ難くなる。
反応溶媒として用いられる非プロトン性極性溶媒として
は、例えばエチレングリコールジメチルエーテル.ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリ
コールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジ
メチルエーテル,ジエチレングリコールジブチルエーテ
ルなどのグライム類,プチルセロソルブアセテート,メ
チルセロソルブアセテート、エチレングリコールジアセ
テート、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類,ジメチルホルムアミド
,ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどのアミド類、スルホラン
、ジメチルスルホキシドなどの含イオウ化合物、テトラ
ヒド口フラン,ジオキサンなどのエーテル類,アセトニ
トリルなどの二トリル類などが用いられる。
は、例えばエチレングリコールジメチルエーテル.ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリ
コールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジ
メチルエーテル,ジエチレングリコールジブチルエーテ
ルなどのグライム類,プチルセロソルブアセテート,メ
チルセロソルブアセテート、エチレングリコールジアセ
テート、酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類,ジメチルホルムアミド
,ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどのアミド類、スルホラン
、ジメチルスルホキシドなどの含イオウ化合物、テトラ
ヒド口フラン,ジオキサンなどのエーテル類,アセトニ
トリルなどの二トリル類などが用いられる。
反応に際しては、一般に非水系で行われることが好まし
く,水、酸などの不純物は極力排除される。反応は,上
記の溶媒、触媒およびバホスホニウムフロラード触媒の
3者を混合し、一般に約−40〜+150℃、好ましく
は約−30〜100℃の温度で行われる.これ以下の温
度では,重合速度が遅すぎて工業的に不利であり,一方
これより高い温度では、副反応が多くなり収率を低下さ
せる.反応終了後は,反応混合物を静置して下層を分離
し,水洗、脱水した後,必要に応じて減圧下で低沸点留
分を除去し、目的物を得る。
く,水、酸などの不純物は極力排除される。反応は,上
記の溶媒、触媒およびバホスホニウムフロラード触媒の
3者を混合し、一般に約−40〜+150℃、好ましく
は約−30〜100℃の温度で行われる.これ以下の温
度では,重合速度が遅すぎて工業的に不利であり,一方
これより高い温度では、副反応が多くなり収率を低下さ
せる.反応終了後は,反応混合物を静置して下層を分離
し,水洗、脱水した後,必要に応じて減圧下で低沸点留
分を除去し、目的物を得る。
この反応の結果、低重合物(オリゴマー)の混合物が反
応生成物として得られるが、その反応機構は例えばパー
フルオロ(メチルビニルエーテル)[F一MVEIの場
合、次の如くであると考えられる。
応生成物として得られるが、その反応機構は例えばパー
フルオロ(メチルビニルエーテル)[F一MVEIの場
合、次の如くであると考えられる。
3量体
4量体
〔作用〕および〔発明の効果〕
本出願人は先に、第4級アンモニウム塩(主にクロライ
ド)が異性化反応触媒としてヘプタフルオ口イソブテニ
ルエーテル(CF. )2C = CFORを異性化さ
せて3,3.3− トリフルオ口−2−トリフルオロメ
チル−2一置換プロピオン酸フロライド(CF! ).
CRCOFを生或させること(特開昭61−225,
150号公報)ならびにアルカリ金属フロライドまたは
第4級アンモニウムフロライドがカルボン酸フロライド
RfCOF.テトラフルオロエチレンおよび塩化ヨウ素
,臭化ヨウ素またはヨウ素の反応で含ヨウ素パーフルオ
ロエーテルRfCF20CF,CF,Iを製造する際の
触媒として作用すること(同64−70,427号公報
)を見出している. しかるに、本発明においては、1価金属フッ化物あるい
は第4級アンモニウムフロライドまたはホスホニウムフ
ロライドがパーフルオロ(ビニル工一テル〉類の7二オ
ン重合という全く別異の反応の触媒として作用すること
が見出された.得られた反応生成物は、低重合物(オリ
ゴマー)であり、それは完全にフッ素化された溶媒また
はオイルなどとして耐腐食性が要求される用途などに用
いられ、あるいはフルオロカーボン官能基として利用し
得る中間体を形成する. 〔実施例〕 次に、実施例について本発明を説明する。
ド)が異性化反応触媒としてヘプタフルオ口イソブテニ
ルエーテル(CF. )2C = CFORを異性化さ
せて3,3.3− トリフルオ口−2−トリフルオロメ
チル−2一置換プロピオン酸フロライド(CF! ).
CRCOFを生或させること(特開昭61−225,
150号公報)ならびにアルカリ金属フロライドまたは
第4級アンモニウムフロライドがカルボン酸フロライド
RfCOF.テトラフルオロエチレンおよび塩化ヨウ素
,臭化ヨウ素またはヨウ素の反応で含ヨウ素パーフルオ
ロエーテルRfCF20CF,CF,Iを製造する際の
触媒として作用すること(同64−70,427号公報
)を見出している. しかるに、本発明においては、1価金属フッ化物あるい
は第4級アンモニウムフロライドまたはホスホニウムフ
ロライドがパーフルオロ(ビニル工一テル〉類の7二オ
ン重合という全く別異の反応の触媒として作用すること
が見出された.得られた反応生成物は、低重合物(オリ
ゴマー)であり、それは完全にフッ素化された溶媒また
はオイルなどとして耐腐食性が要求される用途などに用
いられ、あるいはフルオロカーボン官能基として利用し
得る中間体を形成する. 〔実施例〕 次に、実施例について本発明を説明する。
実施例1
ガラス製反応器内に,
CF3CF2CF, 0[CF (CF, )CF20
14CF = CF2(分子量930)86.8g(0
.093モル)、テトラグライム95gおよびフッ化セ
シウム15.2g(0.1モル)を仕込み、70℃でI
9.5時間反応させた後、下層を分離し、水洗,脱水し
て透明な油状物81.7g(回収率94.1%)を得た
.この油状物をGLC(SE−30 X 2+mカラム
、カラム温度50〜250℃、昇温速度10℃/分)に
かけ,ガスクロマトグラフィーピークの面積比により、
下記組成を確認した。
14CF = CF2(分子量930)86.8g(0
.093モル)、テトラグライム95gおよびフッ化セ
シウム15.2g(0.1モル)を仕込み、70℃でI
9.5時間反応させた後、下層を分離し、水洗,脱水し
て透明な油状物81.7g(回収率94.1%)を得た
.この油状物をGLC(SE−30 X 2+mカラム
、カラム温度50〜250℃、昇温速度10℃/分)に
かけ,ガスクロマトグラフィーピークの面積比により、
下記組成を確認した。
原料物質 39.7%
2量体 57.2%
3量体 3.1%
実施例2
実施例1において、フッ化セシウムの代わりにテトラエ
チルアンモニウムフロライド14.9g(0.1モル)
を用い、透明な油状物77.9g(回収率89.7%)
を得た。この油状物をGLCにかけ、その組成を確認す
ると次の如くであった。
チルアンモニウムフロライド14.9g(0.1モル)
を用い、透明な油状物77.9g(回収率89.7%)
を得た。この油状物をGLCにかけ、その組成を確認す
ると次の如くであった。
原料物質 19.3%
2量体 72.9%
3量体 7.8%
実施例3
容量IQのSUS製オートクレープ中に,パーフルオロ
(メチルビニルエーテル)142g(0.855モル)
、テトラグライム250gおよびフッ化セシウム15.
2g(0.1モル)を仕込み、30℃で48時間反応さ
せた後、ガス状物を回収し、残留液状物を取り出した.
この液状物を氷水で素早く水洗し,脱水してサラサラし
た透明な液状物を97.2g(回収率68.4%)得た
。
(メチルビニルエーテル)142g(0.855モル)
、テトラグライム250gおよびフッ化セシウム15.
2g(0.1モル)を仕込み、30℃で48時間反応さ
せた後、ガス状物を回収し、残留液状物を取り出した.
この液状物を氷水で素早く水洗し,脱水してサラサラし
た透明な液状物を97.2g(回収率68.4%)得た
。
ガスクロマトグラフィーピーク面積比によるその組成は
、次の如くであった. 2量体(GC−MS M−19 : 313) 5
9.1%3量体(GC−MS N−19 : 479)
34.7%4量体 6.1
%711)GC一MS :ガスクロマトグラフィー一マ
ススペクト口グラフィー 注2)F−NMR : 島津製作所製QP−1000を使用 親ピークは検出されなかったもの の、F原子1個のはずれたピークを 検出 フッ素のNMR 日立製作所製RF−24を使用
、次の如くであった. 2量体(GC−MS M−19 : 313) 5
9.1%3量体(GC−MS N−19 : 479)
34.7%4量体 6.1
%711)GC一MS :ガスクロマトグラフィー一マ
ススペクト口グラフィー 注2)F−NMR : 島津製作所製QP−1000を使用 親ピークは検出されなかったもの の、F原子1個のはずれたピークを 検出 フッ素のNMR 日立製作所製RF−24を使用
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 RfO(C_mF_2_mO)_nCF=CF_2(こ
こで、Rfはパーフルオロ低級アルキル基であり、C_
mF_2_mはパーフルオロ低級アルキレン基であり、
そしてnは0または1〜8である)で表されるパーフル
オロ(ビニルエーテル)類を、非プロトン性極性溶媒中
、1価金属フッ化物あるいは第4級アンモニウムフロラ
ードまたはホスホニウムフロラード触媒の存在下で反応
させることを特徴とするパーフルオロ(ビニルエーテル
)類の低重合法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190238A JP2729838B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | パーフルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190238A JP2729838B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | パーフルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356435A true JPH0356435A (ja) | 1991-03-12 |
JP2729838B2 JP2729838B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=16254799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1190238A Expired - Fee Related JP2729838B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | パーフルオロ(ビニルエーテル)類の低重合法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2729838B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001354719A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-12-25 | Ausimont Spa | フルオロエラストマー |
JP2007092076A (ja) * | 2002-04-23 | 2007-04-12 | Yunimatekku Kk | 含フッ素エラストマーおよびその組成物 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6822059B2 (en) | 2002-04-05 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Dispersions containing bicomponent fluoropolymer particles and use thereof |
US6833418B2 (en) | 2002-04-05 | 2004-12-21 | 3M Innovative Properties Company | Dispersions containing perfluorovinyl ether homopolymers and use thereof |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP1190238A patent/JP2729838B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001354719A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-12-25 | Ausimont Spa | フルオロエラストマー |
JP2012041557A (ja) * | 2000-04-21 | 2012-03-01 | Solvay Solexis Spa | フルオロエラストマー |
JP2007092076A (ja) * | 2002-04-23 | 2007-04-12 | Yunimatekku Kk | 含フッ素エラストマーおよびその組成物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2729838B2 (ja) | 1998-03-18 |
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---|---|---|---|
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