JPH0345957U - - Google Patents
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- JPH0345957U JPH0345957U JP10587189U JP10587189U JPH0345957U JP H0345957 U JPH0345957 U JP H0345957U JP 10587189 U JP10587189 U JP 10587189U JP 10587189 U JP10587189 U JP 10587189U JP H0345957 U JPH0345957 U JP H0345957U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass flow
- main pipe
- flow rate
- flow controller
- gas introduction
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す構成図、第２
図、第３図は従来のＬＰＣＶＤ装置を示す構成図
である。 １……ウエハ支持台、２……ウエハ、３……反
応管、４，５……蓋体、６……ガス導入孔、７…
…加熱炉、８……排気孔、９……排気ポンプ、１
０，１１，１２，１３，１４，１５……ＭＦＣ（
マスフローコントローラ）１６……主管、１７…
…反応ガス導入管、１８……ＭＦＭ（マスフロー
メータ）、１９……制御回路、２０，２１，２２
……設定器。
図、第３図は従来のＬＰＣＶＤ装置を示す構成図
である。 １……ウエハ支持台、２……ウエハ、３……反
応管、４，５……蓋体、６……ガス導入孔、７…
…加熱炉、８……排気孔、９……排気ポンプ、１
０，１１，１２，１３，１４，１５……ＭＦＣ（
マスフローコントローラ）１６……主管、１７…
…反応ガス導入管、１８……ＭＦＭ（マスフロー
メータ）、１９……制御回路、２０，２１，２２
……設定器。
Claims (1)
- マスフローコントローラによつて各々流量調整
のなされた少なくとも２種類の反応ガスを混合す
る１本の主管から分岐した少なくとも２本の反応
ガス導入管を備えた減圧気相成長装置において、
前記主管から分岐した各反応ガス導入管のそれぞ
れに設けた流量調整用マスフローコントローラと
、前記流量調整用マスフローコントローラを前記
主管に設けたマスフローメータの出力電圧に比例
して制御させる制御回路とを有することを特徴と
する減圧気相成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10587189U JPH0345957U (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10587189U JPH0345957U (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0345957U true JPH0345957U (ja) | 1991-04-26 |
Family
ID=31654626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10587189U Pending JPH0345957U (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0345957U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002110570A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置用ガスラインシステム |
| JP2012241222A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-10 | Ihi Corp | ガス分岐装置およびガス分岐方法 |
-
1989
- 1989-09-08 JP JP10587189U patent/JPH0345957U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002110570A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置用ガスラインシステム |
| JP2012241222A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-10 | Ihi Corp | ガス分岐装置およびガス分岐方法 |
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