JPH0337988B2 - - Google Patents
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- JPH0337988B2 JPH0337988B2 JP58024846A JP2484683A JPH0337988B2 JP H0337988 B2 JPH0337988 B2 JP H0337988B2 JP 58024846 A JP58024846 A JP 58024846A JP 2484683 A JP2484683 A JP 2484683A JP H0337988 B2 JPH0337988 B2 JP H0337988B2
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- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 32
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 5
- -1 Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D15/00—Apparatus for treating processed material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/502—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of tape carriers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
本発明は可撓性支持体（以下「支持体」とい
う）の塵埃等表面付着物を除去する方法に関する
ものである。 なお、本発明で言う「支持体」とは、一般に、
その幅が数cm乃至数ｍ、長さが数10ｍ以上、厚さ
が数μｍ乃至数100μｍのポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−2.6−ナフタレート、セ
ルロースダイアセテート、セルローストリアセテ
ート、セルロースアセテートプロピオネート、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリアミド、等のプラスチ
ツクフイルムフイルム；紙にポリエチレン、ポリ
プロピレン、エチレンブテン共重合体、等の炭素
数が２〜10のα−ポリオレフイン類を塗布又はラ
ミネートした紙；アルミニウム、銅、錫、等の金
属箔；等から成る可撓性帯状物、あるいは該帯状
物を基材としてその表面に予備的な加工層を形成
せしめてある帯状物が含まれる。 更に、前述した支持体は、その用途に応じた塗
布液例えば写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面
保護、帯電防止あるいは滑性用塗布液、等がその
表面に塗布され、乾燥した後、所望する幅及び長
さに裁断されるものであり、その代表的な製品と
して各種写真フイルム、印画紙、磁気テープ、等
が挙げられる。 従来、支持体の表面付着物を除去する方法とし
ては、以下に掲げる方法がよく知られている。 すなわち、まず、支持体に適当な方法で保持さ
れた不織布或いはブレードを押しつけることによ
り表面付着物を不織布或いはブレードで捕捉する
という方法や又清浄度のよい空気を高速で帯状物
にぶつけて、付着物を該支持体表面からはく離さ
せ、近設された吸込み口に導いてゆくという方法
がある。これらはいずれも乾式であるが、これに
対して湿式除去方法としては、洗浄液槽の中に帯
状物を導入し、こゝで超音波振動により付着物を
はく離させる方法や、支持体に洗浄液を供給した
後に高速空気の吹き付けと吸引を行なう方法（特
公昭49−13020号公報参照）等が知られている。 これらの方法においては、各々問題点を含んで
いる。例えば、不織布或いはブレードで捕捉する
方法においては摩擦による支持体ののスリ傷発
生、静電気発生、及び不織布による場合には不織
布の繊維自身の脱落による支持体表面への付着故
障の発生がある。 高速空気吹き付け法は、数十ミクロン以上の比
較的大きな付着物の捕捉には効果があるが、小さ
い付着物、或いは付着力の強い付着物について
は、ほとんど効果が認められない。又、上述の湿
式除去法については、設備が非常に大きくなるこ
と及び高速で走行する帯状物の付着物除去に際し
ては、ミストの発生が激しく、このミストが周囲
の設備のみならず、付着物除去後の支持体に付着
してしまう効果を招いている。 本発明の目的はかゝる問題を解決出来る支持体
表面付着物の除去方法を提供することにある。 本発明のかゝる目的は、取り除きたい付着物を
その表面に有する可撓性支持体に対し、必要量の
溶剤を塗布した後溶剤が蒸発してしまう前に該支
持体面を以下の条件を有する少くとも２つのプレ
ートを押しつけることにより、前記溶剤の一部と
共に前記付着物を除去することを特徴とする付着
物除去方法によつて達せられる。 (1) 少なくとも２つのプレートが平行に近接し
て、ほゞ支持体の巾方向に沿つて並べられてい
る、 (2) 各々のプレートは支持体の巾方向には、支持
体の巾とほぼ同じ、もしくは長く又走行方向に
は短かい支持体に対峙する面を有する。 (3) 最上流側プレート以外の少なくとも一つのプ
レートにおいて、その支持体と対峙する面の上
流側端はその隣り合う面で鋭く切られたエツジ
状をなす、 (4) 最上流側プレート以外の少なくとも一つのプ
レートにおいて、支持体と対峙する面の上流側
端での前記支持体との間隙は、除去したい付着
物がこのすき間に入り込まない程度に十分に狭
い値になつている、及び (5) この間隙は、プレート通過後の支持体上に少
なくとも0.2μ以上の溶剤膜層を残しておくのに
必要な値になつている。 以下、本発明を詳細に説明する。 支持体付着物の除去能力はブレードで掻き取る
方法が最も大きいが、前述の様に乾いた状態では
非常に支持体にスリ傷を作り易く、又、静電気に
よりブレード尖端に付着物がこびりついて実用的
には不適当である。これに対し、本発明では溶剤
膜を形成した後掻き取るので、溶剤層の循滑作用
でスリ傷が出来にくゝ、又同時に、静電気の発生
も非常に低く抑えられる。且つ、溶剤層と一緒に
掻き取るので、ブレードで掻き取られた付着物
は、ブレード尖端にこびりつくことなく溶剤層中
に分散されて溶剤の流れと共にブレード尖端から
離れてゆく。これを実用化するためには本発明の
要点に記載した事項が必要となる。 以下第１図〜第３図に従つて本発明の詳細を説
明する。第１図に発明の全体図を示す。第１図に
おいて表面付着物１を有する可撓性支持体２は、
溶剤膜３が塗布（図示せず）された後、支持体搬
送装置によりローラー４，５を迂回させられる。
又、ローラー４とローラー５の間に、上流側プレ
ート６と下流側プレート７が平行に近接して、
ほゞ支持体の巾方向に沿つて並べられている。そ
して、未だ溶剤膜３が蒸発してしまう前に、上記
プレート６，７を支持体２に押しつけて支持体２
の表面から前記溶剤膜３の一部或いはほとんどを
除去するのであるが、この時、前記表面付着物１
もこの溶剤膜３と一緒に除去され、落下溶剤８の
中に分散されて液受け９から系外に排出される。
第２図にプレート部分を更に詳しく説明する。上
流側プレート６及び下流側プレート７は上述の様
に近接して並べられている。このうち付着物の除
去能力を備える必要があるのは、下流側プレート
７のみであるが、上流側プレート６をその直前に
追加設置することにより下記の利点を生ずる。 その利点とは、下流側プレート７の支持体に対
峙する面１０と支持体２の間隙が巾方向に均一に
なることである。下流側プレート７、１枚だけで
溶剤膜３を除去する場合には、すぐ上流側の迂回
ローラー４とプレート７の間での縦ジワ状ツレを
間隙精度上問題のないところまで小さくすること
は難しい。 これは磁気テープ用フイルムベース等の非常に
薄い支持体において特に難しい。この縦ジワ状ツ
レで間隙の不均一を生ずると、付着物の除去能力
にムラが出来ると同時に、場合によつては、部分
的にプレートと支持体の間隙が狭くなりすぎて、
その結果として支持体にスリ傷を発生することに
もなる。 それに対し、支持体に対して近接して設置され
た２枚のプレートを押しつけると、２枚のプレー
トの間では支持体は縦ジワ状ツレのない平面状を
呈する。従つて、下流側プレートの上流側端での
間隙は巾方向にムラのない均一な値を得ることが
出来る。 又巾方向の間隙ムラを効果的に除去するには、
上流側プレート６とそのすぐ下流側プレート７と
のすき間を20mm以下にするのが望ましい。但し、
一方の下流側プレート７の上流側端で掻き落され
た落下溶剤８がプレート尖端部からスムーズに流
れ落ちるのに十分なすき間をとつておく必要があ
る。この値はレイアウト、予備掻落しの有無等多
くの要因がある為、実験的に決めるのが妥当であ
る。 上流側プレート６及び下流側プレート７は、そ
れぞれ、支持体の巾方向には支持体の巾とほぼ同
じもしくは長く、又走行方向には短かい支持体と
対峙する面１０，１１を持つている。又この面１
０，１１は平面の他曲面或いは平面と平面、平面
と曲面の組み合わせでも差し支えない。上記プレ
ート６，７の長さを支持体２の巾より長くするこ
とは、支持体２の安定な走行の為のみならず、全
巾にわたる付着物の除去を行なうのに必要であ
る。 又、走行方向に長くする、つまり面１０，１１
の巾を広くすると、摩擦による張力損失も不必要
に大きくなる為、これは出来るだけ短い方がよ
い。但し、ナイフエツジでは支持体に押しつけた
時の面圧が大きくなり過ぎる為、ある程度の長さ
は必要である。このエツジ部の長さとして、通常
0.5〜20mm好ましくは１〜15mmの値をとらせるの
がよい。又、第２図において、下流側プレート７
の支持体２と対峙する面１１はその上流側端がそ
の隣り合う面で鋭く切られたエツジ状をなしてい
る。最終的に精度よく付着物を除去するには、先
に述べた様に下流側プレート７の上流側端と支持
体２との間隙が均一になつている事の他に、付着
物が支持体を押しのけてこの間隙に入り込めない
事が必要である。これを効果的に行なう為にプレ
ートの支持体と対峙する面１１の上流側端をその
隣り合う面で鋭く切つてエツジ状にする。これに
より、付着物１は前記の隣り合う面にぶつかつた
後落下溶剤８と共に落下してゆく。 これを更に効果的に行なうには下流側プレート
７の支持体と対峙する面１１とその上流側の隣り
合う面のなす角αを120°以下にすることが望まし
い。これ以上では付着物が間隙の中に割り込み易
くなる。又、前記プレート面１１の上流側端と支
持体の間隙を小さくすることになり、付着物１を
この上流側端でせき止めるのであるから許される
間隙の大きさは当然取り除きたい付着物の大きさ
で変わつてくるが、狭くしすぎると支持体２にス
リ傷を発生する。これを避けるには、下流側プレ
ート７通過後の支持体２上に少なくとも0.2μの溶
剤膜層を残しておくことが必要であり、又この膜
厚を得るに必要な間隙を確保しておく必要があ
る。 第３図は本発明の好ましい態様を示すもので、
上流側プレート６の支持体２に対峙する面１０の
上流側端も又、シヤープなエツジ状をしている。
そして、支持体２は上流側プレート６の支持体２
に対峙する面１０に対し、ほゞ接線方向に導かれ
る。この時、付着物１は溶剤膜３と共に、上流側
プレート６下流側プレート７の２ケ所で掻き落さ
れる。この為、付着物の除去精度は第２図の例よ
りもよくなり、特に、問題となる大きな付着物の
捕集効率が上がる。 又、プレート６及びプレート７の支持体２に対
峙する面１１の表面は出来るだけ表面粗さが小さ
く、又、支持体２の巾方向への真直度も出来るだ
け良い方が望ましい。更に耐久性についても考慮
すると、プレート６及びプレート７の先端部の材
質は金属、或いはセラミツク等が望ましく、更に
は超硬合金、セラミツク等のかなり硬いものが好
ましい。 又、この工程に使用する溶剤とは基本的には支
持体上に安定に液膜を形成するものであればよ
く、付着物を溶解する能力は必要ない。但し、支
持体表面に品質上の支障をきたさない溶剤を選ぶ
のは当然必要である。掻落し溶剤を循環使用する
かしないか或いは上述工程の後で加熱蒸発を行な
うか行なわないかは、適宜決めればよい。 以上の方法により従来技術のもつ欠点を取り除
く事が出来、支持体表面に品質上の問題を生ずる
事なく効果的な付着物除去を行なうことが出来
る。 ＜実施例＞ 以下に本発明を実施例にて更に具体的に説明す
る。プレート部分の概略を第４図に示すが、図か
らもわかる様に上流側プレート６の面１０は曲率
半径R1＝10ミリメートルの曲面をもち、上流側
端におけるエツジ角度αは110°である。又、下流
側プレート７の面１１は曲率半径R2＝５ミリメ
ートルの曲面をもち、その上流側端におけるエツ
ジ角度αは90°である。又、支持体は各プレート
面のほゞ接線方向に導かれる様に配置した。 他の条件は以下の通りである。 支持体：材質ポリエチレンテレフタレート 厚味20μ 巾 500mm 溶 剤：キシロール 磁気テープの塗布工程において、磁性液を塗布
する前に上述の付着物除去装置を設け、走行速度
80ｍ／分で走行している支持体の片面にロールコ
ーターにてキシロールを塗布した後上記の付着物
除去装置部を通過させ、引き続いて長さ５ｍの溶
剤熱風蒸発部で溶剤を完全に除去した。その後、
第５図に示す様な塗布装置２１を用い特開昭57−
84771号公報に記載の方法にて磁性液２２を液状
で上記支持体２３に10μ，20μ，30μの３水準に塗
布し、その時の塗布ヌケの発生状況を調べた。
こゝでいう塗布ヌケとはピンホール状及びスジ状
の完全な塗布ヌケの他、規定厚味の５％以下の塗
布厚味を持つ薄塗り部分も含んでいる。スジ状の
塗布ヌケについては約100ｍ連続して発生したら、
その時点で磁性層塗布のみ一旦中止した後再塗り
付けを行ない良好な状態に戻した後、調査を続行
した。又塗布ヌケ部分の検出は巻取る前に欠陥検
出器を用いて連続的に行ない、発生頻度をピンホ
ールとスジ状のものに分けて把握した。 比較として支持体の付着物除去を行なわずに磁
性層を上記と同一条件で塗布したものについて、
その発生頻度を調査した。尚、上記の実験に使用
した磁性塗布液は以下のものである。 第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れ
て十分に混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エ
ポキシ当量500）を30重量部を加えて均一に混合
分散させて磁性塗布液とした。
う）の塵埃等表面付着物を除去する方法に関する
ものである。 なお、本発明で言う「支持体」とは、一般に、
その幅が数cm乃至数ｍ、長さが数10ｍ以上、厚さ
が数μｍ乃至数100μｍのポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−2.6−ナフタレート、セ
ルロースダイアセテート、セルローストリアセテ
ート、セルロースアセテートプロピオネート、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリアミド、等のプラスチ
ツクフイルムフイルム；紙にポリエチレン、ポリ
プロピレン、エチレンブテン共重合体、等の炭素
数が２〜10のα−ポリオレフイン類を塗布又はラ
ミネートした紙；アルミニウム、銅、錫、等の金
属箔；等から成る可撓性帯状物、あるいは該帯状
物を基材としてその表面に予備的な加工層を形成
せしめてある帯状物が含まれる。 更に、前述した支持体は、その用途に応じた塗
布液例えば写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面
保護、帯電防止あるいは滑性用塗布液、等がその
表面に塗布され、乾燥した後、所望する幅及び長
さに裁断されるものであり、その代表的な製品と
して各種写真フイルム、印画紙、磁気テープ、等
が挙げられる。 従来、支持体の表面付着物を除去する方法とし
ては、以下に掲げる方法がよく知られている。 すなわち、まず、支持体に適当な方法で保持さ
れた不織布或いはブレードを押しつけることによ
り表面付着物を不織布或いはブレードで捕捉する
という方法や又清浄度のよい空気を高速で帯状物
にぶつけて、付着物を該支持体表面からはく離さ
せ、近設された吸込み口に導いてゆくという方法
がある。これらはいずれも乾式であるが、これに
対して湿式除去方法としては、洗浄液槽の中に帯
状物を導入し、こゝで超音波振動により付着物を
はく離させる方法や、支持体に洗浄液を供給した
後に高速空気の吹き付けと吸引を行なう方法（特
公昭49−13020号公報参照）等が知られている。 これらの方法においては、各々問題点を含んで
いる。例えば、不織布或いはブレードで捕捉する
方法においては摩擦による支持体ののスリ傷発
生、静電気発生、及び不織布による場合には不織
布の繊維自身の脱落による支持体表面への付着故
障の発生がある。 高速空気吹き付け法は、数十ミクロン以上の比
較的大きな付着物の捕捉には効果があるが、小さ
い付着物、或いは付着力の強い付着物について
は、ほとんど効果が認められない。又、上述の湿
式除去法については、設備が非常に大きくなるこ
と及び高速で走行する帯状物の付着物除去に際し
ては、ミストの発生が激しく、このミストが周囲
の設備のみならず、付着物除去後の支持体に付着
してしまう効果を招いている。 本発明の目的はかゝる問題を解決出来る支持体
表面付着物の除去方法を提供することにある。 本発明のかゝる目的は、取り除きたい付着物を
その表面に有する可撓性支持体に対し、必要量の
溶剤を塗布した後溶剤が蒸発してしまう前に該支
持体面を以下の条件を有する少くとも２つのプレ
ートを押しつけることにより、前記溶剤の一部と
共に前記付着物を除去することを特徴とする付着
物除去方法によつて達せられる。 (1) 少なくとも２つのプレートが平行に近接し
て、ほゞ支持体の巾方向に沿つて並べられてい
る、 (2) 各々のプレートは支持体の巾方向には、支持
体の巾とほぼ同じ、もしくは長く又走行方向に
は短かい支持体に対峙する面を有する。 (3) 最上流側プレート以外の少なくとも一つのプ
レートにおいて、その支持体と対峙する面の上
流側端はその隣り合う面で鋭く切られたエツジ
状をなす、 (4) 最上流側プレート以外の少なくとも一つのプ
レートにおいて、支持体と対峙する面の上流側
端での前記支持体との間隙は、除去したい付着
物がこのすき間に入り込まない程度に十分に狭
い値になつている、及び (5) この間隙は、プレート通過後の支持体上に少
なくとも0.2μ以上の溶剤膜層を残しておくのに
必要な値になつている。 以下、本発明を詳細に説明する。 支持体付着物の除去能力はブレードで掻き取る
方法が最も大きいが、前述の様に乾いた状態では
非常に支持体にスリ傷を作り易く、又、静電気に
よりブレード尖端に付着物がこびりついて実用的
には不適当である。これに対し、本発明では溶剤
膜を形成した後掻き取るので、溶剤層の循滑作用
でスリ傷が出来にくゝ、又同時に、静電気の発生
も非常に低く抑えられる。且つ、溶剤層と一緒に
掻き取るので、ブレードで掻き取られた付着物
は、ブレード尖端にこびりつくことなく溶剤層中
に分散されて溶剤の流れと共にブレード尖端から
離れてゆく。これを実用化するためには本発明の
要点に記載した事項が必要となる。 以下第１図〜第３図に従つて本発明の詳細を説
明する。第１図に発明の全体図を示す。第１図に
おいて表面付着物１を有する可撓性支持体２は、
溶剤膜３が塗布（図示せず）された後、支持体搬
送装置によりローラー４，５を迂回させられる。
又、ローラー４とローラー５の間に、上流側プレ
ート６と下流側プレート７が平行に近接して、
ほゞ支持体の巾方向に沿つて並べられている。そ
して、未だ溶剤膜３が蒸発してしまう前に、上記
プレート６，７を支持体２に押しつけて支持体２
の表面から前記溶剤膜３の一部或いはほとんどを
除去するのであるが、この時、前記表面付着物１
もこの溶剤膜３と一緒に除去され、落下溶剤８の
中に分散されて液受け９から系外に排出される。
第２図にプレート部分を更に詳しく説明する。上
流側プレート６及び下流側プレート７は上述の様
に近接して並べられている。このうち付着物の除
去能力を備える必要があるのは、下流側プレート
７のみであるが、上流側プレート６をその直前に
追加設置することにより下記の利点を生ずる。 その利点とは、下流側プレート７の支持体に対
峙する面１０と支持体２の間隙が巾方向に均一に
なることである。下流側プレート７、１枚だけで
溶剤膜３を除去する場合には、すぐ上流側の迂回
ローラー４とプレート７の間での縦ジワ状ツレを
間隙精度上問題のないところまで小さくすること
は難しい。 これは磁気テープ用フイルムベース等の非常に
薄い支持体において特に難しい。この縦ジワ状ツ
レで間隙の不均一を生ずると、付着物の除去能力
にムラが出来ると同時に、場合によつては、部分
的にプレートと支持体の間隙が狭くなりすぎて、
その結果として支持体にスリ傷を発生することに
もなる。 それに対し、支持体に対して近接して設置され
た２枚のプレートを押しつけると、２枚のプレー
トの間では支持体は縦ジワ状ツレのない平面状を
呈する。従つて、下流側プレートの上流側端での
間隙は巾方向にムラのない均一な値を得ることが
出来る。 又巾方向の間隙ムラを効果的に除去するには、
上流側プレート６とそのすぐ下流側プレート７と
のすき間を20mm以下にするのが望ましい。但し、
一方の下流側プレート７の上流側端で掻き落され
た落下溶剤８がプレート尖端部からスムーズに流
れ落ちるのに十分なすき間をとつておく必要があ
る。この値はレイアウト、予備掻落しの有無等多
くの要因がある為、実験的に決めるのが妥当であ
る。 上流側プレート６及び下流側プレート７は、そ
れぞれ、支持体の巾方向には支持体の巾とほぼ同
じもしくは長く、又走行方向には短かい支持体と
対峙する面１０，１１を持つている。又この面１
０，１１は平面の他曲面或いは平面と平面、平面
と曲面の組み合わせでも差し支えない。上記プレ
ート６，７の長さを支持体２の巾より長くするこ
とは、支持体２の安定な走行の為のみならず、全
巾にわたる付着物の除去を行なうのに必要であ
る。 又、走行方向に長くする、つまり面１０，１１
の巾を広くすると、摩擦による張力損失も不必要
に大きくなる為、これは出来るだけ短い方がよ
い。但し、ナイフエツジでは支持体に押しつけた
時の面圧が大きくなり過ぎる為、ある程度の長さ
は必要である。このエツジ部の長さとして、通常
0.5〜20mm好ましくは１〜15mmの値をとらせるの
がよい。又、第２図において、下流側プレート７
の支持体２と対峙する面１１はその上流側端がそ
の隣り合う面で鋭く切られたエツジ状をなしてい
る。最終的に精度よく付着物を除去するには、先
に述べた様に下流側プレート７の上流側端と支持
体２との間隙が均一になつている事の他に、付着
物が支持体を押しのけてこの間隙に入り込めない
事が必要である。これを効果的に行なう為にプレ
ートの支持体と対峙する面１１の上流側端をその
隣り合う面で鋭く切つてエツジ状にする。これに
より、付着物１は前記の隣り合う面にぶつかつた
後落下溶剤８と共に落下してゆく。 これを更に効果的に行なうには下流側プレート
７の支持体と対峙する面１１とその上流側の隣り
合う面のなす角αを120°以下にすることが望まし
い。これ以上では付着物が間隙の中に割り込み易
くなる。又、前記プレート面１１の上流側端と支
持体の間隙を小さくすることになり、付着物１を
この上流側端でせき止めるのであるから許される
間隙の大きさは当然取り除きたい付着物の大きさ
で変わつてくるが、狭くしすぎると支持体２にス
リ傷を発生する。これを避けるには、下流側プレ
ート７通過後の支持体２上に少なくとも0.2μの溶
剤膜層を残しておくことが必要であり、又この膜
厚を得るに必要な間隙を確保しておく必要があ
る。 第３図は本発明の好ましい態様を示すもので、
上流側プレート６の支持体２に対峙する面１０の
上流側端も又、シヤープなエツジ状をしている。
そして、支持体２は上流側プレート６の支持体２
に対峙する面１０に対し、ほゞ接線方向に導かれ
る。この時、付着物１は溶剤膜３と共に、上流側
プレート６下流側プレート７の２ケ所で掻き落さ
れる。この為、付着物の除去精度は第２図の例よ
りもよくなり、特に、問題となる大きな付着物の
捕集効率が上がる。 又、プレート６及びプレート７の支持体２に対
峙する面１１の表面は出来るだけ表面粗さが小さ
く、又、支持体２の巾方向への真直度も出来るだ
け良い方が望ましい。更に耐久性についても考慮
すると、プレート６及びプレート７の先端部の材
質は金属、或いはセラミツク等が望ましく、更に
は超硬合金、セラミツク等のかなり硬いものが好
ましい。 又、この工程に使用する溶剤とは基本的には支
持体上に安定に液膜を形成するものであればよ
く、付着物を溶解する能力は必要ない。但し、支
持体表面に品質上の支障をきたさない溶剤を選ぶ
のは当然必要である。掻落し溶剤を循環使用する
かしないか或いは上述工程の後で加熱蒸発を行な
うか行なわないかは、適宜決めればよい。 以上の方法により従来技術のもつ欠点を取り除
く事が出来、支持体表面に品質上の問題を生ずる
事なく効果的な付着物除去を行なうことが出来
る。 ＜実施例＞ 以下に本発明を実施例にて更に具体的に説明す
る。プレート部分の概略を第４図に示すが、図か
らもわかる様に上流側プレート６の面１０は曲率
半径R1＝10ミリメートルの曲面をもち、上流側
端におけるエツジ角度αは110°である。又、下流
側プレート７の面１１は曲率半径R2＝５ミリメ
ートルの曲面をもち、その上流側端におけるエツ
ジ角度αは90°である。又、支持体は各プレート
面のほゞ接線方向に導かれる様に配置した。 他の条件は以下の通りである。 支持体：材質ポリエチレンテレフタレート 厚味20μ 巾 500mm 溶 剤：キシロール 磁気テープの塗布工程において、磁性液を塗布
する前に上述の付着物除去装置を設け、走行速度
80ｍ／分で走行している支持体の片面にロールコ
ーターにてキシロールを塗布した後上記の付着物
除去装置部を通過させ、引き続いて長さ５ｍの溶
剤熱風蒸発部で溶剤を完全に除去した。その後、
第５図に示す様な塗布装置２１を用い特開昭57−
84771号公報に記載の方法にて磁性液２２を液状
で上記支持体２３に10μ，20μ，30μの３水準に塗
布し、その時の塗布ヌケの発生状況を調べた。
こゝでいう塗布ヌケとはピンホール状及びスジ状
の完全な塗布ヌケの他、規定厚味の５％以下の塗
布厚味を持つ薄塗り部分も含んでいる。スジ状の
塗布ヌケについては約100ｍ連続して発生したら、
その時点で磁性層塗布のみ一旦中止した後再塗り
付けを行ない良好な状態に戻した後、調査を続行
した。又塗布ヌケ部分の検出は巻取る前に欠陥検
出器を用いて連続的に行ない、発生頻度をピンホ
ールとスジ状のものに分けて把握した。 比較として支持体の付着物除去を行なわずに磁
性層を上記と同一条件で塗布したものについて、
その発生頻度を調査した。尚、上記の実験に使用
した磁性塗布液は以下のものである。 第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れ
て十分に混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エ
ポキシ当量500）を30重量部を加えて均一に混合
分散させて磁性塗布液とした。
【表】
こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を島津
製作所製の島津レオメータRM−１により測定し
たところ剪断速度が10sec-1においては8poise、
又500sec-1においては1poiseを示した。 各水準共、長さ4000ｍの原反ベース10本につい
てデータを採つた。その結果を第２表に示す。第
２表の数値は原反ベース１本当りの平均発生度数
を表わしている。
製作所製の島津レオメータRM−１により測定し
たところ剪断速度が10sec-1においては8poise、
又500sec-1においては1poiseを示した。 各水準共、長さ4000ｍの原反ベース10本につい
てデータを採つた。その結果を第２表に示す。第
２表の数値は原反ベース１本当りの平均発生度数
を表わしている。
第１図は本発明の実施態様を示す全体図、第２
図は第１図における本発明の要部の詳細側断面
図、第３図は本発明要部の変更例を示す詳細側断
面図、第４図は実施例に使用した要部の概寸を示
す断面図、第５図は実施例に用いた磁性層塗布装
置の略図である。 １……表面付着物、２……支持体、３……溶剤
膜、４……上流側迂回ローラー、５……下流側迂
回ローラー、６……上流側プレート、７……下流
側プレート、８……落下溶剤、９……液受け、１
０……上流側プレートの面、１１……下流側プレ
ートの面、２１……塗布装置、２２……磁性塗布
液、２３……支持体。
図は第１図における本発明の要部の詳細側断面
図、第３図は本発明要部の変更例を示す詳細側断
面図、第４図は実施例に使用した要部の概寸を示
す断面図、第５図は実施例に用いた磁性層塗布装
置の略図である。 １……表面付着物、２……支持体、３……溶剤
膜、４……上流側迂回ローラー、５……下流側迂
回ローラー、６……上流側プレート、７……下流
側プレート、８……落下溶剤、９……液受け、１
０……上流側プレートの面、１１……下流側プレ
ートの面、２１……塗布装置、２２……磁性塗布
液、２３……支持体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 取り除きたい付着物をその表面に有する可撓
性支持体に必要量の溶剤を塗布した後、溶剤が蒸
発してしまう前に該支持体面に以下の条件を有す
る少くとも２つのプレートを押しつけることによ
り前記溶剤の一部と共に前記付着物を除去するこ
とを特徴とする付着物除去方法、 (1) 少なくとも２つのプレートが平行に近接し
て、ほゞ支持体の巾方向に沿つて並べられてい
る、 (2) 各々のプレートは支持体の巾方向には、支持
体の巾とほぼ同じ、もしくは長く又走行方向に
は短かい支持体に対峙する面を有する。 (3) 最上流側プレート以外の少なくとも一つのプ
レートにおいて、その支持体と対峙する面の上
流側端はその隣り合う面で鋭く切られたエツジ
状をなす、 (4) 最上流側プレート以外の少なくとも一つのプ
レートにおいて、支持体と対峙する面の上流側
端での前記支持体との間隙は、除去したい付着
物がこのすき間に入り込まない程度に十分に狭
い値になつている、 及び (5) この間隙は、プレート通過後の支持体上に少
なくとも0.2μ以上の溶剤膜層を残しておくのに
必要な値になつている。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024846A JPS59150571A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | 可撓性支持体の表面付着物除去方法 |
| DE3405814A DE3405814C2 (de) | 1983-02-18 | 1984-02-17 | Vorrichtung zur Entfernung von Fremdmaterial von einem flexiblen Träger |
| US06/581,019 US4577362A (en) | 1983-02-18 | 1984-02-17 | Apparatus for removing foreign matter from flexible support |
| NL8400515A NL191882C (nl) | 1983-02-18 | 1984-02-17 | Inrichting voor het verwijderen van vreemde bestanddelen van een flexibele drager. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024846A JPS59150571A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | 可撓性支持体の表面付着物除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59150571A JPS59150571A (ja) | 1984-08-28 |
| JPH0337988B2 true JPH0337988B2 (ja) | 1991-06-07 |
Family
ID=12149576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58024846A Granted JPS59150571A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | 可撓性支持体の表面付着物除去方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4577362A (ja) |
| JP (1) | JPS59150571A (ja) |
| DE (1) | DE3405814C2 (ja) |
| NL (1) | NL191882C (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4944808A (en) * | 1985-09-12 | 1990-07-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of removing particles from a flexible support, and apparatus for practicing same |
| DE68906416T2 (de) * | 1988-02-17 | 1993-09-09 | Konishiroku Photo Ind | Beschichtungsapparat. |
| US5119757A (en) * | 1989-04-06 | 1992-06-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Device for applying liquid to moving web |
| US5435847A (en) * | 1989-09-01 | 1995-07-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus |
| JP3140679B2 (ja) * | 1996-04-02 | 2001-03-05 | 三ツ星ベルト株式会社 | Ｖリブドベルト |
| JP3773145B2 (ja) * | 1997-09-04 | 2006-05-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ウェブ洗浄及び除電装置 |
| JP2000057565A (ja) | 1998-08-11 | 2000-02-25 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び装置 |
| JP2000157910A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
| JP3991180B2 (ja) | 1999-07-29 | 2007-10-17 | 富士フイルム株式会社 | ウエブの除塵装置 |
| US6812982B2 (en) * | 2000-05-12 | 2004-11-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical compensatory sheet producing method and apparatus, thermal treating method and apparatus, and dust removing method and apparatus |
| US6818062B2 (en) * | 2001-10-29 | 2004-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and apparatus |
| JP4213989B2 (ja) | 2003-05-08 | 2009-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 防眩性フィルムの製造方法 |
| US6797072B1 (en) * | 2003-09-17 | 2004-09-28 | Charles A. Richardson | Process for restoring magnetic recording tape damaged by “sticky shed” syndrome |
| US7291362B2 (en) * | 2004-01-20 | 2007-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Method and apparatus for controlling coating width |
| JP5331537B2 (ja) | 2008-03-28 | 2013-10-30 | 富士フイルム株式会社 | 透明支持体、光学フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
| JP5600976B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2014-10-08 | 東ソー株式会社 | クロロプレン重合体フィルムの製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US399544A (en) * | 1889-03-12 | manahan | ||
| US2243844A (en) * | 1940-01-18 | 1941-06-03 | Rosedale Knitting Company | Apparatus for conditioning thread |
| US2529699A (en) * | 1947-09-12 | 1950-11-14 | Uarco Inc | Apparatus for coating paper with carbon wax |
| JPS4913020B1 (ja) * | 1969-11-18 | 1974-03-28 | ||
| DE2843449A1 (de) * | 1978-10-05 | 1980-04-10 | Juergen Volkmann | Verfahren und vorrichtung zum entfernen oder dosiertem vermindern adhaesiver fluessigkeitsfilme auf harten oberflaechen |
| US4331993A (en) * | 1980-06-24 | 1982-05-25 | Newell Research Corporation | Web cleaning apparatus |
-
1983
- 1983-02-18 JP JP58024846A patent/JPS59150571A/ja active Granted
-
1984
- 1984-02-17 DE DE3405814A patent/DE3405814C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1984-02-17 NL NL8400515A patent/NL191882C/xx not_active IP Right Cessation
- 1984-02-17 US US06/581,019 patent/US4577362A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59150571A (ja) | 1984-08-28 |
| DE3405814A1 (de) | 1984-08-23 |
| NL8400515A (nl) | 1984-09-17 |
| DE3405814C2 (de) | 1994-06-01 |
| NL191882B (nl) | 1996-06-03 |
| US4577362A (en) | 1986-03-25 |
| NL191882C (nl) | 1996-10-04 |
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