JPH0352946U - - Google Patents
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- JPH0352946U JPH0352946U JP11447689U JP11447689U JPH0352946U JP H0352946 U JPH0352946 U JP H0352946U JP 11447689 U JP11447689 U JP 11447689U JP 11447689 U JP11447689 U JP 11447689U JP H0352946 U JPH0352946 U JP H0352946U
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- JP
- Japan
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- electron beam
- electron
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
第1図は、本考案一実施例のブロツク構成図。
第2図は、同実施例の第一モードの画像(二次電
子像)を示す図。第3図は、同じく第二モードの
画像(回折像)を示す図。第4図は、同実施例の
固体撮像素子の詳細図。第5図は、本考案他の実
施例の固体撮像素子の詳細図。第6図は、従来例
の説明図。第7図は、他の従来例の説明図。 1,Gn……電子銃、2,Sa……試料、2D
S……二次元低エネルギ電子検出器、3……ステ
ージ、3A……位置信号発生器、3B……位置移
動機構、4……走査信号発生器、4A……偏向系
、5……検出手段である固体撮像素子面板、5A
……マトリドクス状に配置された固体撮像素子、
5B……小孔、5C……銅製の筒、6……検出手
段である二次電子検出器、7……表示部、8……
増幅器付きの比較器、9……超高真空チヤンバ、
11……p型シリコン基板、12……n−型不純
物領域、13……SiO2層、14,27……ポ
リイミド層、15……ポリシリコン・ゲート電極
、16……Alドレイン電極、17,28……A
l遮断層、18……MOSトランジスタのソース
領域、21……n型シリコン基板、22……p+
型の不純物領域、23……SiO2領域、24…
…プラズマチツ化膜、25……MOSトランジス
タのソースおよびドレイン領域、26……ポリシ
リコンのゲート電極、CS……コレクタスクリー
ン、Er1……放射電子線、Er2……第二モー
ドにおける反射電子線、Er3……第一モードに
おける二次電子線、Gr……グリツド、Gr1…
…阻止グリツド、MP……マイクロチヤネルプレ
ート、PSR……位置敏感検出器、RI……ラス
タイメージ、SS……スコープスクリーン。
第2図は、同実施例の第一モードの画像(二次電
子像)を示す図。第3図は、同じく第二モードの
画像(回折像)を示す図。第4図は、同実施例の
固体撮像素子の詳細図。第5図は、本考案他の実
施例の固体撮像素子の詳細図。第6図は、従来例
の説明図。第7図は、他の従来例の説明図。 1,Gn……電子銃、2,Sa……試料、2D
S……二次元低エネルギ電子検出器、3……ステ
ージ、3A……位置信号発生器、3B……位置移
動機構、4……走査信号発生器、4A……偏向系
、5……検出手段である固体撮像素子面板、5A
……マトリドクス状に配置された固体撮像素子、
5B……小孔、5C……銅製の筒、6……検出手
段である二次電子検出器、7……表示部、8……
増幅器付きの比較器、9……超高真空チヤンバ、
11……p型シリコン基板、12……n−型不純
物領域、13……SiO2層、14,27……ポ
リイミド層、15……ポリシリコン・ゲート電極
、16……Alドレイン電極、17,28……A
l遮断層、18……MOSトランジスタのソース
領域、21……n型シリコン基板、22……p+
型の不純物領域、23……SiO2領域、24…
…プラズマチツ化膜、25……MOSトランジス
タのソースおよびドレイン領域、26……ポリシ
リコンのゲート電極、CS……コレクタスクリー
ン、Er1……放射電子線、Er2……第二モー
ドにおける反射電子線、Er3……第一モードに
おける二次電子線、Gr……グリツド、Gr1…
…阻止グリツド、MP……マイクロチヤネルプレ
ート、PSR……位置敏感検出器、RI……ラス
タイメージ、SS……スコープスクリーン。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 電子銃と、この電子銃から発生する電子線を
試料表面に照射する手段と、この試料表面で発生
もしくは反射する電子を検出する検出手段とを備
えた電子線回折装置において、 前記電子銃は、その発生する電子線が、前記試
料表面に高速に当たり試料表面の二次電子像を発
生させる第一モードと、前記試料表面で低速度電
子回折を発生させる程度の低エネルギの電子線を
発生させる第二モードとの二つの動作モードに切
換えられる構成であり、 前記検出手段は、前記第一モードで前記試料表
面から発生する二次電子像を捉える二次電子検出
器と、前記第二モードで前記試料表面で反射する
電子の回折パターンを検出するようにマトリクス
状に配置された多数の固体撮像素子を含む ことを特徴とする電子線回折装置。 2 前記固体撮像素子は、平面状に形成され、そ
のほぼ中心に前記電子銃から発生する電子線が通
過する小孔が設けられ、この小孔が円筒状の導体
により囲まれた構造である請求項1記載の電子線
回折装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11447689U JPH088515Y2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 電子線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11447689U JPH088515Y2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 電子線回折装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0352946U true JPH0352946U (ja) | 1991-05-22 |
JPH088515Y2 JPH088515Y2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=31662843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11447689U Expired - Lifetime JPH088515Y2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 電子線回折装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH088515Y2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000016372A1 (fr) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Japan Science And Technology Corporation | Appareil de diffraction d'electrons a haute energie |
JP2001307263A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-11-02 | Kinki Kogyo Kk | 破壊行為の監視システム |
JP2016524123A (ja) * | 2013-05-15 | 2016-08-12 | 学校法人沖縄科学技術大学院大学学園 | 低速電子線回折検出モジュール及び走査型電子顕微鏡 |
WO2017104186A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Tslソリューションズ | Ebsd検出装置 |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP11447689U patent/JPH088515Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000016372A1 (fr) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Japan Science And Technology Corporation | Appareil de diffraction d'electrons a haute energie |
US6677581B1 (en) | 1998-09-11 | 2004-01-13 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
JP2001307263A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-11-02 | Kinki Kogyo Kk | 破壊行為の監視システム |
JP2016524123A (ja) * | 2013-05-15 | 2016-08-12 | 学校法人沖縄科学技術大学院大学学園 | 低速電子線回折検出モジュール及び走査型電子顕微鏡 |
WO2017104186A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Tslソリューションズ | Ebsd検出装置 |
JP2017110935A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Tslソリューションズ | Ebsd検出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH088515Y2 (ja) | 1996-03-06 |
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