JPH03502746A

JPH03502746A - 陰極線受像管の電子ビームの特性を組立後に個別に微調整する方法と装置

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Publication number: JPH03502746A
Application number: JP2500378A
Authority: JP
Inventors: ヘッドリック，ジェオフレイ，エス．，エム．
Original assignee: イノベイティブ　ソリューションズ　アンド　サポート，インコーポレイテッド
Priority date: 1988-11-10
Filing date: 1989-11-09
Publication date: 1991-06-20
Anticipated expiration: 2012-04-09
Also published as: ATE127613T1; EP0396722B1; US4881006A; JP2597757B2; WO1990005376A1; EP0396722A4; DE68924156D1; EP0396722A1; DE68924156T2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】陰極線受像管の電子ビー１１の特性を組立後に個別に微調整４′る方法と装置発明の分野この発明は陰極線受像管に関し、特に、電子ビームに影！４”る静電界を個別に微調整することにより映像電子ビームの特定の特性を正確に制御するための方法と装置に関する。

発明の背景典型的な自動組立工程で生産された陰極線受像管には通常の動作で画面上に形成される映像のフォーカスおよび／または他の電子ビームに関する様子や特性にチューブ毎の差異がみられるることはよく知られている。このような差異は主として生産上の変動および／または部品の公差、配置、整列等の要素から生じろため、一般的にその結果はデユープを組み立てそのエンベロープをンールし、動作確認のためにチューブを試験するまで明らかにならない。価格競争力のある部品を経済的に生産するかぎりは生産段階でこのような差異を最小にするのは困難でまた完全になくすのは実際上不可能であるため、組立て封入したあとチューブ毎に「微調整」する努力がなされている。最も−・般的には、電子ビームの静電フ４ −一カスを画面上のビームの不足や不整列を観測するたぬにデユープを動作させて調整する。

つぎに小さな永久磁石等をチューブのネックの外回りに選択的に取り付は静電収束のための静電界を、そしてそれによって映像ビームの電界の効果を歪ませる。

この手法はある程度の効果はあるものの労働集約的で、比較的本質的な不正確さとチューブの寿命までに磁力が減少することにより、または磁石の位置がずれることにより、予期および志向しなかった方法でフォーカスフィールドの所々に歪みを生じるといった種々の欠点を有する。この手法はまた比較的に柔軟性がなくまたフォーカス装置に直接に関係していないため、他の電子ビームの結像あるいは映像に影響を与える特性を改善したり、これらに影響を与えるが容易ではない。

発明の目的従って陰極線受像管の映像電子ビームの１つまたはそれ以上の特性を、より適切により確実に個別に微調整する方法と装置が情実に要求されている。

この発明の特別な目的は通常の精度と制御で組立られチューブのエンベロープがシールされた後に陰極線管内のフォーカス装置を個別に微調整する方法と装置を提供することにある。

さらにこの発明の目的は個々の陰極線管の特に非点収差静電フォーカスレンズを、とりわけ、特定の陰極線受像管の映像スクリーン上のビーム非点収差形状あるいは非対称フォーカスを補償または補正するための方法と装置を提供することにある。

この発明の他の目的と特長は添付図面との関連で考察された後述の詳細な説明によって明らかになる。しかしながら、図面は単なる同図の目的で描かれており発明の範囲を定義するものではないことを理解しなければならない。発明の範囲は添付の「特許請求の範囲」を参照すること。

図面の簡単な説明図面上において、数種の図を通じて類似した参照符号は間隙の素子を示す：図Ｉはこの発明に基づく陰極線受像管を垂直に２等分し、片側を取り去った断面図：図２はこの発明に基づいて組立られた静電界発生フォーカス装置の側面図：そして図３はこの発明に基づく他の静電界型のフォーカス装置である。

提出された具体例の詳細な説明広い意味において、この発明は通常陰極線受像管のシールされたエンベロープの中に配置された素子あるいは装置の微調整をしようとするものである。このような素子あるいは装置は管の中の映像電子ビームの少なくとも１つの特性を制御するために静電界を発生させるように動作する。実施例の方法によれば、ビーム特性はビームの断面寸法および／または形状のように、チューブの映像スクリーン」二のビームの焦点そのものであるかまたは焦点に関係するか、またはスクリーン上の動的に制御された（１７置を含むか、またはこれらの組合せか、または受像管動作のさらに池の側面をも含む。ここに述べる微調整はその素子あるいは装置を修正するかまたは物理的な構造を整形することよりなり、一般的にチューブを組立て、ハウジングまたはエンベロープをシールした後に行なわれる。そのような微調整に関する発明の特に望ましいがたらはエンベロープの外から実行することであり、有利な点としてデユープの動作とデユープ・スクリーン上の映像が使用可能かどうかの試験中であってもその後でも実行できることである。これにより画面上のビームにより形成された映像の上記の試験により明らかなように、電子ビームの１つかまたはそれ以上の欠陥に対する適切な補正を可能にする。このように、この発明による改善に従った方法によれば、従来の生産工程で組立られたすべてのそのようなチューブに就いて行なわれる普通の組立工程を経たそれぞれのまたは特定の陰極線管は個別にそして独特の修正または微調整が行なわれ、各デユープ毎に特定の選ばれた電子ビームに影響をあたえる構造的、配置的および／または動作に対する適切な修正が適宜実施される。これにより前記の各チューブに視られるか又は存在が知られているビームに影響する特性の変動または欠陥が補正される。

概括符号１０で示されているこの発明に基づいて組立られた陰極線受像管が図１として描かれている。チューブ１０は従来の方法で形成され一般的にガラス製のハウジングまたはエンベ【ｌ−ブを有し、通常の生産工程の最終段階で真空にされシールして閉じられる。デユープ内には陰極１４、カップ状の制御グリッド１６、場合によっては加速電極１８、電界型静電フォーカス装置２０、放射状に絞り込まれたネック２６から遠く離れたチューブのエンベロープ１２の端面２４のうえに形成された映像スクリーン２２が封入されている。　チューブ１０の通常の動作において、陰極１４は高い電圧が印加され加熱されて電子を放出する。放出された電子は制御グリッド１６と電極１８の開口部を経て平行にされ加速されて電子ビームを影成し映像スクリーンに結像する。陰極！４、グリッド１６、電極＋８およびスクリーン２２は公知のまたは適切な構造をした従来のらのである。当然明らかなことではあるが、例えば当該技術分野で公知である全走査シーンにおいて電子ビームを前後に走査さけるための偏向板のようにチューブＩＯは種々の目的の為に、また特定の付随する構造や素子（図示せず）を伴うものである。

しかしながら、これら不随的な素子は公知でありこの発明を理解し易くするのにとくに必要ないと考え、チューブＩＯを描いた図１からは省略している。

フォーカス装置２０は電子ビームの行程の方向に沿った通常の中空円筒状の電気的高抵抗材料領域３０から成り、この装置の中心開口部を経由してビーム２８は移動する。図１のデユープ１０に於いて、抵抗性の素材はエンベロープ１２の内面または前面ガラス、とくに、ネック２６またはその直近に配置される。この配列により、デユープまたはチューブの支持装置が震動さＵられたり移動させられたりまたは物理的な障害を受た場合、エンベロープまたはフレームに直接取付けられた静電収束電解発生装置の配置方法がビームのフォーカスまたは形状または方向性または整列の不要な変化を除去するので、この配列方法は事実上フォーカス装置の安定性を完全なものにするといっても過言ではない。導電性のストリップまたはバンド３２．３４は抵抗材料３０を介して軸上に対局するするように円筒領域の両端に配置される。チューブＩＯに於いて、各ストリップ３２．３４は円筒の全周囲を取巻くように展開しているが、後に明らかにするが、他の配列もこの特許の範囲内にあり目指すものである。この発明の陰極線管の通常の動作においては電位または電圧ＥｌとＥ２がそれぞれ導電ストリップ３２．３４に印加されている。ここで、通常Ｅ２の方がＥｌより高い。ストリップ３２．３４の間の電位差Ｅ２−Ｅｌ（、：（７）例の場合＋！３００Ｖから４００Ｖ）は抵抗材料３０に電圧勾配を生じさせ、関連してチューブネックの中に電圧可変型静電レンズ電界を発生させる。電子ビー１１２８は静電界の中を影響されながら進み、映像スクリーン２２の上にフ１−カスすることはよく理解されろ。

ここに提出する発明の方式に於いては、通常のおチューブの組立において抵抗材料３０はチューブのエンベロープ１２上に比較的薄く十分均一な層または皮膜になるように付着される。

抵抗材料（例えばニクロムまたは導電性セラミックを使用して達成される）は、そのような素材が十分連続的な円筒領域になるように１＆初に配置されるかまたは付着される。次に同様にして、導電ストリップ３２．３４が円筒状のフォーカス装置２０の両端のところで抵抗オ料の周囲にまたは先端に直接付着される。この導電性ストリップには導電性リードまたはワイヤーがついており、後にここに電界規定電圧Ｅ１．Ｅ２を印加することを容易にする。もちろん、逆にまず導電性ストリップ３２゜３１をデユープの壁面に取付け、次に抵抗材料３ｏを直接全体にまたはストリップの先端と間に布設してもよい。

デユープ内の他の素子および機構が従来どうりであるにしろそうでないにしろ組立られると、一般的にエンベロープは、まず空気が抜かれ問題がないと考えられると映像形成に資するガスあるいは特定の混合ガスが充填され、シールされて閉じられる。次にデユープ１０はこの発明の方法にしたがってスクリーン２２上に映像を結ぶように動作され、その映像は映像電子ビームの特性に１つまたはそれ以上の欠陥または千期仕ぬ変動がないか試験される。すでに指摘したように、これらの特性には映像スクリーンに当たるときのビームの様式や形状（つまり意図に対する現実）、またはフォーカス装置が発生する静電界によって制御されるかまたはその静電界を変更することにより修正できるその他のビームの品質や属性が含まれる。例えば、この発明は、ビームが偏向電界を通過するときデユープの構造上の不完全さや動作素子の不整列によって生じるビームの非点収差を補正するのに利用できる。または、再び例によって、この発明はビー１、をスクリーン２２１−であらかじめ決められた断面形状（強調されたドツトの丸み、または映像用蛍光体が長い線または素子として配列された場合にとくに有効な楕円形状など）にするのに利用でき、このことはデユープの動作している素子の整列または形状または属性のチューブ毎の変動に関係しない。

この発明によれば、映像電子ビーム２８の１つまたはそれ以上のそのような特性の欠陥を静電界効果で適切な補償を容易に、また永久にすることができ、事実上、各チューブ毎の微調整を行−なうことができる。

今までに言及したこの発明に従う好ましい微調整または補償の方法を、図１に続く参考図を用いて述べる。デユープスクリーン上２２に形成された映像の試験、すなわち電子ビームの重要な特性の欠陥の確認などに続き、フォーカス装置２ｏとして定義されている最初は連続な領域に１つまたはそれ以上の割れ目または不連続性３６が形成されるようにそのような素材の円筒状の層から抵抗層の１つまたはそれ以上の選ばれた部分を切取るかまたは取り除く。明らかなように、このような割れ目や不連続性は抵抗材料３０の円筒上領域を横切っであるいは周囲に沿−て電圧勾配に局部的な不連続性を発生させし、従って、その結果、装置２０が発生し電子ビームが移動する静電フォーカス電界に局部的な歪みおよび不連続性および変動を発生させる。この不連続性の寸法と形状および位置は、チューブスクリーン２２上に形成された映像の試験の結果に従って、これらの電子ビームに、従ってスクリーンに形成された映像静に望ましい特性をもたせるのに必要な静電界による電子ビームの調整をずろために、あらかじめ測定され選択される。

このように、例えば、図１に示されている不連続性が一般的に長方影をしているからといって特別な形状やパターンでならなければならないということを意味するものではない（ビームを制御する静電界の調整がうまくできさえずれば）。

図１に描かれている不連続性は割れ目を形成している端または境界内のすべてあ抵抗材料が除去された領域の形状をしているが、ほかにも実質上等価な配列ら＝Ｊ能である。例えば、不連続性３７は幾何学的に連続的な境界をもつ領域からなり、帯状の３８は抵抗材料が除去されているがこの内側の境界内には抵抗性の陸地３９が残されている。陸地３９は領域３８に完全に囲まれているので電気的にも池の抵抗材料３０から絶縁されており、これを通じて電位差Ｅ２−Ｅｌが印加されているが、事実」二は陸地３９には電流は流れず、発生するする電界は陸地３９を支持エンベロープ壁１２から完全に除去したものと同じ局部的な歪になる。

今までに言及したこの発明の好ましい具体例において、割れ目と不連続性３６はチューブＩＯをシールした後に、従ってシールされたエンベロープ１２の外側から管壁を通して行なわれる。とくに望ましい実施方法は、適度な出力のレーザー（図示せず）をデユープの外からエンベロープ１２の管壁を通して抵抗材料３０上の不連続性３６．３７を作りたいところに向ける。

このようにして抵抗材料３０は目的の場所で燃尽きまたは蒸発し、割れ目および不連続性が作られる。この目的には、適当なしのであれば、ネオンガスレーザー、またはＹＡＧ　（イツトリウム・アルミニウム・ガリウム）レーザー、または集積回路の生産によく使用される中出力炭酸ガスレーザー等、どのようなレーザーでも使用できる。

この行程の結果は、とりわけ個々のまたは特定の陰極線受像管１０の映像スクリーン上のビーム非点収差形状あるいは非対称フォーカスを補償または補正するための、もしくは予め決められた方法でビームの形状または位置を修正するための、非点収差静電収束レンズを形成することである。レーザーまたは他の有効な方法による初期には連続なフォーカス装置２０の抵抗材料の領域の修正は、個々のデユープ１０が実際に動作している映像に基づいて迅速に且つ容易に実行できる。しかもこの方法は、例えば、直接スクリーン映像を監視し試験する、従って不連続性３６．３７を形成する為のレーザーを操作する技術者によって手動で実行することもきるし、その逆に、適切な走査、ロジック、および／またはレーザー指向の制御装置を使用することにより完全にまたは少なくとも部分的に自動化することもできる。

基板をエンベロープまたはデユープ内のその他の構造物に相対的な位置および方向を固定するように適切に取付け、少なくともデユープ・エンベロープの側壁から分離区分して支持されたその基板に抵抗性の素材３０を付着することもまたこの発明の意図するところである。図２として描かれた例は、また別のフ−・−カス装置で、軸の中心に開口部をしった筒状のまたは円筒状の構造をした通常は非電導性の枠または基板４２で構成される。チューブ内に基板４２を固定する方法は示されていないが、いずれにしてもこれは設計時に決める問題である。いずれにしてら、フォーカス装置４０はチューブ内に電子ビームが堰本的に開口端部の中心４４を、そしてその軸に沿うよな方向に設置される。抵抗材料４６の層は、筒状の基板の軸的に両端のところかまたはそれに近接したところにある導電性ストリップまたはバンドと、動作時にそれぞれ電圧Ｅｌ、Ｅ２が印加されるように抵抗材料の領域が接続されるように、円筒４２の外側表面にわたって付着または布設される。さらにフォーカス装置４０には局部的に電流を止めて抵抗性層上に電圧勾配を生じさＵ゛るように１つまたはそれ以上の割れ目または不連続性を５２設ける。それに対応してその装置により発生した電子ビームが通過するフォーカス用静電界が歪みを受けまたは乱される。不連続性５２は、図１に於いて３６で示した形式に加えて、また符号３７で示したような形式もあり得る。

いずれにしても、これらの当該技術分野の技法は、図１のフォーカス装置２０について今まで述べてきた、あるいは考察してきたように、構造におけるおよび構造に加えて生産の方法および材料についての変形は、同様に広くさらに深い問題である。

さらに、基板４２は単に中空の管または円筒であるだけでなく、単なる例ではあるが、１つまたはそれ以上のデユープの半径以下の肋骨状のものを、特にチューブの軸の端に於いて、陰極線受像管の静電フォーカス装置の既知の素子の構造に従って、外周から突き出させる構造もある。すべてのそのような変形は完全にこの発明が展望していることであり志向していることである。。

フォーカス装置４０（図１の場合は２０）は基本的な不連続性５２（または３６）と幾分異なっｌ二不連続性５４のようなしの含む。これはその縁または境界の内側のすべての抵抗材料が除去されたものと同じ効果があるように予め決められた形状をしている。図１の３７として描かれているものと同様、不連続性５６も抵抗材料が除去された境界範囲または領域を含む。しかしながら、領域５６は範１！１ｇ５７（陸地５８および陸地５８を抵抗材料の主要部または主領域に接続する比較的狭いｆａ６０で構成されている）を部分的に取囲むかまたは取巻き、その中の抵抗材料は完全には除去されておらず、基板上に残っている。

明らかなように、不連続性の陸地５８と橋６０には出口が無く、従ってこれらを流れる電流はない。その結果、領域５７には電圧降下は生じない。このように、電圧は基本的に領域５７全体に均一で、橋６０と抵抗材料４６の主領域との接続点（つまり、長い橋の陸地との接続点と反対側の端）に等しい。従って、不連続性５４は全範囲５７にわたる均一な電圧に比例した強さの静電界を発生し、少なくとも陸地５８についてはその上流の位置（橋６０と抵抗材料の主領域殿接点）で発生したものと同じである。実際、言及したように、橋６０が十分狭いところではその橋が静電界に与える影響はきほめて小さく、陸地５８の電圧の結果生じる静電界の部分は軸上を遠く離れた、典型的には（しかし必ずしも必要性はないが）１．流の位置の静電界と基本的には等しい電界をしった隔離された「島」を提供する。当該技術分野におけるこのような技法は、映！！４Ｌ電子ビームの感知された不規則性を修正したりまたは特定の特性を制御する静電界の特定の電界の強さのそのような事実上隔離された領域を形成するこの資質の価値において評価される。

この発明はまた、１つまたはそれ以上のビーム制御の為の静電界を発生さＵ′る為それぞれに効果的に電圧差が与えられた抵抗材料の領域を連続的にまたは多数配列することにも供せられる。そのような複数の領域の装置２０（図１）のようにチューブエンベロープ上に直接に、または装置４０（図２）のように別の基板上に付着される。このように、例として、ここに符号７０で示される第３のフォーカス装置が図３として描かれている。装置７０は、図２の装置４０のように、一般的に陰極線受像管のネックの中または直近に効果的に配置される。それは中心開校部７４を有する中空円筒状の基板からなり、その上には抵抗材料が付着されている。その抵抗材料を電流が流れ、基本的に軸に沿って移動する電子ビームの静電フォーカス電界が発生ずる。抵抗材料は円筒状基板の軸方向に複数領域に配置・付着される。それぞれの領域は物理的に、また必要であれば電気的に相互に絶縁され、電位を与えるためにそれぞれには少なくとも１組の導電性ストリップリップまたはバンドが付着または接続される。

例えば、図３に於いて、もと乙と連続な抵抗材料領域が導電性バンド７８．８０の間に広が−でいたのが、第３の導電性バンド８６によって別々の部分８２．８４に分けられている。電圧Ｅ１．　Ｅ２．　Ｅ３のどのような適切な組合わせもバンド７Ｂ。

８６．８０にそれぞれ効果的に印加される。完全に区分され物理的に隔離された抵抗材料の領域８８の軸上８４の部分に並んで置かれ、電位Ｅ４．Ｅ５を効果的に与えるための１組の導電性バンド９０．９２で仕切られている。この発明によれば、不連続性は（今までみてきたどのような型式のものであっても）装置７０の抵抗材料に沿って！個所またはそれ以上の適当な位置に選択的に設定される。

この指摘でわかるように、当該技術のこのような普通の技法は、ここで明らかにされた記述に従って付着された抵抗材料の領域の、例えば、数、構成または寸法におけるおびただしい変化や変更がこの発明の意図の範囲内でなされることを意味する。

このような非円筒形の（実際どんな形のものでも）抵抗材料の領域は映像電子ビームの望ましいフォーカスの為に採用される。

さらには、通常の様式または一見ランダムな配列において、または従来の静電形成用フォーカス素子を作るのに用いられる導電性のアルミや他の金属類で作られた領域との関連で並置されろ。このようなおよび他の変形はともに意図し、志向されたものである。

同様に、映像電子ビームの特性を修正または制御し、陰極線受像管内の静電界を個別に微調整する為の最も基本的な意味における方法と装置からなるこの発明は、フォーカス装置によってまたは関連して静電界を発生さＵ・ろ実施方法に限定されない。

映像スクリーンを垂直におよび／または水平に横切って動くビ−ムの走査を制御する静電界は、従来のチューブに於いて通常供給されるこれらに加え、例の方法に拠れば、この発明にｊｉＬっで改善されて構成または利用される。

さらに、今までの記述は一般的にモノクロームまたはシングルビームの陰極線受像管を指していたが、この発明は同様にしてマルチビームすなわちカラーチューブにも容易に適用・実施できる。

このようにして、この発明の基本的な新規な特徴をその提案された具体例として紹介して述べてきたが、この発明の図解された装置の様式と詳細およびそれらの効果および手法における種々の省略および代替および変化は、これらの当該技術分野の技法でなされ、この発明の精神から逃れられるものではない。

従−）で、ここに添付された特許請求の範囲に示されたもののみて制約しようとするのが意図するところである。

ＦＩＧ、　／

Claims

【特許請求の範囲】

１．映像スクリーンを有してその映像スクリーンにおける電子ビームに所定の断面形状を与える密閉エンベローブ陰極線管における映像電子ビームの焦点を選択的に調整する方法であって、チューブ内部に電気抵抗材料からなる実質的に連続した領域を設置し、抵抗材料からなるその領域に電位差を印加して、チューブの作動中に電子ビームが作用的に通過する位置的に変化する静電界をチューブ内に発生させ、そして、前記領域の少なくとも一部分において、抵抗材料を選択的に除去して、位置的に変化する静電界を選択的に変化させ、そしてそれによって、映像スクリーンにおける電子ビームの断面形状をあらかじめ調整し、かつ、前記除去工程がチューブの密閉されたエンベローブを介して抵抗材料の前記選択部分を焼き取ることを含んでなる方法。
２．前記除去工程が、チューブの密閉したエンベローブを介して前記領域の少なくとも一部分における抵抗材料をレーザで焼き取るために、チューブの外部に設けられたレーザを選択的に作動させることを備えてなる請求の範囲第１項記載の方法。
３．抵抗材料の前記領域に電位差を印加しながら、電子ビームがスクリーン上に映像を形成するように、チューブを作動させ、スクリーン上に形成された映像を試験し、そしてスクリーン上に形成された映像の試験に基づいて前記領域の少なくとも一部分における抵抗材料を選択的に除去して、抵抗材料の前記領域に印加される電位差によって発生し位置的に変化する静電界を選択的に変化させることによって、電子ビームに所定断面形状を与えるために前記映像を調整することをさらに含む請求の範囲第１項記載の方法。
４．電気抵抗材料の実質的に連続した領域が、チューブの内部に段けられた基板上に配設されてなる請求の範囲第１項記載の方法。
５．基板がチューブエンベローブである請求の範囲第４項記載の方法。
６．チューブエンベローブが映像スクリーンから離れて設けられたネックを有し、それを通じて電子ビームが作用的に通過してスクリーン上に映像を形成し、電気的抵抗材料の実質的に連続した領域が、チューブエンベローブのネックの近傍に設けられてなる請求項の範囲第１項記載の方法。
７．電気抵抗材料がチューブエンベローブ上に設けられてなる請求の範囲第６項記載の方法。
８．電気抵抗材料が実質的に円筒の形状に配置され、それを介して電子ビームがチューブの作動中に、作用的に透過する請求の範囲第１項記載の方法。
９．電気抵抗材料が実質的に円筒の形状に配置され、それを介して電子ビームがチューブの作動中に、作用的に通遇する請求の範囲第６項記載の方法。
１０．電気抵抗材料がチューブのエンベローブ上に設けられてなる請求の範囲第９項記載の方法。
１１．前記除去工程が、前記領域から抵抗材料を選択的に除去して、内部に実質的に一定電圧を有する前記領域の少なくとも−範囲を形成すると共に、実質的に一定の静電界を有する少なくとも−範囲を前記静電界内に対応して形成する請求の範囲第１項記載の方法。
１２．抵抗材料がニクロムである請求の範囲第１項記載の方法。
１３．抵抗材料がセラミック導電材料である請求の範囲第１項記載の方法。
１４．電気抵抗材料がチューブの内部に設置され、前記領域の全体を通じて実質的に均一な抵抗を形成する請求の範囲第１項記載の方法。
１５．前記設置工程が、前記領域の離れた位置に導電材料からなる少なくとも２つの範囲を設置することをさらに備え、かつ、導電材料からなる２つの前記範囲において、前記領域に電位差が印加されて、前記領域にわたる電圧勾配を形成し、それによって前記の位置的に変化する静電界を発生させる請求の範囲第１項記載の方法。
１６．密閉されたエンベロープ陰極線管において、フォーカシングスクリーン上に電子ビームを収束するために作動する静電レンズであって、電子ビームが通過し、電位が作動的に印加され、軸に限定されて実質的に中央部に設けられた開口を有するレンズエレメントと、電気抵抗材料から形成され、電子ビームが前記レンズエレメントの開口を通過するときに電子ビームに作用する実質的に均一的に位置的に変化する静電界を発生するために前記領域にわたって電圧勾配を与える前記レンズエレメント上に設けられた実質的に連続した領域とを備え、前記領域が前記抵抗材料を欠如した少なくとも１つの不連続性を有して前記実質的に均一的に位置的に変化する静電界におげる非均一性を形成し、スクリーン上の映像を形成するためにチューブを作動させ、その映像を試験し、そして電子ビームの所定断面形状を達成するために開口した前記レンズを介して電子ビームが通過するとき、電子ビームの断面形状が静電界によって調整される前記不連続性のための適当な形態と位置を映像の試験によって限定することにより、特定のチューブの作動特性に一致して予め選択された前記領域の形体と位置とで前記不連続性が定義され、それによって前記不連続性が、チューブの作動特性におけるチューブ間のビーム焦点に及ぼす変化に対して補償を与え、各特定のチューブにおける電子ビームに対する所定断面形状の達成を保証する静電レンズ。
１７．抵抗材料の実質的に連続した領域が円筒の形であり、それを介して電子ビームが通過する請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
１８．抵抗材料の前記領域がチューブエンベローブの上に形成されてなる請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
１９．抵抗材料の前記領域がチューブエンベローブの上に形成されてなる請求の範囲第１７項記載の静電レンズ。
２０．抵抗材料の前記領域が、実質的に非導電性を有する基板上に設けられてなる請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
２１．前記非連続性が、チューブエンベローブの密封後に定義される請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
２２．チューブエンベローブが、映像スクリーンから離れて設けられかつ電子ビームがスクリーン上に映像を形成するために通過するネックを有し、抵抗材料の実質的に連続した領域が、チューブエンベローブのネックの近傍に設けられてなる請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
２３．実質的に一定の静電界を有する前記電界の対応する範囲を発生させるために、その範囲内に実質的に一定な電圧を有する抵抗材料の範囲を、前記非連続性が定義する請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
２４．前記抵抗材料が、前記領域の全体にわたって、実質的に均一な抵抗を有し、前記領域にわたる実質的に均一な電圧勾配を与える請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
２５．前記抵抗材料が、ニクロムとセラミック導電材料のうちの１つである請求の範囲第１６項記載の静電レンズ。
２６．映像スクリーンを有する密閉されたエンベローブ陰極線管における電子ビーム制御静電界発生器を微細に調整する方法であって、チューブ内の支持部材上に電気抵抗材料の領域を設置し、抵抗材料の前記領域に電位差を印加して、チューブの作動中に電子ビームの特性を制御するための静電界をチューブ内に発生させ、チューブエンベローブの外側で発生するレーザビームをエンベローブの壁を介して抵抗材料の上に照射して、抵抗材料の選択された部分を焼き取ることによって、抵抗材料の前記領域の選択された少なくとも１部分を除去し、それによって電子ビームの電界制御特性を最適化するために、静電界を予め調整する方法。
２７．スクリーン上に電子ビームによって生じる映像を形成するために陰極線管を作動し、スクリーン上に形成された映像中の電子ビームの特性を試験し、そして、電子ビーム特性の試験に対応して抵抗材料の前記領域の選択された少なくとも１つの部分の除去を制御し、それによって、電子ビーム特性を適正化するために静電界を調整する請求項第２６項記載の方法。
２８．電界発生器が映像スクリーン上の電子ビームの焦点を制御する請求の範囲第２６項記載の方法。
２９．前記特性が電子ビームの断面形状である請求の範囲第２８項記載の方法。
３０．前記特性が電子ビームの断面形状である請求の範囲第２６項の記載の方法。
３１．抵抗材料が設置される支持部がチューブエンベローブである請求の範囲第２６項記載の方法。
３２．チューブエンベローブが、映像スクリーンから離れて設けられ、かつスクリーン上の映像を形成する電子ビームが作用的に通過するネックを有し、電気抵抗材料の領域がチューブエンベローブのネックの近傍に設けられた請求の範囲第２６項記載の方法。
３３．抵抗材料が設置される支持部がチューブエンベローブである請求の範囲第３２項記載の方法。
３４．電気抵抗材料は、電子ビームがチューブの作動中に作用的に通過する円筒の形に実質的に設置された請求の範囲第２６項記載の方法。
３５．電気的抵抗材料は、電子ビームがチューブの作動中に、作用的に通過する円筒の形に実質的に設置された請求の範囲第３１項記載の方法。
３６．前記電位差によって発生する静電界が、位置的に変化する電界であり、かつ前記除去工程が、前記領域から選択的に抵抗材料を除去して、前記範囲内に実質的に一定の電圧を有する前記領域の少なくとも−範囲を形成すると共に、実質的に一定の静電界を有する前記電界の少なくとも−範囲を対応して形成することをさらに含む請求の範囲第２６項記載の方法。
３７．前記電位差によって発生する静電界が実質的に均一的に位置的に変化する電界であり、そして前記除去工程が前記領域から選択的に抵抗材料を除去して、前記範囲内に実質的に一定の電圧を有する前記領域の少なくとも−範囲を形成すると共に、実質的に一定の静電界を有する前記電界の少なくも−範囲を対応して形成することをさらに含む請求の範囲第２６項記載の方法。
３８．前記領域の全体にわたって実質的に均−な低抗を与えるように、前記電気抵抗材料がチューブ内に設けられた請求の範囲第２６項記載の方法。
３９．抵抗材料がニクロムである請求の範囲第２６項記載の方法。
４０．抵抗材料がセラミック導電材料である請求の範囲第２６項記載の方法。
４１．前記設置工程が、前記領域の離れた位置に導電材料からなる少なくとも２つの範囲を設置し、前記電位差が導電材料の前記２つの範囲において前記領域に対して印加され、前記領域にわたって電圧勾配を発生させ、それによって位置的に変化する静電界を発生することをさらに含む請求の範囲第２６項記載の方法。