JPH0344023A - レジスト塗布装置 - Google Patents

レジスト塗布装置

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JPH0344023A
JPH0344023A JP17996589A JP17996589A JPH0344023A JP H0344023 A JPH0344023 A JP H0344023A JP 17996589 A JP17996589 A JP 17996589A JP 17996589 A JP17996589 A JP 17996589A JP H0344023 A JPH0344023 A JP H0344023A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist
wafer
chuck
cup
adsorbed
Prior art date
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Pending
Application number
JP17996589A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Inoue
昌宏 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Filing date
Publication date
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ウェハー表面にレジスト層を形成するレジ
スト塗布装置に関する。
〔従来の技術〕
従来のレジスト塗布装置は、第２図に示すようにノズル
６からレジスト５がチャック２に吸着しているウェハー
３上に滴下されて、その後にチャック２とチャック２に
吸着しているウェハー３が回転して、チャック２に吸着
しているウェハー３の表面にレジスト層を形成していた
。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、従来のレジスト塗布装置ではチャンク２に吸着
しているウェハー３表面上に多量のレジスト５を滴下し
なくては、チャック２に吸着しているウェハー３表面全
面にレジスト層を形成できないという欠点があった。
そこでこの発明は、このような欠点を解決するため、少
量のレジスト５でチャック２に吸着しているウェハー３
表面全面にレジスト層を形成することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記問題点を解決するためにこの発明は、レジスト５を
貯めるレジストカップ６を用意し、レジストカップ６に
貯めたレジスト５にチャック２に吸着しているウェハー
３表面を接触させ、その後にチャック２に吸着している
ウェハー３をレジストカノブ４に貯めたレジスト５から
はなし−ζ回転させて、チャック２に吸着ているウェハ
ー３表面にレジスト層を形成させるようにした。
〔作用〕
上記のように構成されたレジスト塗布装置により、チャ
ック２に吸着しているウェハー３表面にレジスト層を形
成すると、少量のレジスｌ−５によりチャック２に吸着
しているウェハー３表面にレジスト層を形ｙ戊すること
ができる。
〔発明の効果〕
この発明は以−１説明したように、レジスト５を貯める
レジストカップ４を用意するという簡単な構造で、少量
のレジスト５でチャンク２に吸着しているウェハー３表
面にレジスト層を形成できるようになり、レジスト５の
消費量削減に効果がある。また、瞬間的にチャック２に
吸着しているウェハー３表面にレジスｌ−５かイ」着す
るので、チャック２とチャック２に吸着しているウェハ
ー３を回転したあとのチャック２に吸着しているウェハ
ー３表面に形成されるレジスｌ−層の均一性も向上する
という効果もある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明にかかるレジスト塗布装置の断面図であ
る。第２図は従来のレジスト塗布装置の断面図である。 ・カップ チャック ・ウェハー ・レジストカップ レジスト ・ノズル 以 」二

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レジストを貯めるレジストカップと、その上方に配置さ
    れ、ウェハーの塗布面を下に向けて保持するチャックと
    からなり、上記チャックは上記レジストカップ内のレジ
    ストにウェハー表面を接触させ、さらに上記表面より引
    き上げる上下動機構と回転機構とに結合していることを
    特徴とするレジスト塗布装置。
JP17996589A 1989-07-11 1989-07-11 レジスト塗布装置 Pending JPH0344023A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2276885A (en) * 1993-03-30 1994-10-12 Mitsubishi Electric Corp Automatic transfer of wafer in electroplating apparatus
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