JPH0352946U - - Google Patents

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JPH0352946U
JPH0352946U JP11447689U JP11447689U JPH0352946U JP H0352946 U JPH0352946 U JP H0352946U JP 11447689 U JP11447689 U JP 11447689U JP 11447689 U JP11447689 U JP 11447689U JP H0352946 U JPH0352946 U JP H0352946U
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electron
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案一実施例のブロツク構成図。
第2図は、同実施例の第一モードの画像(二次電
子像)を示す図。第3図は、同じく第二モードの
画像(回折像)を示す図。第4図は、同実施例の
固体撮像素子の詳細図。第5図は、本考案他の実
施例の固体撮像素子の詳細図。第6図は、従来例
の説明図。第7図は、他の従来例の説明図。 1,Gn……電子銃、2,Sa……試料、2D
S……二次元低エネルギ電子検出器、3……ステ
ージ、3A……位置信号発生器、3B……位置移
動機構、4……走査信号発生器、4A……偏向系
、5……検出手段である固体撮像素子面板、5A
……マトリドクス状に配置された固体撮像素子、
5B……小孔、5C……銅製の筒、6……検出手
段である二次電子検出器、7……表示部、8……
増幅器付きの比較器、9……超高真空チヤンバ、
11……p型シリコン基板、12……n型不純
物領域、13……SiO層、14,27……ポ
リイミド層、15……ポリシリコン・ゲート電極
、16……Alドレイン電極、17,28……A
l遮断層、18……MOSトランジスタのソース
領域、21……n型シリコン基板、22……p
型の不純物領域、23……SiO領域、24…
…プラズマチツ化膜、25……MOSトランジス
タのソースおよびドレイン領域、26……ポリシ
リコンのゲート電極、CS……コレクタスクリー
ン、Er……放射電子線、Er……第二モー
ドにおける反射電子線、Er……第一モードに
おける二次電子線、Gr……グリツド、Gr
…阻止グリツド、MP……マイクロチヤネルプレ
ート、PSR……位置敏感検出器、RI……ラス
タイメージ、SS……スコープスクリーン。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 電子銃と、この電子銃から発生する電子線を
    試料表面に照射する手段と、この試料表面で発生
    もしくは反射する電子を検出する検出手段とを備
    えた電子線回折装置において、 前記電子銃は、その発生する電子線が、前記試
    料表面に高速に当たり試料表面の二次電子像を発
    生させる第一モードと、前記試料表面で低速度電
    子回折を発生させる程度の低エネルギの電子線を
    発生させる第二モードとの二つの動作モードに切
    換えられる構成であり、 前記検出手段は、前記第一モードで前記試料表
    面から発生する二次電子像を捉える二次電子検出
    器と、前記第二モードで前記試料表面で反射する
    電子の回折パターンを検出するようにマトリクス
    状に配置された多数の固体撮像素子を含む ことを特徴とする電子線回折装置。 2 前記固体撮像素子は、平面状に形成され、そ
    のほぼ中心に前記電子銃から発生する電子線が通
    過する小孔が設けられ、この小孔が円筒状の導体
    により囲まれた構造である請求項1記載の電子線
    回折装置。
JP11447689U 1989-09-29 1989-09-29 電子線回折装置 Expired - Lifetime JPH088515Y2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000016372A1 (fr) * 1998-09-11 2000-03-23 Japan Science And Technology Corporation Appareil de diffraction d'electrons a haute energie
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