JPH0343334B2 - - Google Patents
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- JPH0343334B2 JPH0343334B2 JP60062640A JP6264085A JPH0343334B2 JP H0343334 B2 JPH0343334 B2 JP H0343334B2 JP 60062640 A JP60062640 A JP 60062640A JP 6264085 A JP6264085 A JP 6264085A JP H0343334 B2 JPH0343334 B2 JP H0343334B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molded body
- ceramic
- casting
- ceramic molded
- mold
- Prior art date
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- Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、セラミツクス−金属複合体の製造方
法に関する。 （従来の技術及びその問題点） 一般に、金属鋳造材のみでは耐摩耗性、耐熱性
が不足する耐熱、耐摩耗ローラー等で、セラミツ
クスと金属との複合ローラーが使用されている。 従来、この複合材の製造法について、酸化物、
ケイ化物、窒化物、金属炭化物、ホウ化物等の粒
子（以下、セラミツクス粒子という。）を金属溶
湯中に投入撹拌して均一分散した後成形凝固させ
る方法、あるいは容器内に粉末を充填しておき、
これに金属溶湯を圧力下で注入する方法がある。
しかし、前者の方法は金属とセラミツクスの比重
差が大きいため均一な複合体が得られにくく、ま
た両者とも大形の複合体を工業的に得るには適し
ていない。 一方、特開昭60−37260号公報には、多孔質の
セラミツクス成形体を鋳型の内面の所望部分にも
充填もしくは貼付し、鋳型内に溶融金属を静置鋳
造し、前記成形体内に溶融金属を浸透させる技術
が開示されているが、溶融金属は重力の作用でセ
ラミツクス成形体の空隙に浸入するに過ぎないた
め、セラミツクス成形体のすべての空隙に溶融金
属を含浸させることは困難であり、特に、鋳型内
面に囲まれた、セラミツクス成形体の角部は極め
て冷却され易いので、溶融金属の未浸透部が生じ
易く、製造歩留の低下を招来する。 本発明はかかる問題点に鑑みなされたもので、
セラミツクスが均一に分布し、大形の複合体でも
容易に製造することができ、製造歩留の良好なセ
ラミツクス−金属複合体の製造方法を提供するこ
とを目的とする。 （課題を解決するための手段） 上記目的を達成するためになされた本発明の製
造方法は、セラミツクス粒子の焼成によつて形成
された空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス成形
体を遠心力鋳造用金型に装入し、該金型の内部側
の端面に鋳造用凹部が形成された湯止め用バンド
を前記金型の両端開口に装着し、この装着によつ
て前記凹部の開口周縁部を前記セラミツクス成形
体の両端の外周縁部に当接させてセラミツクス成
形体を前記金型内に固定すると共にセラミツクス
成形体の端面と前記凹部底面との間に鋳造空間を
形成し、該空間およびセラミツクス成形体の空隙
に金属鋳造材を遠心力鋳造することを発明の構成
とする。この際、セラミツクス成形体の空隙に金
属鋳造材が浸透した浸透層の内周面に更に金属鋳
造材を遠心力鋳造して内層を形成してもよい。 （実施例） 以下本発明について詳細に説明する。 先ず、本発明の製造に係る複合体について、第
１図に示す実施例に基づいて説明する。 図において、１は金属浸透層４のみからなる本
発明適用の円筒状セラミツクス−金属複合体の部
分断面図であり、２は円筒状セラミツクス成形
体、３は前記成形体２の空隙に浸透された金属鋳
造材である。前記セラミツクス成形体２は、空隙
率70〜90％の高空隙率のセラミツクス成形体であ
り、その材質は耐摩耗性、耐熱性等の必要に応じ
て、Al2O3、ZrO2、BeO、TiC、SiC、TiN、
Si3N4等の酸化物、ケイ化物、窒化物、ホウ化
物、金属炭化物を選定する。このセラミツクス成
形体２は一般にセラミツクスフオームと呼ばれて
いるもので、その一般的な製造法は、次の通りで
ある。すなわち、ポリウレタンを発泡させて網目
状骨格としたポリウレタンフオームに、上記セラ
ミツクス粒子のスラリーを含浸させ、次いで余剰
のスラリーを除去し、網目状骨格にセラミツクス
粒子が均一に堆積させたものを得る。これを乾燥
後焼成することにより、空隙率が70〜90％のセラ
ミツクスフオーム成形体が容易に得られる。この
成形体の空隙は完全に外部と連結して、金属溶湯
の浸透に好都合である。 本発明において、70〜90％の円筒状セラミツク
ス成形体２を用いるのは次の理由による。すなわ
ち、空隙率70％未満では外表面付近までの浸透が
得られにくく、金属の侵入しない独立した空隙が
多く生じ強度上好ましくない。一方90％を越える
とセラミツクスフオームの形成が困難であり、加
えてセラミツクスの面積が少なく所望の性質の付
与が不足するためである。 この円筒状セラミツクス成形体２に浸透された
金属鋳造材３は要求される性質、強度により高級
鋳鉄、ダクタイル鋳鉄、鋳鋼、その他鉄系合金鋳
造、アルミニウム等の非鉄合金鋳造材等を適宜使
用出来る。 また、該複合体１の厚さは50mm程度までがよ
く、それより厚くすると表面まで十分な浸透が得
られにくくなる。尚、外表面のみ金属の浸透がな
く空隙のあるセラミツクス層が存在しても、使用
上問題ないか、或いはプラスの効果を示すような
用途の場合は、勿論、厚さの全体に亘つて浸透さ
せる必要はない。 更に、第２図の如く、浸透層４′の内面に、該
浸透層４′中の金属鋳造材と冶金的に連続な同材
質からなる内層５を有してもよい。これは、金属
鋳造材を前記セラミツクス成形体２内部へ鋳造す
るとき、鋳造材溶湯の量により決まり、前記溶湯
がセラミツクス成形体の空隙を完全に満たせば、
内層５は生じず、余分に鋳造された場合は薄い層
となつて残存する。この薄い層は加工して除去し
てもよく、支障がなければ残存させておいてもよ
い。また、強度が特に必要な場合は、積極的に厚
さの厚い内層５とすることもでき、円筒体の中心
まで鋳造して中実としてもよい。 次に、本発明の製造法について、第１図に示す
実施例の場合に即して説明する。 先ず、既述したセラミツクスフオームの製作方
法により、空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス
成形体２を製作する。 次に、第３図に示す如く、前記セラミツクス成
形体２を遠心力鋳造用金型７内に耐火物８及びバ
ンド９，９で固定し、この状態で金型７を回転さ
せ、セラミツクス成形体の空隙に浸透させるため
の鋳造材溶湯を注湯用樋１０を用いて前記セラミ
ツクス成形体２内へ注湯する。この際、前記湯止
め用バンド９，９の金型内部側の端面に鋳造用凹
部を形成しておき、該バンド９，９を金型７の両
端開口に装着することによつて、前記凹部の開口
周縁部をセラミツクス成形体２の両端の外周縁部
に当接させて該成形体２を金型７内に固定すると
共に該成形体２の端面と前記凹部底面との間に鋳
造空間１１，１１を形成し、該空間１１，１１に
も鋳造材溶湯を遠心力鋳造する。 こうすることによつて、前記成形体２の両端面
が鋳込まれた溶湯に接触するようになり、セラミ
ツクス成形体２の両端部にも鋳造材を確実に浸透
させることができる。前記鋳造空間１１，１１を
設けない場合、セラミツクス成形体２の端部は金
型７内周面の耐火物８とバンド９とによつて周方
向および軸方向の２方向から冷却され、前記成形
体２の空隙に浸入した溶湯は速やかに凝固するた
め、該端部に未浸透部が生じ易く、製造歩留の低
下を招来する。特に大形のもの程、この傾向は著
しくなる。 また、浸透を助ける手段として、前記セラミツ
クス成形体２を400〜1200℃に予熱することが望
ましい。この際、予熱による酸化等の変質を防止
するために、不活性ガス中で予熱することも有効
な手段である。加えて、該予熱は、鋳造により生
ずる熱衝撃によるセラミツクス成形体２の割れ防
止及び鋳造後の両者の収縮差による割れ防止の効
果もある。 前記遠心力鋳造の際の鋳型回転数については、
GNO.が大きく、鋳込温度が高い方が浸透を助長す
る。一般にGNO.はG20〜G200程度であるが、勿論
G200以上でも浸透を大きくするのでよい。特に、
セラミツクス成形体２の空隙率が小さく、浸透層
を厚くする必要のある場合はＧNo.を大きくすれば
よい。このように、遠心力鋳造によると浸透層の
厚さが容易に制御できる好適である。 鋳造用溶湯の材質は、既述したように、高級鋳
鉄、ダクタイル鋳鉄等の中から要求される性質、
強度に応じて適宜選択されるが、浸透性について
のみいえば、高級鋳鉄が最良である。そこで、高
級鋳鉄の如く浸透性のよい金属でまずセラミツク
ス成形体の厚さ丁度又は少し余分に鋳造し、次い
で、その内側へ強度の大きい金属、例えばアダマ
イト、黒鉛鋳鋼等を鋳造すれば、浸透の容易さ
と、機械的強度を容易に兼備でき優れる。又、融
点の低いアルミニウム溶湯を用いた場合、浸透性
も良好であり、比重の小さい複合体が得られる。 鋳造後は、高温の状態で型バラシして、保熱
炉、熱処理炉で十分徐冷することが望ましい。 次に具体的製造実施例を掲げて説明する。 外径φ300×全長400l×肉厚30tmmの搬送ローラ
ーの製造実施例。 １ 外径φ302×全長410l×厚さ31tmm、材質
Al2O3、粒子寸法50μｍ〜500μｍ、空隙率85％
の円筒状Al2O3系セラミツクス成形体を準備
し、500℃に予熱した後、前述した第３図の如
く、遠心力鋳造用金型内へ耐火材を介して設置
した。 ２ 金型を回転させ、金型回転をGNO.で200とし
た。 ３ 次に、浸透用金属として下記成分（残部実質
的にFe）の高級鋳鉄溶湯を1380℃で鋳込んだ。
法に関する。 （従来の技術及びその問題点） 一般に、金属鋳造材のみでは耐摩耗性、耐熱性
が不足する耐熱、耐摩耗ローラー等で、セラミツ
クスと金属との複合ローラーが使用されている。 従来、この複合材の製造法について、酸化物、
ケイ化物、窒化物、金属炭化物、ホウ化物等の粒
子（以下、セラミツクス粒子という。）を金属溶
湯中に投入撹拌して均一分散した後成形凝固させ
る方法、あるいは容器内に粉末を充填しておき、
これに金属溶湯を圧力下で注入する方法がある。
しかし、前者の方法は金属とセラミツクスの比重
差が大きいため均一な複合体が得られにくく、ま
た両者とも大形の複合体を工業的に得るには適し
ていない。 一方、特開昭60−37260号公報には、多孔質の
セラミツクス成形体を鋳型の内面の所望部分にも
充填もしくは貼付し、鋳型内に溶融金属を静置鋳
造し、前記成形体内に溶融金属を浸透させる技術
が開示されているが、溶融金属は重力の作用でセ
ラミツクス成形体の空隙に浸入するに過ぎないた
め、セラミツクス成形体のすべての空隙に溶融金
属を含浸させることは困難であり、特に、鋳型内
面に囲まれた、セラミツクス成形体の角部は極め
て冷却され易いので、溶融金属の未浸透部が生じ
易く、製造歩留の低下を招来する。 本発明はかかる問題点に鑑みなされたもので、
セラミツクスが均一に分布し、大形の複合体でも
容易に製造することができ、製造歩留の良好なセ
ラミツクス−金属複合体の製造方法を提供するこ
とを目的とする。 （課題を解決するための手段） 上記目的を達成するためになされた本発明の製
造方法は、セラミツクス粒子の焼成によつて形成
された空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス成形
体を遠心力鋳造用金型に装入し、該金型の内部側
の端面に鋳造用凹部が形成された湯止め用バンド
を前記金型の両端開口に装着し、この装着によつ
て前記凹部の開口周縁部を前記セラミツクス成形
体の両端の外周縁部に当接させてセラミツクス成
形体を前記金型内に固定すると共にセラミツクス
成形体の端面と前記凹部底面との間に鋳造空間を
形成し、該空間およびセラミツクス成形体の空隙
に金属鋳造材を遠心力鋳造することを発明の構成
とする。この際、セラミツクス成形体の空隙に金
属鋳造材が浸透した浸透層の内周面に更に金属鋳
造材を遠心力鋳造して内層を形成してもよい。 （実施例） 以下本発明について詳細に説明する。 先ず、本発明の製造に係る複合体について、第
１図に示す実施例に基づいて説明する。 図において、１は金属浸透層４のみからなる本
発明適用の円筒状セラミツクス−金属複合体の部
分断面図であり、２は円筒状セラミツクス成形
体、３は前記成形体２の空隙に浸透された金属鋳
造材である。前記セラミツクス成形体２は、空隙
率70〜90％の高空隙率のセラミツクス成形体であ
り、その材質は耐摩耗性、耐熱性等の必要に応じ
て、Al2O3、ZrO2、BeO、TiC、SiC、TiN、
Si3N4等の酸化物、ケイ化物、窒化物、ホウ化
物、金属炭化物を選定する。このセラミツクス成
形体２は一般にセラミツクスフオームと呼ばれて
いるもので、その一般的な製造法は、次の通りで
ある。すなわち、ポリウレタンを発泡させて網目
状骨格としたポリウレタンフオームに、上記セラ
ミツクス粒子のスラリーを含浸させ、次いで余剰
のスラリーを除去し、網目状骨格にセラミツクス
粒子が均一に堆積させたものを得る。これを乾燥
後焼成することにより、空隙率が70〜90％のセラ
ミツクスフオーム成形体が容易に得られる。この
成形体の空隙は完全に外部と連結して、金属溶湯
の浸透に好都合である。 本発明において、70〜90％の円筒状セラミツク
ス成形体２を用いるのは次の理由による。すなわ
ち、空隙率70％未満では外表面付近までの浸透が
得られにくく、金属の侵入しない独立した空隙が
多く生じ強度上好ましくない。一方90％を越える
とセラミツクスフオームの形成が困難であり、加
えてセラミツクスの面積が少なく所望の性質の付
与が不足するためである。 この円筒状セラミツクス成形体２に浸透された
金属鋳造材３は要求される性質、強度により高級
鋳鉄、ダクタイル鋳鉄、鋳鋼、その他鉄系合金鋳
造、アルミニウム等の非鉄合金鋳造材等を適宜使
用出来る。 また、該複合体１の厚さは50mm程度までがよ
く、それより厚くすると表面まで十分な浸透が得
られにくくなる。尚、外表面のみ金属の浸透がな
く空隙のあるセラミツクス層が存在しても、使用
上問題ないか、或いはプラスの効果を示すような
用途の場合は、勿論、厚さの全体に亘つて浸透さ
せる必要はない。 更に、第２図の如く、浸透層４′の内面に、該
浸透層４′中の金属鋳造材と冶金的に連続な同材
質からなる内層５を有してもよい。これは、金属
鋳造材を前記セラミツクス成形体２内部へ鋳造す
るとき、鋳造材溶湯の量により決まり、前記溶湯
がセラミツクス成形体の空隙を完全に満たせば、
内層５は生じず、余分に鋳造された場合は薄い層
となつて残存する。この薄い層は加工して除去し
てもよく、支障がなければ残存させておいてもよ
い。また、強度が特に必要な場合は、積極的に厚
さの厚い内層５とすることもでき、円筒体の中心
まで鋳造して中実としてもよい。 次に、本発明の製造法について、第１図に示す
実施例の場合に即して説明する。 先ず、既述したセラミツクスフオームの製作方
法により、空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス
成形体２を製作する。 次に、第３図に示す如く、前記セラミツクス成
形体２を遠心力鋳造用金型７内に耐火物８及びバ
ンド９，９で固定し、この状態で金型７を回転さ
せ、セラミツクス成形体の空隙に浸透させるため
の鋳造材溶湯を注湯用樋１０を用いて前記セラミ
ツクス成形体２内へ注湯する。この際、前記湯止
め用バンド９，９の金型内部側の端面に鋳造用凹
部を形成しておき、該バンド９，９を金型７の両
端開口に装着することによつて、前記凹部の開口
周縁部をセラミツクス成形体２の両端の外周縁部
に当接させて該成形体２を金型７内に固定すると
共に該成形体２の端面と前記凹部底面との間に鋳
造空間１１，１１を形成し、該空間１１，１１に
も鋳造材溶湯を遠心力鋳造する。 こうすることによつて、前記成形体２の両端面
が鋳込まれた溶湯に接触するようになり、セラミ
ツクス成形体２の両端部にも鋳造材を確実に浸透
させることができる。前記鋳造空間１１，１１を
設けない場合、セラミツクス成形体２の端部は金
型７内周面の耐火物８とバンド９とによつて周方
向および軸方向の２方向から冷却され、前記成形
体２の空隙に浸入した溶湯は速やかに凝固するた
め、該端部に未浸透部が生じ易く、製造歩留の低
下を招来する。特に大形のもの程、この傾向は著
しくなる。 また、浸透を助ける手段として、前記セラミツ
クス成形体２を400〜1200℃に予熱することが望
ましい。この際、予熱による酸化等の変質を防止
するために、不活性ガス中で予熱することも有効
な手段である。加えて、該予熱は、鋳造により生
ずる熱衝撃によるセラミツクス成形体２の割れ防
止及び鋳造後の両者の収縮差による割れ防止の効
果もある。 前記遠心力鋳造の際の鋳型回転数については、
GNO.が大きく、鋳込温度が高い方が浸透を助長す
る。一般にGNO.はG20〜G200程度であるが、勿論
G200以上でも浸透を大きくするのでよい。特に、
セラミツクス成形体２の空隙率が小さく、浸透層
を厚くする必要のある場合はＧNo.を大きくすれば
よい。このように、遠心力鋳造によると浸透層の
厚さが容易に制御できる好適である。 鋳造用溶湯の材質は、既述したように、高級鋳
鉄、ダクタイル鋳鉄等の中から要求される性質、
強度に応じて適宜選択されるが、浸透性について
のみいえば、高級鋳鉄が最良である。そこで、高
級鋳鉄の如く浸透性のよい金属でまずセラミツク
ス成形体の厚さ丁度又は少し余分に鋳造し、次い
で、その内側へ強度の大きい金属、例えばアダマ
イト、黒鉛鋳鋼等を鋳造すれば、浸透の容易さ
と、機械的強度を容易に兼備でき優れる。又、融
点の低いアルミニウム溶湯を用いた場合、浸透性
も良好であり、比重の小さい複合体が得られる。 鋳造後は、高温の状態で型バラシして、保熱
炉、熱処理炉で十分徐冷することが望ましい。 次に具体的製造実施例を掲げて説明する。 外径φ300×全長400l×肉厚30tmmの搬送ローラ
ーの製造実施例。 １ 外径φ302×全長410l×厚さ31tmm、材質
Al2O3、粒子寸法50μｍ〜500μｍ、空隙率85％
の円筒状Al2O3系セラミツクス成形体を準備
し、500℃に予熱した後、前述した第３図の如
く、遠心力鋳造用金型内へ耐火材を介して設置
した。 ２ 金型を回転させ、金型回転をGNO.で200とし
た。 ３ 次に、浸透用金属として下記成分（残部実質
的にFe）の高級鋳鉄溶湯を1380℃で鋳込んだ。
【表】
鋳込量は、前記セラミツクス成形体の空隙を
すべて満し、さらに２mmの金属層が形成される
量とした。 ４ 溶湯の凝固後、高温状態下で金型からセラミ
ツクス−金属複合体を取り出し、型バラシして
保熱炉に入れて徐冷した。 ５ 以上の結果、前記セラミツクス成形体の空隙
のすべてに亘り、高級鋳鉄材が浸透し、更にそ
の内面に薄い金属層を有した円筒状セラミツク
ス−金属複合体を得た。 ６ これに所定の仕上加工を施し、所望の搬送ロ
ーラーを得た。 （発明の効果） 以上述べたように、本発明の複合体の製造方法
は、空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス成形体
を遠心力鋳造用金型に装入し、その両端に湯止め
用バンドを当接して金型内に固定し、前記成形体
の空隙に金属鋳造材を遠心力鋳造するので、セラ
ミツクス成形体の大小に拘らず、金属鋳造材の浸
透深さ、内層の厚さを容易にコントロールするこ
とができ、セラミツクスが均一に分布した浸透層
を有する複合体をその大きさに拘らず容易に製造
することができる。 また、セラミツクス成形体はその両端面の外周
縁部がバンドの鋳造用凹部の開口周縁部に当接さ
れて支持されており、セラミツクス成形体の端面
と前記凹部底面との間に鋳造空間が形成され、該
空間にも金属鋳造材が遠心力鋳造されるので、前
記成形体の両端面が鋳込まれた溶融金属に接触す
るようになり、セラミツクス成形体の両端部にも
鋳造材を確実に浸透させることができ、製造歩留
を向上させることができ、複合体の工業的製造方
法として優れる。
すべて満し、さらに２mmの金属層が形成される
量とした。 ４ 溶湯の凝固後、高温状態下で金型からセラミ
ツクス−金属複合体を取り出し、型バラシして
保熱炉に入れて徐冷した。 ５ 以上の結果、前記セラミツクス成形体の空隙
のすべてに亘り、高級鋳鉄材が浸透し、更にそ
の内面に薄い金属層を有した円筒状セラミツク
ス−金属複合体を得た。 ６ これに所定の仕上加工を施し、所望の搬送ロ
ーラーを得た。 （発明の効果） 以上述べたように、本発明の複合体の製造方法
は、空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス成形体
を遠心力鋳造用金型に装入し、その両端に湯止め
用バンドを当接して金型内に固定し、前記成形体
の空隙に金属鋳造材を遠心力鋳造するので、セラ
ミツクス成形体の大小に拘らず、金属鋳造材の浸
透深さ、内層の厚さを容易にコントロールするこ
とができ、セラミツクスが均一に分布した浸透層
を有する複合体をその大きさに拘らず容易に製造
することができる。 また、セラミツクス成形体はその両端面の外周
縁部がバンドの鋳造用凹部の開口周縁部に当接さ
れて支持されており、セラミツクス成形体の端面
と前記凹部底面との間に鋳造空間が形成され、該
空間にも金属鋳造材が遠心力鋳造されるので、前
記成形体の両端面が鋳込まれた溶融金属に接触す
るようになり、セラミツクス成形体の両端部にも
鋳造材を確実に浸透させることができ、製造歩留
を向上させることができ、複合体の工業的製造方
法として優れる。
第１図は本発明適用の円筒状セラミツクス−金
属複合体の部分断面図、第２図は本発明適用の他
の円筒状セラミツクス−金属複合体の部分断面
図、第３図は本発明の製造法に係る製造装置概略
の一例を示す断面図である。 １……円筒状セラミツクス−金属複合体、２…
…円筒状セラミツクス成形体、３……金属鋳造
材、４，４′……浸透層、５……内層、７……金
型。
属複合体の部分断面図、第２図は本発明適用の他
の円筒状セラミツクス−金属複合体の部分断面
図、第３図は本発明の製造法に係る製造装置概略
の一例を示す断面図である。 １……円筒状セラミツクス−金属複合体、２…
…円筒状セラミツクス成形体、３……金属鋳造
材、４，４′……浸透層、５……内層、７……金
型。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ セラミツクス粒子の焼成によつて形成された
空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス成形体を遠
心力鋳造用金型に装入し、該金型の内部側の端面
に鋳造用凹部が形成された湯止め用バンドを前記
金型の両端開口に装着し、この装着によつて前記
凹部の開口周縁部を前記セラミツクス成形体の両
端の外周縁部に当接させてセラミツクス成形体を
前記金型内に固定すると共にセラミツクス成形体
の端面と前記凹部底面との間に鋳造空間を形成
し、該空間およびセラミツクス成形体の空隙に金
属鋳造材を遠心力鋳造することを特徴とするセラ
ミツクス−金属複合体の製造方法。 ２ セラミツクス粒子の焼成によつて形成された
空隙率70〜90％の円筒状セラミツクス成形体を遠
心力鋳造用金型に装入し、該金型の内部側の端面
に鋳造用凹部が形成された湯止め用バンドを前記
金型の両端開口に装着し、この装着によつて前記
凹部の開口周縁部を前記セラミツクス成形体の両
端の外周縁部に当接させてセラミツクス成形体を
前記金型内に固定すると共にセラミツクス成形体
の端面と前記凹部底面との間に鋳造空間を形成
し、該空間およびセラミツクス成形体の空隙に金
属鋳造材を遠心力鋳造し、更に該成形体の空隙に
前記鋳造材が浸透した浸透層の内周面に金属鋳造
材を遠心力鋳造して内層を形成することを特徴と
するセラミツクス−金属複合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6264085A JPS61221343A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | セラミックス―金属複合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6264085A JPS61221343A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | セラミックス―金属複合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61221343A JPS61221343A (ja) | 1986-10-01 |
| JPH0343334B2 true JPH0343334B2 (ja) | 1991-07-02 |
Family
ID=13206128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6264085A Granted JPS61221343A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | セラミックス―金属複合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61221343A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0611895B2 (ja) * | 1987-01-20 | 1994-02-16 | 工業技術院長 | 金属―セラミックス複合成形体の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5923833A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-07 | Chugai Ro Kogyo Kaisha Ltd | 繊維強化合金からなる円筒体の製造方法 |
| JPS6037260A (ja) * | 1983-08-09 | 1985-02-26 | Nippon Steel Corp | セラミツクス複合鋳物材の製造方法 |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP6264085A patent/JPS61221343A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61221343A (ja) | 1986-10-01 |
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