JPH0350716A - 可変成形型荷電ビーム露光装置 - Google Patents

可変成形型荷電ビーム露光装置

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Publication number
JPH0350716A
JPH0350716A JP1185616A JP18561689A JPH0350716A JP H0350716 A JPH0350716 A JP H0350716A JP 1185616 A JP1185616 A JP 1185616A JP 18561689 A JP18561689 A JP 18561689A JP H0350716 A JPH0350716 A JP H0350716A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
aperture
shaping
target
charged beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP1185616A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyasu Shimizu
弘泰 清水
Kenji Morita
憲司 守田
Shohei Suzuki
正平 鈴木
Mamoru Nakasuji
護 中筋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP1185616A priority Critical patent/JPH0350716A/ja
Publication of JPH0350716A publication Critical patent/JPH0350716A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はターゲット上のビーム形状を変化させることの
できる可変成形型荷電ビーム露光装置に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
従来のこの種の装置は第2図に示す様な構造であった。
第2図において、荷電粒子源1を出た荷電粒子ビームは
照射レンズ2を通って、第1成形間口6を照射する。第
1成形開口6を通過した荷電粒子ビームは、成形偏向器
8.9によって偏向された後、第2成形開ロアを照射す
る。そして、さらに第2成形開ロアの開口を通過した荷
電粒子ビームはターゲット5へ向かう。第1、第2成形
開口6.7間の物点Pは、縮小レンズ3で縮小され、対
物レンズ4でターゲット5上に結像する。このターゲッ
ト5上の像は、第1、第2副偏向器10゜11及び主偏
向器によりターゲット5面上を偏向される。従って、第
1成形間口6を通過したビームが偏向器8.9で二次元
的に第2成形開ロア上を移動し、第2成形開ロアを通過
したビームの形状がそのままターゲット5上のビームの
形状になり、このように部材6.7.8.9にて成形さ
れたビームがターゲット5面上を二次元的に偏向される
。このときの物面(物点Pを含み、光軸に直交する面)
は第4図の様に決められる。つまり、第1成形開口6、
第2成形開ロア間の距離をd、第1成形間口6からクロ
スオーバ像20までの距離をC1第1成形開口6から物
面(物点Pを含む平面)19までの距離をXとする。こ
こでCの値は、成形像の倍率、クロスオーバ像の倍率、
および、光道長によって制限される。成形像は縮小、ク
ロスオーバ像は適当なビーム開き角をえるため拡大する
ここでc<0とすると縮小レンズの上のクロスオーバ像
点が成形物点より上側にくるため、成形像を縮小、クロ
スオーバ像を拡大するのは難かしくなる。0<C<dと
するとボケが一致する成形物点がクロスオーバ像点と同
じになり、成形像もクロスオーバ像も倍率が同じになっ
てしまい、さらに、成形像のビーム電流の均一性がクロ
スオーバのビーム電流の均一性に大きく依存するため適
当でない、d<cとすると、成形像を縮小、クロスオー
バ像を拡大することができる。また、空間電荷効果を小
さくするため、Cの値は小さくしたcmd 様に選べば、物面19における第1、第2開口6.7の
ボケ2122は同じになる。クロスオーバ像20は、第
2成形開ロアよりターゲット側にある(d < c )
ので□<x<dとなる。すなわち、従来の技術では、物
点Pが第1成形間口6よりも第2成形開ロアに近い位置
に設定される。
なお、第1図の軌道りは、成形偏向軌道である。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記の如き従来の技術に於いては、第1成形開口からタ
ーゲットまでの距離が、第2成形開口からターゲットま
での距離よりも長くなる。従って空間電荷効果のため、
第1成形開口の像が第2成形開口の像よりボケが大きく
なり、ターゲット上での成形像の端部の鋭さが一様でな
くなり(すなわち、成形像は第1成形開口で限定される
部分と第2成形開口で限定される部分とをそれぞれ有す
るからである)、露光されたパタンの接続部の強度分布
が不均一となるという問題があった。成形像は鋭い方が
望ましいが、成形像は第1成形開口の像と第2成形開口
の像との重なりであるため、一方に焦点を合わせると他
方のボケが大きくなる。
パタンをつなぐとき境界の辺は、互いに別の成形開口の
像によるものになるため、ボケがある場合つなぎ部分で
の電子ビームのドーズ量が不均一となり、露光にムラが
生じる。また、目標とするパタン寸法を得るためのビー
ム分解能以上にすれば良いので、必要以上のエツジ分解
能はいらない。
そこで本発明は、成形像の端部の鋭さを一様にすること
を目的とする。
〔課題を解決する為の手段〕
上記の問題点の解決のために本発明では、ターゲット上
に結像する成形像の物点を第2成形開口よりも第1成形
開口に近い位置にした。
〔作用〕
本発明では、第2成形開口の像が、ターゲットから光軸
方向ヘズレるために生じるボケと、収差、回折によるボ
ケと、空間電荷効果によるボケを合せたものと、第1成
形開口の像がターゲットから光軸方向ヘズレるために生
じるボケと、収差、回折によるボケと空間電荷効果によ
るボケを合せたものとを一致させることができるため、
ターゲット上の成形像の端の鋭さを第1成形と第2成形
とで同一にすることができる。
〔実施例〕 第1図は、本発明の実施例であり、第2図の従来例と同
一機能の部材には同符号を用いる。
第1図の実施例が第2図の従来例と異なる点は、(1)
第1成形開ロ60の像が縮小レンズ30により縮小され
、対物レンズ4によりターゲット5より荷電粒子1ll
l側にずれた位置に結像されること、(2)また、第2
成形開ロア0の像が、縮小レンズ30により縮小され、
対物レンズ4により、ターゲット5より荷電粒子源lと
反対側にずれた位置に結像されること、である、具体的
には第3図を用いて後述する。第1、第2成形開ロ60
.70の像は、収差と空間電荷効果によるボケに、それ
ぞれの開口60.70の結像位置がターゲット5からず
れるためのボケも加わる。ここで、空間電荷効果による
ビームのボケΔdsc(ag)はから計算できることが
知られている。但し、Lは物点から像点迄の距離(cm
)、■はビーム電流(anp)、αは開口半角(rad
) 、Vは加速電圧(vo 1t)である、この値を第
1成形開ロ60と第2成形開ロア0とで比較する。Lは
第1成形開ロ60からの値の方が大きく、Iも第1成形
開ロ60から第2成形開ロア0の間で大きい値を取る。
(第1成形開ロ60を通った電子ビームは第2成形開ロ
ア0でケラれて少なくなるからである。)従って第1成
形開ロ60の像は、第2成形間ロア0の像よりも空間電
荷効果によるボケが大きくなる。−方ターゲット5上に
結像する物点を第2成形開ロア0よりも第1成形開ロ6
0に近づけると、第1成形開ロ60の像は第2成形開ロ
ア0の像よりもターゲット5に近くなり、像点のズレに
よるボケは第1成形開口像の方が小さくなる。その他の
ボケは第11第2成形開口像についてほぼ同じであるか
ら第2成形開ロア0よりも、第1成形開ロア0の近くに
物点がくる様にすれば、第1、第2成形開口像のボケは
同じにでき、成形偏向器8.9により光軸を外された第
1成形開口像と、第2成形開口像との重ね合せの部分で
ある成形ビームは、ターゲット5上で同じボケになる。
第3図に、ターゲット5付近でのビームの様子を示す、
第1成形開口像面13上での第1成形開口像のボケ15
は、第2成形開口像面14上での第2成形開口像のボケ
16よりも空間電荷効果の両者の差の分だけ大きくなっ
ているが、ターゲツト面17上では、像面のズレのため
、第1成形開口像のボケ17と第2成形開口像のボケ1
8とは同じになる。
〔発明の効果〕
以上の様に本発明によれば、成形ビームの端部の鋭さが
同じになるため、露光バタンのつなぎ部でのボケが同じ
になるため、つなぎ部のムラがなくなる。
従来の荷電ビーム露光装置ではレンズを無くすることに
よるビームのボケがほぼOになるように電子光学系を設
計していたため、成形アパーチャ間の間隔をあまり大き
くできなかったが、本発明によれば、レンズを無くする
ことによるビームのボケを(空間電荷効果の差という)
有限の大きさにできるため、成形アパーチャの間隔を大
きくでき、小さい駆動電圧で大きいビーム寸法変化が可
能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による装置の実施例の電子光学系の結像
図、第2図は従来技術による電子光学系の結像図、第3
図は第1図におけるターゲットと各開口像との関係を示
す図、第4図は第2図の物面の位置を説明するための図
、である。 〔主要部分の符号の説明〕 l・・・・・・・・・・・・荷電ビーム源、3.30・
・・縮小レンズ、 5・・・・・・・・・・・・ターゲット、6.60・・
・第1成形開口、 7.70・・・第2成形開口、 8・・・・・・・・・・・・第1成形偏向器、9・・・
・・・・・・・・・第2成形偏向器。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)荷電ビーム源とターゲットとの間に設けた2つの
    成形開口の間に結像レンズを持たない可変成形型荷電ビ
    ーム露光装置において、ターゲットとの共役点である物
    点を、ターゲット側の第2成形開口よりも荷電ビーム源
    側の第1成形開口寄りに設けた事を特徴とする可変成形
    型荷電ビーム装置。
  2. (2)ターゲット上での前記第1成形開口の像のボケと
    、前記第2成形開口の像のボケとがほぼ等しくなる様に
    した請求項(1)記載の可変成形型荷電ビーム装置。
  3. (3)荷電ビーム源とターゲットとの間に2つの成形ア
    パーチャの間に結像レンズを持たない可変成形型荷電ビ
    ーム露光装置において、結像レンズを持たないことによ
    るビームのボケを、荷電ビーム源側の第1成形開口につ
    いては小さく、ターゲット側の第2成形開口については
    大きくしたことを特徴とする可変成形型荷電ビーム装置
JP1185616A 1989-07-18 1989-07-18 可変成形型荷電ビーム露光装置 Pending JPH0350716A (ja)

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JP1185616A JPH0350716A (ja) 1989-07-18 1989-07-18 可変成形型荷電ビーム露光装置

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JP1185616A JPH0350716A (ja) 1989-07-18 1989-07-18 可変成形型荷電ビーム露光装置

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JPH0350716A true JPH0350716A (ja) 1991-03-05

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ID=16173915

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1185616A Pending JPH0350716A (ja) 1989-07-18 1989-07-18 可変成形型荷電ビーム露光装置

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JP (1) JPH0350716A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002143023A (ja) * 2000-11-15 2002-05-21 Toto Ltd 水石けん供給装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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