JPH0339700A - シュヴァルツシルド光学系 - Google Patents

シュヴァルツシルド光学系

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JPH0339700A
JPH0339700A JP1173797A JP17379789A JPH0339700A JP H0339700 A JPH0339700 A JP H0339700A JP 1173797 A JP1173797 A JP 1173797A JP 17379789 A JP17379789 A JP 17379789A JP H0339700 A JPH0339700 A JP H0339700A
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JP
Japan
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optical system
curvature
point
distance
center
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Pending
Application number
JP1173797A
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English (en)
Inventor
Mikiko Katou
加藤 美来子
Yoshinori Iketaki
慶記 池滝
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP1173797A priority Critical patent/JPH0339700A/ja
Publication of JPH0339700A publication Critical patent/JPH0339700A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70233Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、軟X線領域の波長の光を結像させるために利
用するシュヴァルツシルド光学系に関する。
〔従来の技術〕
X線を結像させるための光学系としてシュヴフルツシル
ド光学系が知られている。これは、第16図に示すよう
に、中心部に開口を有する凹面鏡lと凸面鏡2を、凸面
鏡2が凹面鏡lの開口と対向するようにして光軸上に配
置したものであって、物点Oから発するX線を凹面鏡l
、凸面鏡2の順に反射させて像点Iに結像するようにし
たもの(或は像点■と物点Oを入れ替えて逆に用いても
良い)である。このシュヴァルツシルド光学系には凹面
鏡lと凸面鏡2の曲率中心C,,C,を一致させた共心
型のものと、曲率中心CI、C!が一致しない非共心型
のものとがある。
共心型のものについては、P、 Erd(isの設計法
(P、RrdOs Opt America 49,8
77 (1959) )が知られている。
又、非共心型のものについては、5PIEに紹介された
もの(SPIE vol、316 High Re5d
utionSoft X−Ray 0ptics(19
81) )が知られている。
一方、特公昭29−6775号公報にはシュヴァルツシ
ルド光学系の各構成パラメータを、収差補正を考慮して
決定する方法が示されている。ここで示されている光学
系は、無限遠設計のもの即ちシュヴァルツシルド光学系
を射出する軸上光が光軸と平行になるタイプのものであ
るが、第17図に示すように、球面収差S及びコマ収差
Fの補正状態が凹面鏡lの曲率半径rlと凸面鏡2の曲
率半径r2との比r、/r、(=a)及びr、と両鏡の
曲率中心の間の距離dとの比d/rt(=b)とを夫々
横軸及び縦軸として解析されており、第17図の斜線で
囲まれた3<l/a<14゜−0,5<S<0.2.b
>0の範囲内で光学系を設計すれば球面収差を小さく抑
えることができる事が示されている。又、このように設
計した光学系の反射面に非球面を導入することにより、
コマ収差も良好に補正できることが併せて示されている
又、シュヴァルツシルド光学系を走査型顕微鏡の対物レ
ンズとして使用する場合には、その結像性能を評価する
ために点像強度分布(以下PSFと称す)を用いるが、
PSFの半値幅が細いものほど分解能が高いので望まし
い。
又、シュヴァルツシルド光学系を軟X線領域の波長光の
結像に用いる場合、反射鏡表面に多層膜を被覆して反射
率を得る方法が知られている。例えば、本願発明者は、
特願平1−54751号で多層膜の設計法を提案してい
る。シュヴァルツシルド光学系を槽底する凹面鏡l及び
凸面鏡2に被覆する多層膜は、各々光学系の物体側開口
数(N、 A、 )と倍率と、波長に依存する多層膜構
成物質の屈折率とから設計することができる。ここで得
られるのは、前記波長の光を多層膜鏡面に入射した時に
最大反射率を与える入射角であり、特に異なる2種類の
物質を同じ膜厚の周期で交互に積層した多層膜を想定し
た場合、フレネルの漸化式%式% P l 843)に準拠した方法により、前記入射角か
ら膜厚を最適化できる。この出願の実施例でIt、N、
A、 # 0.2の共心型に近いシュヴァルツシルド光
学系を使用し、反射鏡に被覆する多層膜を、2種類の物
質を同じ膜厚周期で交互に100層対積層したものを想
定し、設計している。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来より提案されている、共心型シュヴァルツシルド光
学系は、調整精度が厳しく、誤差が結像性能に大きく影
響する。以下、これについて説明する。第18図(A)
及びその曲率中心まわりの拡大図である第18図(B)
に示すように、身売学系に調整誤差が生じて、凹面鏡l
 (半径r1)が偏芯し、曲率中心がC5からC1’に
なったとする。即ち、光軸方向のズレに加えて光軸と垂
直な方向のズレを含むようになったとする。すると、光
軸はC1C2を通る直線ZからC2’C!を通る直線Z
′へと変わる。この時、C1′C!の距離d′とC1と
C2の距離dの差が偏芯の影響を示している。d’−d
は、凹面鏡lの偏芯角θを用いて、以下のように表わせ
る。
d’−d・1(tIIlus (θ/4) )’ + 
(d−rl 6si* (it/り )’ l ”’ 
−d= Id’ 1d−rl ・θsig (θ/ !
 ) + r 、 1 g + 11/l −d〜11
−d・「、・l+t+’ll”’−d”f+ [1(d
/r+)’−(d/rt)flJfl’l”’−d/r
+]d 特に、第19図に示すように、凹面鏡lが光軸と垂直な
方向だけにずれて、曲率中心が01からC,rになった
とする。曲率中心c、c、’間の距離をΔVとすると、
C1’Ctの距離d′とCC2の距離dの差は、以下の
ように表わせる。
d’−d=d/cosθ−d 2d”−(Δv)2 (Δv)!  d 以上に示したように偏心の影響は1/dに比例するので
、dが零或は殆ど零に近いような共心型のシュヴァルツ
シルド光学系は、調整が困難である。
又、2枚の鏡の曲率中心間距離dがd≧0即ち特公昭2
9−6775号公報においてd/rt=b≧0である場
合、凸面鏡2のふちで光線がケラれる恐れがある。
又、反射鏡製作の容易性を考えると、コーティングによ
り鏡面を非球面化することは、好ましくない。
更に、現在の多層膜積層技術を考慮すると、積層可能な
層数はある程度制限され、且つ膜厚等の制御精度からも
反射率は設計値より下回ると考えられる。同時に、光源
としてレーザプラズマなど一般の実験室で使用可能なも
のを想定すると、物点での光量が少ない。従って、像面
を明るくするためには、物体側開口数(N、A、)を大
きくしなければならない。
本発明は、上記問題点に鑑み、製作、調整が容易であっ
て、明るくて結像性能の優れたシュヴァルツシルド光学
系を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明によるシ
ュヴフルツシルド光学系は、中央に開口部を有する一枚
の大きな凹面鏡と、一枚の小さな凸面鏡とを光路上に対
向配置せしめて成るシュヴァルツシルド光学系において
、物体側開口数が0.24以上であり、物点Oから前記
凹面鏡の曲率中心C6までの距離W、と物点Oから前記
凸面鏡の曲率中心C2までの距離W2が、以下に示す関
係を満たすことを特徴としている。
0、064 f≦(Wl−W、)≦−0,04f但し、
rは光学系全体の焦点距離である。
以下、本発明の満たすべき条件について説明する。本発
明においては、倍率m=100倍程度まで使用できる光
学系を実現することを自損して種々の検討を行なった。
この程度の倍率の光学系では、使用される軟X線の波長
を100Å以下と想定すると、50nm程度の分解能を
持たせておくことが必要である。本発明における凸面鏡
、凹面鏡の配列は第1図に示した如〈従来例と全く同じ
であるから、上述のような観点からシュヴァルツシルド
光学系のより詳細な性質を検討することになる。
第1−図において、中央に開口を有する凹面鏡lは曲率
半径がR9であり、曲率中心C6は物点OからWlの距
離にある。凸面鏡2は曲率半径がR+であり、曲率中心
Ctは物点OからW、の距離にある。凹面鏡lの最も外
側を通る光線と光軸のなす角をUとすれば、物体側開口
数N、 A、はsin uで表わせる。又、物点Oから
像点■までの距離はTとする。更に、本光学系全体の焦
点距離はfとする。特に、本光学系の倍率mが高倍の時
(即ち、m>1の時)、Tはf=T/mで近似できる。
即ち、第2図に示した如く、光学系は点Pに位置すると
し、点Pと物点Oの距離をl9点Pと像点Iの距離をl
′とすると、以下の式が成り立つ。
となる。又、II’ =1m、T=l+1’より、とな
り、m>1の時、f=T/mとなる。
第1図に示した如くX線源6から放射されたX線を点I
にあるピンホール5を介して本光学系に入射せしめ、試
料3上の一点Oに集光させ、試料3を透過したX線を検
出器4で検出する。そして光軸に垂直な面(0面とする
)内で試料3を移動させることにより、試料3の所定の
領域を走査して試料の像を検出する。今、波動光学的な
回折や幾何光学的な収差のない無収差系で考えると、5
0nm程度の分解能を目標とした場合、本光学系の倍率
mをm=100とすると、ピンホール5の直径を5μm
位の大きさにすれば良い。尚、6はX線源である。無収
差系であれば、ピンホール5から放射された光の0面上
の輝度分布は幅50nmの矩形波となる。ところが、実
際は、ピンホール5中の一点から放射された光は、回折
や収差の影響で0面上である半値幅を有した点像強度分
布(PSF)となる。従って、点Iのピンホール5は、
0面上で第4図に示すような、点像強度分布を理想的な
無収差系の輝度分布でコンボリューションした形となる
即ち、点Iの0面上の点像強度分布をローレンツ分布で
近似して、 但し、Aは点像強度分布の半値幅 とする時、上式を幅50nmの矩形波でコンボリューシ
ョンすると以下のように表わせる。
・・・・(2) 上記のI (x)の半値幅が分解能であるので、分解能
50nmを実現するためには、点像強度分布の半値幅A
は、30nm程度であることが必要である。
従って、光学系の評価基準は、軸上点Iの0面上の点像
強度分布の半値幅が30nm以内であり、又軸外につい
ては、光学系の調整精度を考慮して、光軸(2軸)と垂
直な方向(y軸上)に0.3−の高さの点1’  (第
1図)を取り、点I′の0面上の点像強度分布の半値幅
が30nm以内であるとする。
又、光学系のN、 A、は従来用いたN、A、 = 0
.2の約5割増の明るさを保証するように、 N、A、 > 0.24 とするのが好ましい。
その場合、上記結像性能の評価基準を満たし、且つでき
るだけ非共心量d(=W、−W1)が負の方向に大きな
光学系は、本光学系の焦点距離をTとすると、以下に示
す関係にある。
0.0647< (Wt −W、 ) <−0,04f
第5図は後述する実施例のN、 A、と二つの鏡の曲率
中心間の距離W2−W、をN、 A、を縦軸とし且つW
t  W+を横軸とする座標面にプロットしたものを示
しており、これからN、A、 > 0.24の条件のも
とでの良い設計例は、図中W2−W、が−0,064f
〜−〇、 04 fの範囲にあることがわかる。
もし、上記下限を越えて非共心量dを負の方向に大きく
すると、結像性能は劣化し、もはやPSFの半値幅が3
0nm以内に収まらなくなる。又、上記上限を越えると
、非共心量が小さくなってしまい、鏡の偏芯の影響が大
きくなる。
ここで、高倍率の場合、焦点距離fはf=T/mで近似
できる。第5図で、上記の非共心量及びN、 A、の満
たす範囲を斜線で示した。
更に、上記条件を満たす光学系は、結像型顕微鏡の対物
レンズとしても有効である。又、倍率が低ければ分解能
も低くても良いから、本発明は当然低倍率の場合にも応
用できる。
〔実施例〕
以下、図示した実施例に基づき本発明の詳細な説明する
匙上皇施主 倍率 X100    N、A、0.25本実施例の寸
法は第1図において以下に示す通りである。
(単位lll11) 本実施例は第5図の白丸(a)の位置に位置する。第6
図(A)は、光軸上の点■の点像強度分布を示しており
、横軸のo、 o o o oが光軸の位置を示してい
る。点線はコンピュータにより計算した実際の点像強度
分布であり、実線は上記式(11に従って実際の点像強
度分布をローレンツ分布に近似したものである。実線で
示したローレンツ分布の半値幅は、12nmである。
第6図(B)は、y軸上0.3Mの高さの点!′の点像
強度分布を示している。点線、−点鎖線は夫々コンピュ
ータにより計算したX方向、y方向の点像強度分布を示
しており、点■の時と同様にローレンツ分布で点像強度
分布を近似すると、その半値幅は各々15nm程度であ
る。従って、軸上(点り、輪軸外点1’)ともに点像強
度分布の半値幅が評価基準の30nm以下である。
又、第6図(C)は、この実施例の光学系の空間周波数
レスポンスを縦軸をMTF(伝達関数)、横軸を空間周
波数として示したものである。そして、点線は本実施例
の無収差回折限界のMTFを示し、実線は光軸上(点■
)の実際のMTFを示している。又、破線及び大息鎖線
は各々軸外(点1’)のタンジエンシャル及びサジタル
方向のMTFを示している。
尚、波長は39.8 nmを使用した。
以下、同様に第2乃至第1O実施−例の仕様、軸上(点
、I)及び軸外(点I’)の点像強度分布をローレンツ
分布で近似した時の半値幅を示し、第7図乃至第15図
に各々のMTFを示す。
夏工亙豊1 倍率 X100  、  N、A、  0.24(軸外
) nm 筆」」0(剋 倍率 × N、 A。
0.24 (単位間) PSFの半値幅 (軸上) nm (軸外) nm 玉」」口4剋 倍率 × N、 A。
0.28 (軸外) 5na+ 玉」」口4剋 倍率 × N、 A。
0.28 (軸外) nm 箪」jC虹釣 倍率 N、 A。
0.3 (軸外) nm 箪二jl虻撚 倍率 × N、 A。
0.3 (軸外) nm 玉m阪剋 倍率 × N、 A。
0.32 (軸外) nm 箋」」C1嘲 倍率 × N、 A。
0.35 (軸外) Ot+m 星1」」も1撚 倍率 × 2 N、 A。
0.28 (単位!ll11) PSFの半値幅(軸上)13nm (軸外)25nm 尚、各実施例のN、 A、とW2  W lとの関係は
、第5図の白丸で示されている。又、波長は何れも39
、8 nmを使用した。
〔発明の効果〕
上述の如く、本発明によるシュヴァルツシルド光学系は
、製作、調整が容易であって、明るくて結像性能が優れ
ているという実用上重要な利点を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明光学系の基本構成を示す図、第2図は第
1図の光学系と物点と像点との位置関係を暗示した図、
第3図は第11図の光学系を走査型顕微鏡の対物レンズ
として使用した例を示す図、第4図は第3図の例におい
て点像強度分布の理想的な無収差系によるコンボリュー
ションを示す図、第5図は各実施例をN、 A、を縦軸
とし且つW2−W。 を横軸とする座標面にプロットしたものを示す図、第6
図(A)、(B)及び(C)は夫々第1実施例の点!9
点I′の点像強度分布及び0面上のMTFを示す図、第
7図乃至第15図は夫々第2乃至第10図実施例のMT
Fを示す図、第16図は従来例の基本構成を示す図、第
17図はシュヴァルツシルド光学系において球面収差が
小さくなる範囲を示す図、第18図(A)及び(B)は
夫々共心型シュヴフルツシルド光学系において偏芯した
状態を示す図及びその曲率中心まわりの拡大図、第19
図は共心型シュヴァルツシルド光学系の他の偏芯状態を
示す図である。 1・・・・凹面鏡、2・・・・凸面鏡、3・・・・試料
、4・・・・検出器、5・・・・ピンホール、6・・・
・X線源。 1−1図 才2図 1F4図 を蒐強鮪千 n’9vJrJtf 勧f フ、7不’Qs−Hン 史Wσヘイ弓−。 イ象a上のイnff1 x 1010000(n オ6図(C) 空間周波数 (サイフル/mm)  100 津8図 空r&lll@Ill/l (t(7L/mm)100 才10図 空1’M’1jlEl:119  (yイクル1mm)
×100 才12図 才13図 空M81111K  (’t<zx、7mm)×1りり 1P14図 1P15図 才16図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 中央に開口部を有する一枚の大きな凹面鏡と、一枚の小
    さな凸面鏡とを光路上に対向配置せしめて成るシュヴァ
    ルツシルド光学系において、物体側開口数が0.24以
    上であり、物点0から前記凹面鏡の曲率中心C_1まで
    の距離W_1と物点0から前記凸面鏡の曲率中心C_2
    までの距離W_2が、以下に示す関係を満たすことを特
    徴とするシュヴァルツシルド光学系。 −0.064@f@≦(W_2−W_1)≦−0.04
    @f@但し、@f@は光学系全体の焦点距離である。
JP1173797A 1989-07-05 1989-07-05 シュヴァルツシルド光学系 Pending JPH0339700A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009044751A1 (de) 2008-12-04 2010-06-10 Highyag Lasertechnologie Gmbh Spiegel-Objektiv für Laserstrahlung

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009044751A1 (de) 2008-12-04 2010-06-10 Highyag Lasertechnologie Gmbh Spiegel-Objektiv für Laserstrahlung
DE102009044751B4 (de) * 2008-12-04 2014-07-31 Highyag Lasertechnologie Gmbh Spiegel-Objektiv für Laserstrahlung

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