JPH0354245A - 安定化された塩素化塩化ビニル樹脂組成物 - Google Patents
安定化された塩素化塩化ビニル樹脂組成物Info
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し産業上の利用分野〕
本発明はとくに初期着色性が改良された塩素化塩化ビニ
/V樹脂組或物に関する。
/V樹脂組或物に関する。
塩素化塩化ビニル樹脂は塩化ビニ/I/樹脂に比べて熱
変形温度が高いために耐熱性に優れ,電子部品ケース,
銘板,食品容器等の透明加工製品への用途の拡大が期待
されている。
変形温度が高いために耐熱性に優れ,電子部品ケース,
銘板,食品容器等の透明加工製品への用途の拡大が期待
されている。
公知のごとく,塩素化塩化ビニル樹脂(以下cpvcと
称す)も塩化ビニル樹脂(以下pvcと称す)と同様に
熱及び光によって劣化を受ける。
称す)も塩化ビニル樹脂(以下pvcと称す)と同様に
熱及び光によって劣化を受ける。
またcpvcは或形溶融時に一部分解し,初期着色を生
じ,透明製品とするには好ましくない。
じ,透明製品とするには好ましくない。
そこで熱劣化に対しては,或形加工時に,鉛安定剤,金
属石けん安定剤,有機錫安定剤,エボキシ化合物,有機
亜リン酸エステル.抗酸化剤等を添加する方法で,1た
或形溶融時の初期着色に対しては,有機錫ビス(メルカ
プトカノレホン酸エヌテル)と塩酸との反応生或物(油
秋物質)を添加する方法(特開昭63 − 24883
8号)でそれぞれを防止している。
属石けん安定剤,有機錫安定剤,エボキシ化合物,有機
亜リン酸エステル.抗酸化剤等を添加する方法で,1た
或形溶融時の初期着色に対しては,有機錫ビス(メルカ
プトカノレホン酸エヌテル)と塩酸との反応生或物(油
秋物質)を添加する方法(特開昭63 − 24883
8号)でそれぞれを防止している。
しかしながら上記の熱劣化防止法は熱劣化に対してはあ
る程度有効であるが,初期着色性を防止できないし,1
た上記の初期着色防止法では,該有機錫化合物と塩酸と
の反応条件の設定等が困難で.一定組或の反応油状物質
が得られず,一定品質の工業加工製品にできない欠点が
ある。
る程度有効であるが,初期着色性を防止できないし,1
た上記の初期着色防止法では,該有機錫化合物と塩酸と
の反応条件の設定等が困難で.一定組或の反応油状物質
が得られず,一定品質の工業加工製品にできない欠点が
ある。
本発明者等は上記欠点を改良するために鋭意研究の結果
.cpvcに特定の有#M錫マレート化合物と,金属ハ
ライド又は/及びメルカデトカルボン酸エステルを併用
添加することにより,初期着色性を改良したcpvc組
或物が得られることを見出し本発明に至った。
.cpvcに特定の有#M錫マレート化合物と,金属ハ
ライド又は/及びメルカデトカルボン酸エステルを併用
添加することにより,初期着色性を改良したcpvc組
或物が得られることを見出し本発明に至った。
すなわち,本発明は,塩素化塩化ビニ/l/樹脂100
重量部に対し, (a) 一般式CI’l , CI’D及び〔■〕R
aSn coocc}{ = CHCOOR’)4−.
C I 〕R +Sn − 00C CH = CHCOO→i
[11〕I R (式中Rは炭素数1〜18個のアノレキル基,炭素数1
〜12個のアルコキシ力ルポニルエチル基を Rlj−
1炭XM1〜22個のアルキル基,アルケニル基,アラ
ルキル基,アルコキシア/レキル基又はシクロアルキル
基を,Aは酸素原子又は基−00C CH=CHCO(
}−を,aは1又は2をmは2〜10の整数をそれぞれ
示す)で表わされる有機錫マレート化合物から選ばれる
1種又は2種以上をo.oi〜5重量部と,(b)
一般式(IVI及び〔v〕 MXt[Y:] (式中Rは上記ど同意義であう.Xぱ塩素原子,臭素原
子又はヨウ素原子を,YはR,X,基S (CH2),
COOR2又は基一S (CHz)2 00CR” (
R”は炭素数1〜22個のアルキル基,アルケニ/I
/基,アラルキル基,アルコキシアルキル基又はシクロ
アノレギル基を,bは1又ぱ2をそれぞれ示す)を,M
はZn, AI, Fe,Sb+Ti,Bi+Mn+G
a又はSnの金凍原子を,tは金属の原子価をそれぞれ
示す)で表わされる金属ハライドから選ばれる1種又は
2捕以上を0.01〜3重量部又は/及び (C) 一般式CF.,(■〕,〔■), (IX)
, 〔X)及び〔M〕HS(CH2) COOR”
[l’Up HS (CH2)200CR2〔■〕 H S ( CH2 ) C OO ( CH2 )q
0 0C ( CH2 )p S H [
:■〕p H S ( CH2 )z 00 C ( CH2 )
t CO O ( CH2 )2 3 H C
IX )CCCHzO(X;(CH2)psHL
〔X)CH3 C(CH200C
(CH2)pSH)3 [M)(式
中R2は上7己と同意義であり,pは1又は2をqは2
〜4の整数を,tはO〜8の整数をそれぞれ示す)で表
わされるメルカプトカル本ン酸エステルから選ばれる1
種又は2種以上をO、01〜5重是部とを添加してなる
安定化された塩素化複化ビニル樹脂組成物である。
重量部に対し, (a) 一般式CI’l , CI’D及び〔■〕R
aSn coocc}{ = CHCOOR’)4−.
C I 〕R +Sn − 00C CH = CHCOO→i
[11〕I R (式中Rは炭素数1〜18個のアノレキル基,炭素数1
〜12個のアルコキシ力ルポニルエチル基を Rlj−
1炭XM1〜22個のアルキル基,アルケニル基,アラ
ルキル基,アルコキシア/レキル基又はシクロアルキル
基を,Aは酸素原子又は基−00C CH=CHCO(
}−を,aは1又は2をmは2〜10の整数をそれぞれ
示す)で表わされる有機錫マレート化合物から選ばれる
1種又は2種以上をo.oi〜5重量部と,(b)
一般式(IVI及び〔v〕 MXt[Y:] (式中Rは上記ど同意義であう.Xぱ塩素原子,臭素原
子又はヨウ素原子を,YはR,X,基S (CH2),
COOR2又は基一S (CHz)2 00CR” (
R”は炭素数1〜22個のアルキル基,アルケニ/I
/基,アラルキル基,アルコキシアルキル基又はシクロ
アノレギル基を,bは1又ぱ2をそれぞれ示す)を,M
はZn, AI, Fe,Sb+Ti,Bi+Mn+G
a又はSnの金凍原子を,tは金属の原子価をそれぞれ
示す)で表わされる金属ハライドから選ばれる1種又は
2捕以上を0.01〜3重量部又は/及び (C) 一般式CF.,(■〕,〔■), (IX)
, 〔X)及び〔M〕HS(CH2) COOR”
[l’Up HS (CH2)200CR2〔■〕 H S ( CH2 ) C OO ( CH2 )q
0 0C ( CH2 )p S H [
:■〕p H S ( CH2 )z 00 C ( CH2 )
t CO O ( CH2 )2 3 H C
IX )CCCHzO(X;(CH2)psHL
〔X)CH3 C(CH200C
(CH2)pSH)3 [M)(式
中R2は上7己と同意義であり,pは1又は2をqは2
〜4の整数を,tはO〜8の整数をそれぞれ示す)で表
わされるメルカプトカル本ン酸エステルから選ばれる1
種又は2種以上をO、01〜5重是部とを添加してなる
安定化された塩素化複化ビニル樹脂組成物である。
−]二記一般式[:’I] , ca〕又は〔■〕で表
わされる有機処マレート化合物としては,例えばジアル
キル賜ビス(エチルマレート).ジアルキル錫ビス(プ
チルマレート),ジアルキ)V錫ビス(ヘプチ札・マレ
ート),ジアルキ/”!ビス(オクチルマレ−1・),
シアノレキノレ賜ヒヌ(ノニノレマレート),シアルキ
ノレ賜ビス(ドデシノ1/マレート).ジアノレキノレ
錫ビス(テトラデシルマレート),シアノし・キ/L’
!ビス(ヘキサデシルマレート),シアルキル錫ビス(
オクタデシ/レマレート),ジアノレキノレ賜ビス(オ
レイノレマレート).ジアルギivaビス(ペンジルマ
レート),ジアルキ/L’gビス(シクロヘキシルマレ
ート).ジアルキ/”gビク(メトキシブチルマレート
),モノアルキ/V錫トリス(メチ ノレマ レ ー
ト), モ ノ ア ノレ キ ノレ錫ト リ ス
( フ゛チ ノレマレート),モノアルキル錫トリス
(オクナルマL/− ト) *モノアルキ/l’aトリ
ス(デシルマレート),モノアルキ/I/錫トリヌ(オ
クタデシルマl/一ト),ビス(アルコキシ力ルポニル
エチ/V)錫ビス(メチルマレート).ビス(アルコキ
シカルボニルエチ)L/) gビス(オクチルマレート
).ビス(アルコキシ力ルポニルエチ/v)uビス(ペ
ンジルマレート),ビス(プルコキシカルボニルエチ/
L/)錫ビス(オレイノレマレート).アルコキシ力
ノレボ ニ ノレエ チノレ錫ト リ ス ( エ
チノレマ レ ー ト ),アルコキシカルポニルエチ
ノレ賜トリス(ドデシルマレート).ジアルキル錫マレ
ートポリマー,ビス(ジアルキノレ錫エチルマレート)
マv−ト,ビヌ(シアルキtvmブチ7レマレート)マ
レート.ヒス(ジアルキ/v錫オクチルマレート)マレ
ート,ヒス(ジアルキ/v錫ドデシルマレート)マレー
ト,ビス〔アルキノレ錫ビス(メチルマレート)〕マレ
ー ト,ビス〔アルキJv錫ビス(ペンジルマレート)
〕マレート,ビス〔ビス(アルコキシ力ルポニルエチ/
L/)錫へプチルマレート〕マレート,ビス〔ビス(ア
ルコキシ力ルポニルエチ)V )錫テトラデシ6lレマ
レート〕マレート,ビヌ〔アノレコキシカノレボニノレ
エチ)l+/錫ビス(シクロヘキシルマレート)〕マレ
ート,ビス〔アノレコキシカノレポニノレエチノレ錫l
コ′ス(ヘキサデシ!レマレート)〕マレート,ビス(
ジアルキJv錫エチルマレート)オキサイド,ビス(ジ
アρキ/L/賜グチルマレート)オキサイド,ビス〔ア
ルキノレ錫ビヌ(ヘプチ!レマレート)〕オキサイド,
ビス〔アルキノレ錫ビス(オクチルマレート)〕オキサ
イド,ビヌ〔ビス(アルコキシカ/l/ボニルエチ/L
/)錫デl7,/レマレート〕オキサイド,ビヌ〔アル
コキシカルポニノレエf /L’ 錫ビヌ(ヘキサデシ
ルマレート)〕オキサイドなどが挙ケラレる。ここでジ
アルキ/L’錫としては,シメチノレ錫,ジブチノレ錫
,ジオクチノレ錫,シドデシ/L’!.ジヘキサデン/
L/錫,ジオクタデシ/I/賜などを,七ノアμキ/l
/錫としては.モノメチル賜,モノブチ/V錫,モノオ
クチノレ錫,モノドデシZI/a.モノヘキナデシノレ
錫などヲ,ビス(アノレコキシ力ノレボニノレエチ#
) !!!,としては,ビス(メトキシカルボニルエチ
ノレ )錫, ビ ス ( エ ト キ シ カ ノ
レ ボ ニ ノレ エ チ ノレ )錫,ビス(ブトキ
シ力ルポニルエチル)錫,ビス(オクトキシ力ルポニル
エチノレ)!.ビヌ(ドデシノレオキシ力ルポニルエチ
/I/)錫などを,アルコキシ力ルポニルエチ)v賜と
しては,メトキシカノレボニ7・レエ f)レ錫,
エ ト キ シ カ ノレポ ニ ノレ エ チ lレ
錫. フ゛ トキシカノレボニルエチル錫.オクトキ
シカノレポニルエチ/V錫,ドデシルオキシ力ルポニノ
レエfA/Qなどをそれぞれ挙げることができる。
わされる有機処マレート化合物としては,例えばジアル
キル賜ビス(エチルマレート).ジアルキル錫ビス(プ
チルマレート),ジアルキ)V錫ビス(ヘプチ札・マレ
ート),ジアルキ/”!ビス(オクチルマレ−1・),
シアノレキノレ賜ヒヌ(ノニノレマレート),シアルキ
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〕マレート,ビス〔ビス(アルコキシ力ルポニルエチ/
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コ′ス(ヘキサデシ!レマレート)〕マレート,ビス(
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アρキ/L/賜グチルマレート)オキサイド,ビス〔ア
ルキノレ錫ビヌ(ヘプチ!レマレート)〕オキサイド,
ビス〔アルキノレ錫ビス(オクチルマレート)〕オキサ
イド,ビヌ〔ビス(アルコキシカ/l/ボニルエチ/L
/)錫デl7,/レマレート〕オキサイド,ビヌ〔アル
コキシカルポニノレエf /L’ 錫ビヌ(ヘキサデシ
ルマレート)〕オキサイドなどが挙ケラレる。ここでジ
アルキ/L’錫としては,シメチノレ錫,ジブチノレ錫
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エチノレ)!.ビヌ(ドデシノレオキシ力ルポニルエチ
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エ ト キ シ カ ノレポ ニ ノレ エ チ lレ
錫. フ゛ トキシカノレボニルエチル錫.オクトキ
シカノレポニルエチ/V錫,ドデシルオキシ力ルポニノ
レエfA/Qなどをそれぞれ挙げることができる。
上記一般式[:lL)又は〔v〕で表わされる金属ハラ
イドとし,では.ジアルキ/VWシクロライド.ジアド
.モノアノレキノレ錫トリクロライト゛.モノアμキp
錫トリプロマイド.七ノアノレキp錫トリアイオダイド
,ビス(アノレコキシカルボニNエチノレ)錫ジクロフ
ィド,ビス(アノレコキシ力ルポニノレエチノレ)錫ジ
ブロマイド.ビス(アノレコキシカルボニルエチ)V
)錫ジアイオダイド,アノレコキシ力ルポニルエチ)V
錫トリクロライド,7μコキシカルボニノレエチ)Vu
トリブロマイド,アルコキシカルポニルエチノレ錫トリ
アイオダイド,ジアpキ/L/錫インオクチルメ〃カプ
トアセテートクロライト゛,ジアルキノレ錫2−エチl
レヘキシpメノレカフ6トアセテートクロライド,ジア
ノレキlv錫ドデシルメノレカフ0トプロピオネートブ
ロマイド,ジアpキル錫ヘキサデシρメノレカブトプロ
ビオネートアイオダイト゛モノア〃キlvlJixビス
(インノニpメノレカデトアセテート)クロフィド,七
ノアノレキμ錫ビス(オレイルメノレカブトプロピオネ
ート)ブロマイド,七ノアpキノレ錫インオクチルメノ
レカフ゜トアセテートジクロフイド,ジアノレキ/L/
錫2−メpカフ6トエチノレカデリレートクロライド,
モノアルキlv錫ピス(2−メノレカプトエチルオレー
ト)クロライド,モノアルキノレ錫2−メルカプトエチ
ルステアレートシクロライト,ヒス(アノレコキシ力ノ
レボニノレエチル)錫イソオクチノレメノレカブトアセ
テートクロライド,ビス(アルコキシカノレポニルエチ
ル)錫2−エチノレへキシルプロピオネートブロマイド
,ビス(アノレコキシカノレポニルエチ/” ) 錫2
−メノレカプトエチノレ力プリレートクロライド,アル
コキシ力ルポニルエチル錫ドデシルメノレカブトアセテ
ートジクロライド,アルコキシカルボニノレエチル錫ビ
ス(2−メノレカグトエチルラウレート)クロライド,
アルコキシカルボニノレエチlレ錫2−メノレカプトエ
チノレリノレートジクロライド.アノレコキシカルポニ
ルエチIv錫ビス(デシルメノレカブトアセテート)ク
ロフィド* ZnCIz * ZnBr2 , ZnI
2 , AICl31AIBr3 , AI I3 ,
FeCl2 , FeCl3 , FeBr21 F
eBrs , Felz, SbCh ,SbCI5
+ SbBr3 * SbI3 ,TiC1x p T
iC14 + TiBr2 , TiBr4, Tie
2*Ti I4 , BiC13 , BiBr3 ,
BiIs + MnC]z , MnBr2 , M
n■z , GaCIg .GaBr3+ Gaps
+ SnCI2+ SnC+4 1 SnBr2 ,
SnBr4 , SriI2 , !3nI4などが挙
げられる。ここでジアμキノレ錫.モノアルキ/L/&
llll ビス(ア/レコキシカノレポニpエチ/L/
)錫及び7μコキシカルボニノレエチ/l/錫は前記と
同意義である。
イドとし,では.ジアルキ/VWシクロライド.ジアド
.モノアノレキノレ錫トリクロライト゛.モノアμキp
錫トリプロマイド.七ノアノレキp錫トリアイオダイド
,ビス(アノレコキシカルボニNエチノレ)錫ジクロフ
ィド,ビス(アノレコキシ力ルポニノレエチノレ)錫ジ
ブロマイド.ビス(アノレコキシカルボニルエチ)V
)錫ジアイオダイド,アノレコキシ力ルポニルエチ)V
錫トリクロライド,7μコキシカルボニノレエチ)Vu
トリブロマイド,アルコキシカルポニルエチノレ錫トリ
アイオダイド,ジアpキ/L/錫インオクチルメ〃カプ
トアセテートクロライト゛,ジアルキノレ錫2−エチl
レヘキシpメノレカフ6トアセテートクロライド,ジア
ノレキlv錫ドデシルメノレカフ0トプロピオネートブ
ロマイド,ジアpキル錫ヘキサデシρメノレカブトプロ
ビオネートアイオダイト゛モノア〃キlvlJixビス
(インノニpメノレカデトアセテート)クロフィド,七
ノアノレキμ錫ビス(オレイルメノレカブトプロピオネ
ート)ブロマイド,七ノアpキノレ錫インオクチルメノ
レカフ゜トアセテートジクロフイド,ジアノレキ/L/
錫2−メpカフ6トエチノレカデリレートクロライド,
モノアルキlv錫ピス(2−メノレカプトエチルオレー
ト)クロライド,モノアルキノレ錫2−メルカプトエチ
ルステアレートシクロライト,ヒス(アノレコキシ力ノ
レボニノレエチル)錫イソオクチノレメノレカブトアセ
テートクロライド,ビス(アルコキシカノレポニルエチ
ル)錫2−エチノレへキシルプロピオネートブロマイド
,ビス(アノレコキシカノレポニルエチ/” ) 錫2
−メノレカプトエチノレ力プリレートクロライド,アル
コキシ力ルポニルエチル錫ドデシルメノレカブトアセテ
ートジクロライド,アルコキシカルボニノレエチル錫ビ
ス(2−メノレカグトエチルラウレート)クロライド,
アルコキシカルボニノレエチlレ錫2−メノレカプトエ
チノレリノレートジクロライド.アノレコキシカルポニ
ルエチIv錫ビス(デシルメノレカブトアセテート)ク
ロフィド* ZnCIz * ZnBr2 , ZnI
2 , AICl31AIBr3 , AI I3 ,
FeCl2 , FeCl3 , FeBr21 F
eBrs , Felz, SbCh ,SbCI5
+ SbBr3 * SbI3 ,TiC1x p T
iC14 + TiBr2 , TiBr4, Tie
2*Ti I4 , BiC13 , BiBr3 ,
BiIs + MnC]z , MnBr2 , M
n■z , GaCIg .GaBr3+ Gaps
+ SnCI2+ SnC+4 1 SnBr2 ,
SnBr4 , SriI2 , !3nI4などが挙
げられる。ここでジアμキノレ錫.モノアルキ/L/&
llll ビス(ア/レコキシカノレポニpエチ/L/
)錫及び7μコキシカルボニノレエチ/l/錫は前記と
同意義である。
上記〔■〕〜(Xl〕で表わされるメlレカフ゜トカp
ボン酸エステpとしては,例えばメルカフ゜ト酢酸又は
メルカプトプロビオン酸のアノレキ〜エステ/I/(こ
こでアルキルとしては,メチ/L/,エチノレ,ブチノ
レへプチノレ,イソオクチp,2−エチノレヘキシノレ
,ノニノレ,デシル,ドデシノレ,テトラデシル,ヘキ
サデシル.オクタデシル,オレイルなどを示ス)酢酸2
−メルカデトエチルエステル,フ“ロヒ゜オン酸2−メ
/I/カブトエチノレエステル,カプリμ酸2−メルカ
プトエチルエヌテA/,カプロン酸2−メルカブトエチ
μエステp,デカン酸2−メルカフトエチルエステル,
ラウリン酸2−メノレカ7″トユチノレエステル,ミリ
スチン酸2−メノレカフ゜トエグルエステノレ,パルミ
チン酸2−メルカフ゜トエチノ1エステノレ,2−エチ
ルヘキサン酸2−メノレカプ1エチノレエステル,ステ
アリン酸2−メルカグトコチルエステル.オレイン酸2
−メノレカデトエチノレエ ス テノレ , リ ノ
ー ノレ酸 2 − メ ノレカ フ0 ト エ チ
ノレ エ ステ/レ , リ ノ レ ン酸 2 −
メ ノレカ フ0 ト エ チ ノレエ ス テ ノ
レ ,エチレングリコールビス(メノレカ70ト酢酸エ
ステ/L/).エチレングリコールヒス(メノレカフ゜
トフ6ロビオン酸エステ/’ ) t プロピレンク′
リコーJレビス(メノレカ1ト酢酸エステtV ) *
フ0ロヒ゜レンク゛リコーノレビス(メノレカプトプロ
ピオン酸エステル),プチレングリコーノレビス(メノ
レカフ0ト酢酸エステ/L/).プチレングリコーノレ
ビス(メノレカフ゜トフ゛ロビオン酸エヌテ,1v).
1.4−ブタンジオーノレビス(メルカプト酢酸エステ
/l/),1.4−ブタンジオールビス(メルカプトブ
ロピオン酸エヌテノレ),シュウ酸ビス(2−メルカフ
1トエチノレエヌテノレ).マロン酸ビス(2−メμカ
ブトエチノレエステA/).コハク酸ヒス(2−メノレ
カプトエチノレエヌテlレ),グ)V p )V酸ビス
(2−メルカプトエチノレエステノレ),アジピン酸ビ
ス(2−メノレカプトエチルエヌテノレ),コμク酸ビ
ス(2−メルカプトエチノレエステノレ)アゼライン酸
ビス(2−メルカプトエチルエステ/I/) tセパシ
ン酸ビス(2−メルカプトエチルエステ/L/).ペン
タエリスリトールテトラキス(メルカプト酢酸エステル
),ペンタエリスリトールテトラキス(β−メルカプト
プロビオン酸エステ/1/),トリメチロールプロパン
トリス(メルカプト酢酸xy.−y−ノV),}リメチ
ローノレプロパントリヌ(β−メノレカプトプロピオン
酸エステル)などを挙げることができる。
ボン酸エステpとしては,例えばメルカフ゜ト酢酸又は
メルカプトプロビオン酸のアノレキ〜エステ/I/(こ
こでアルキルとしては,メチ/L/,エチノレ,ブチノ
レへプチノレ,イソオクチp,2−エチノレヘキシノレ
,ノニノレ,デシル,ドデシノレ,テトラデシル,ヘキ
サデシル.オクタデシル,オレイルなどを示ス)酢酸2
−メルカデトエチルエステル,フ“ロヒ゜オン酸2−メ
/I/カブトエチノレエステル,カプリμ酸2−メルカ
プトエチルエヌテA/,カプロン酸2−メルカブトエチ
μエステp,デカン酸2−メルカフトエチルエステル,
ラウリン酸2−メノレカ7″トユチノレエステル,ミリ
スチン酸2−メノレカフ゜トエグルエステノレ,パルミ
チン酸2−メルカフ゜トエチノ1エステノレ,2−エチ
ルヘキサン酸2−メノレカプ1エチノレエステル,ステ
アリン酸2−メルカグトコチルエステル.オレイン酸2
−メノレカデトエチノレエ ス テノレ , リ ノ
ー ノレ酸 2 − メ ノレカ フ0 ト エ チ
ノレ エ ステ/レ , リ ノ レ ン酸 2 −
メ ノレカ フ0 ト エ チ ノレエ ス テ ノ
レ ,エチレングリコールビス(メノレカ70ト酢酸エ
ステ/L/).エチレングリコールヒス(メノレカフ゜
トフ6ロビオン酸エステ/’ ) t プロピレンク′
リコーJレビス(メノレカ1ト酢酸エステtV ) *
フ0ロヒ゜レンク゛リコーノレビス(メノレカプトプロ
ピオン酸エステル),プチレングリコーノレビス(メノ
レカフ0ト酢酸エステ/L/).プチレングリコーノレ
ビス(メノレカフ゜トフ゛ロビオン酸エヌテ,1v).
1.4−ブタンジオーノレビス(メルカプト酢酸エステ
/l/),1.4−ブタンジオールビス(メルカプトブ
ロピオン酸エヌテノレ),シュウ酸ビス(2−メルカフ
1トエチノレエヌテノレ).マロン酸ビス(2−メμカ
ブトエチノレエステA/).コハク酸ヒス(2−メノレ
カプトエチノレエヌテlレ),グ)V p )V酸ビス
(2−メルカプトエチノレエステノレ),アジピン酸ビ
ス(2−メノレカプトエチルエヌテノレ),コμク酸ビ
ス(2−メルカプトエチノレエステノレ)アゼライン酸
ビス(2−メルカプトエチルエステ/I/) tセパシ
ン酸ビス(2−メルカプトエチルエステ/L/).ペン
タエリスリトールテトラキス(メルカプト酢酸エステル
),ペンタエリスリトールテトラキス(β−メルカプト
プロビオン酸エステ/1/),トリメチロールプロパン
トリス(メルカプト酢酸xy.−y−ノV),}リメチ
ローノレプロパントリヌ(β−メノレカプトプロピオン
酸エステル)などを挙げることができる。
本発明にトいて使用するcpvcは,塩化ビニノレの単
独重合体又は塩化ビニルと他の単量体との共重合体を塩
素化したもので,塩素含有量が 60〜70%の範囲の
ものが好1しい。これよシ塩素含有量が低いものは耐熱
性が不十分であり,1たこれより塩素含有量が高いもの
は溶融粘度が高く,加工性が悪くなる。
独重合体又は塩化ビニルと他の単量体との共重合体を塩
素化したもので,塩素含有量が 60〜70%の範囲の
ものが好1しい。これよシ塩素含有量が低いものは耐熱
性が不十分であり,1たこれより塩素含有量が高いもの
は溶融粘度が高く,加工性が悪くなる。
本発明においては, CPVc 100重量部に対し.
有機賜マレート化合物0.01〜5重量部と.金属ハフ
ィド0.01〜3N量部又は/及びメルカプトカルボン
酸エステ#0.01〜5重量部とを添加することにより
,安定化されたcpvc組成物が得られる。
有機賜マレート化合物0.01〜5重量部と.金属ハフ
ィド0.01〜3N量部又は/及びメルカプトカルボン
酸エステ#0.01〜5重量部とを添加することにより
,安定化されたcpvc組成物が得られる。
添加量の下限よシ少ないと添加の効果が十分現われず,
筐た添加量の上限を越えても増量しただけの効果が現わ
れない。
筐た添加量の上限を越えても増量しただけの効果が現わ
れない。
本発明のcpvc組或物には,必要に応じて衝撃強化剤
,公知の種々の熱及び光に対する安定剤,滑剤.充填剤
,顔料等を添加することができる。
,公知の種々の熱及び光に対する安定剤,滑剤.充填剤
,顔料等を添加することができる。
衝撃強化剤としては,例えば30〜40%の塩素を含有
する塩素化ポリエチレン,アクリノレ酸エステルを主体
とする共重合ゴムにメチノレメタクリレート,スチレン
,アクリロニトリノレ等の単量[−グヲフト重合した多
或分系樹脂,アクリ口ニトリル・ブタジエン・スチレン
樹脂,メチルメタクリレート・ブタジエン・スチレン樹
脂,酢酸ビニル・エチレン共重合体樹脂などが挙げられ
る。
する塩素化ポリエチレン,アクリノレ酸エステルを主体
とする共重合ゴムにメチノレメタクリレート,スチレン
,アクリロニトリノレ等の単量[−グヲフト重合した多
或分系樹脂,アクリ口ニトリル・ブタジエン・スチレン
樹脂,メチルメタクリレート・ブタジエン・スチレン樹
脂,酢酸ビニル・エチレン共重合体樹脂などが挙げられ
る。
得られた本発明のcpvcm或物は,ローノレミノレ.
リボンブレンター,ヘンシェノレミキサー,バンバリミ
キサー等の公知の混合装置を用いて所望の或形物に成形
できる。
リボンブレンター,ヘンシェノレミキサー,バンバリミ
キサー等の公知の混合装置を用いて所望の或形物に成形
できる。
本発明によると, CPVCの加工性と耐熱性(熱変形
温度)を改良でき,cpvcの或形溶融時の分解を防止
し,初期着色を改良できるので. cpvcm或物を或
形加工して.電子部品ケース,銘板,食品容器等の透明
加工製品に利用することができる。
温度)を改良でき,cpvcの或形溶融時の分解を防止
し,初期着色を改良できるので. cpvcm或物を或
形加工して.電子部品ケース,銘板,食品容器等の透明
加工製品に利用することができる。
次に実施例を挙げて本発明を説明するが,実施例中の部
は重量部を示すものとする。
は重量部を示すものとする。
実施例1
塩素化塩化ビニル樹脂(HA−15F,徳山積水工業社
製)100部,ジブチ/I/錫ビス(2−エチNへキシ
ルマレート)2部,下記部数の金属ハライド及び滑剤(
Wax E ,ヘキスト社製)1部を添加し,170
℃のミキシングローノレにて厚さ0.5,,.のシ一ト
を作或し,このシートを6枚重ねて.170℃で10分
間プレスし,YI(イエローインデックス)を全自動測
色計カラーエースTC−Pll(東京電色社製)にて測
定した。
製)100部,ジブチ/I/錫ビス(2−エチNへキシ
ルマレート)2部,下記部数の金属ハライド及び滑剤(
Wax E ,ヘキスト社製)1部を添加し,170
℃のミキシングローノレにて厚さ0.5,,.のシ一ト
を作或し,このシートを6枚重ねて.170℃で10分
間プレスし,YI(イエローインデックス)を全自動測
色計カラーエースTC−Pll(東京電色社製)にて測
定した。
結果を第1表に示す。
第
l
表
実施例2
塩素化塩化ビニル樹脂( H − 516 5 ,鐘淵
化学社製) 100部,メチルメタクリレート・ブタジ
エン・スチレン樹脂(カネエースB−31,tfl淵化
学社[)10部,ジオクチノレ賜ビス(エチルマレート
)3i,下記部数のメノレカフ゜トカルボン酸エステル
及び滑剤( Wax E )1部を添加し,実施例1と
同様にしてプレスシ一トを作或して.YIを測定した。
化学社製) 100部,メチルメタクリレート・ブタジ
エン・スチレン樹脂(カネエースB−31,tfl淵化
学社[)10部,ジオクチノレ賜ビス(エチルマレート
)3i,下記部数のメノレカフ゜トカルボン酸エステル
及び滑剤( Wax E )1部を添加し,実施例1と
同様にしてプレスシ一トを作或して.YIを測定した。
結果を第2表に示す。
第
表
実施例3
塩素化塩化ビニル樹脂( HA−15 F ) 100
部,塩素化ポリエチレン樹脂(ダインラックH − 1
35 ,ダイソ−社製) 10部,ビス(プトキシカル
ポニルエチ/L/ ) B ヒス(ベンジノレマレー}
)1.5i,モノオクチ)V錫トリス(シクロヘキシル
マレート)0. 5 部−下記部数の金属ハライド・メ
ルカプトカρボン酸エステIレ及び滑剤(WaxE)1
部を添加し,実施例lと同様にしてプレスシ一トを作戊
して,YIを測定した。
部,塩素化ポリエチレン樹脂(ダインラックH − 1
35 ,ダイソ−社製) 10部,ビス(プトキシカル
ポニルエチ/L/ ) B ヒス(ベンジノレマレー}
)1.5i,モノオクチ)V錫トリス(シクロヘキシル
マレート)0. 5 部−下記部数の金属ハライド・メ
ルカプトカρボン酸エステIレ及び滑剤(WaxE)1
部を添加し,実施例lと同様にしてプレスシ一トを作戊
して,YIを測定した。
結果を第3表に示す。
実施例4
塩素化塩化ビニル樹脂(H−516 5 )100部,
メチノレメタクリレート・フ゜タジエン・スチレン樹月
旨(力卆エースB−31)20部,ジフ゛チノレ錫ジク
ロライド0. 5部,メルカプト酢酸インオクチノレエ
ヌテ/L’ 2. 0部,下記部数の有機錫マレー}{
ヒ合物及び滑剤(WaxE)1部を添加し,実施ψ1l
と同様にしてプレスシ一トを作或して,YIを測定しt
コ。
メチノレメタクリレート・フ゜タジエン・スチレン樹月
旨(力卆エースB−31)20部,ジフ゛チノレ錫ジク
ロライド0. 5部,メルカプト酢酸インオクチノレエ
ヌテ/L’ 2. 0部,下記部数の有機錫マレー}{
ヒ合物及び滑剤(WaxE)1部を添加し,実施ψ1l
と同様にしてプレスシ一トを作或して,YIを測定しt
コ。
結果を第4表に示す。
上記実施例1〜4のイエローインデックス(Yr ”)
の結果から明らかなように,本発明において有機錫マレ
ート化合物と,金屈ハライド又は(及び)メルカプトカ
ルボン酸エステルとを併用添加するとcpvcの初期着
色を改良することができた。これらの結果は本発明の構
或によシはじめて達或されるものである。
の結果から明らかなように,本発明において有機錫マレ
ート化合物と,金屈ハライド又は(及び)メルカプトカ
ルボン酸エステルとを併用添加するとcpvcの初期着
色を改良することができた。これらの結果は本発明の構
或によシはじめて達或されるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 塩素化塩化ビニル樹脂100重量部に対し、(a)一般
式〔 I 〕、〔II〕及び〔III〕 RaSn(OOCCH=CHCOOR^1)_4_−_
a〔 I 〕▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中Rは炭素数1〜18個のアルキル基、炭素数1〜
12個のアルコキシカルボニルエチル基を、Rは炭素数
1〜22個のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基
、アルコキシアルキル基又はシクロアルキル基を、Aは
酸素原子又は基−OOCCH=CHCOO−を、aは1
又は2を、mは2〜10の整数をそれぞれ示す)で表わ
される有機錫マレート化合物から選ばれる1種又は2種
以上を0.01〜5重量部と、(b)一般式〔IV〕及び
〔V〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 MX_l〔V〕 (式中Rは上記と同意義であり、Xは塩素原子、臭素原
子又はヨウ素原子を、YはR、X、基−S(CH_2)
_bCOOR^2又は基−S(CH_2)_2OOCR
^2(R^2は炭素数1〜22個のアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、アルコキシアルキル基又はシク
ロアルキル基を、bは1又は2をそれぞれ示す)を、M
はZn、Al、Fe、Sb、Ti、Bi、Mn、Ga又
はSnの金属原子を、lは金属の原子価をそれぞれ示す
)で表わされる金属ハライドから選ばれる1種又は2種
以上を0.01〜3重量部又は/及び (c)一般式〔VI〕、〔VII〕、〔VIII〕、〔IX〕、〔
X〕及び〔X I 〕HS(CH_2)_pCOOR^2
〔VI〕 HS(CH_2)_2OOCR^2〔VII〕 HS(CH_2)_pCOO(CH_2)_qOOC(
CH_2)_pSH〔VIII〕HS(CH_2)_2OO
C(CH_2)_tCOO(CH_2)_2SH〔IX〕
C〔CH_2OOC(CH_2)_pSH〕_4〔X〕
CH_3C〔CH_2OOC(CH_2)_pSH〕_
3〔X I 〕(式中R^2は上記と同意義であり、pは
1又は2を、qは2〜4の整数を、tは0〜8の整数を
それぞれ示す)で表わされるメルカプトカルボン酸エス
テルから選ばれる1種又は2種以上を0.01〜5重量
部と を添加してなる安定化された塩素化塩化ビニル樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18983989A JPH0354245A (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 安定化された塩素化塩化ビニル樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18983989A JPH0354245A (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 安定化された塩素化塩化ビニル樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0354245A true JPH0354245A (ja) | 1991-03-08 |
Family
ID=16248071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18983989A Pending JPH0354245A (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 安定化された塩素化塩化ビニル樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0354245A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009068024A (ja) * | 2009-01-08 | 2009-04-02 | Tosoh Corp | ペースト用塩化ビニル樹脂の製造方法 |
WO2021039993A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 積水化学工業株式会社 | 塩素化塩化ビニル系樹脂組成物及び塩素化塩化ビニル系樹脂成形体 |
KR20210044592A (ko) * | 2019-10-15 | 2021-04-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
KR20210044608A (ko) * | 2019-10-15 | 2021-04-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
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---|---|---|---|---|
JPS5676446A (en) * | 1979-11-29 | 1981-06-24 | Sankyo Yuki Gosei Kk | Chlorine-containing resin composition |
JPS59207954A (ja) * | 1983-05-03 | 1984-11-26 | チバ−ガイギ−・アクチエンゲゼルシヤフト | 有機スズ安定剤、それを含有する熱可塑性樹脂及びその安定化方法 |
JPS61209248A (ja) * | 1985-03-14 | 1986-09-17 | Sankyo Yuki Gosei Kk | 合成樹脂の安定化法 |
JPS63241055A (ja) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Sakai Chem Ind Co Ltd | 塩素含有樹脂組成物 |
JPH02269756A (ja) * | 1989-04-11 | 1990-11-05 | Tokuyama Sekisui Ind Corp | 塩素化塩化ビニル系樹脂の安定化方法 |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP18983989A patent/JPH0354245A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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WO2021039993A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 積水化学工業株式会社 | 塩素化塩化ビニル系樹脂組成物及び塩素化塩化ビニル系樹脂成形体 |
JPWO2021039993A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-09-27 | 積水化学工業株式会社 | 塩素化塩化ビニル系樹脂組成物及び塩素化塩化ビニル系樹脂成形体 |
CN114051512A (zh) * | 2019-08-30 | 2022-02-15 | 积水化学工业株式会社 | 氯化聚氯乙烯系树脂组合物及氯化聚氯乙烯系树脂成形体 |
CN114051512B (zh) * | 2019-08-30 | 2024-02-13 | 积水化学工业株式会社 | 氯化聚氯乙烯系树脂组合物及氯化聚氯乙烯系树脂成形体 |
KR20210044592A (ko) * | 2019-10-15 | 2021-04-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
KR20210044608A (ko) * | 2019-10-15 | 2021-04-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
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